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トレンドAI投稿と注目リサーチのキャッチアップ - ページ1589

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  • Illustration of a cloud security breach where a compromised identity spreads across Microsoft 365 and Azure services

    Storm‑2949が示したクラウド侵害の新常識:1つのアカウント乗っ取りからMicrosoft 365とAzure全体へ

    6 か月前12 ソース
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    Storm‑2949は、1つのアカウント侵害からMicrosoft 365とAzure環境全体へアクセスを拡大したクラウド攻撃で、Self‑Service Password ResetやMicrosoft Graph APIが悪用された。[4]

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  • Illustration of Spotify outage affecting music streaming service

    2026年5月のSpotify障害:5月18日のトラブルは、5月12日の大規模障害と何が違ったのか

    6 か月前21 ソース
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    2026年5月18日、Spotifyで再び障害報告が発生したが、数時間続いた5月12日の大規模障害より規模は小さかった。

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  • Illustration representing TSMC’s role in the global AI semiconductor supply chain and rising analyst price targets

    AIブームでTSMCにさらなる上昇余地?アナリストが目標株価を引き上げる理由

    6 か月前21 ソース
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    TSMCは2026年Q1に売上359億ドル(前年比+40.6%)、粗利益率66.2%と過去最高の業績を記録し、通期売上成長率もドルベースで30%以上を見込むとガイダンスを引き上げた。[17][20]

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  • Concept illustration of a silicon quantum‑dot qubit device patterned with advanced lithography

    imecがHigh‑NA EUVで量子ドット量子ビットを実証 シリコン量子コンピュータの量産に近づく可能性

    6 か月前20 ソース
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    imecはASMLのHigh‑NA EUVリソグラフィーを使った量子ドット量子ビットデバイスの世界初の実証を発表した。[1]

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  • Editorial illustration representing AMD CEO Lisa Su’s China visit and AI strategy announcement

    AMDのリサ・スーCEOが中国訪問 AI「2030年に50億人が毎日利用」と予測、中国市場への継続投資も強調

    6 か月前16 ソース
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    AMDのリサ・スーCEOは2026年の中国訪問で、AIが2030年までに世界で1日50億人に利用される可能性があると予測した。

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  • Concept illustration of Asian semiconductor supply chain and AI investment theme

    アジアAI半導体ブームに乗る:Kuark Capital、4億ドル規模ヘッジファンドを立ち上げ

    6 か月前15 ソース
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    香港のKuark Capitalは、AIと半導体関連銘柄に投資するアジア特化ヘッジファンドの立ち上げ前に少なくとも4億ドルを調達した。[6][3]

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  • Concept illustration of Dell partner ecosystem modernization with AI-driven sales platform and cloud infrastructure

    Dell、AI時代に向けパートナープログラムを刷新 インセンティブ強化とAIチャネル基盤を発表

    6 か月前16 ソース
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    DellはDell Technologies World 2026でパートナープログラムを大幅刷新し、2026年8月から新インセンティブ制度とAIパートナープラットフォームを開始予定。

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  • Illustration of ASML High‑NA EUV lithography machine used in advanced semiconductor manufacturing

    ASMLのHigh‑NA EUVとは?350億円級装置が半導体を“オングストローム時代”へ

    6 か月前16 ソース
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    High‑NA EUVは数値開口を0.33から0.55へ引き上げ、より微細なパターン形成と工程削減を可能にする次世代露光技術。[2][7]

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  • Illustration of ASML High‑NA EUV lithography machine printing advanced semiconductor patterns

    ASMLの「High‑NA EUV」とは?350億円級の半導体装置が切り開くサブ2nm時代

    6 か月前27 ソース
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    ASMLのHigh‑NA EUVは数値開口(NA)を0.33から0.55へ拡大し、単一露光で約13nmから約8nmへ解像度を改善。サブ2nmチップ製造の重要技術とされる。[51][49]

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  • Conceptual illustration of SAP autonomous enterprise AI agents interacting with business workflows and cloud platforms

    SAPの「Autonomous Enterprise」戦略とは?Joule Studio 2.0に投資家が注目する理由

    6 か月前21 ソース
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    SAPはSapphire 2026で「Autonomous Enterprise」戦略を発表し、JouleとJoule Studio 2.0を中心にAIエージェントをERP業務へ組み込む構想を示した。

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  • Editorial illustration representing Alibaba’s Qwen3.7 AI models and the global AI competition

    アリババの静かなQwen3.7公開が示すAI戦略の転換

    6 か月前17 ソース
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    Qwen3.7‑Max‑PreviewはLM Arenaのテキスト能力で世界13位、Qwen3.7‑Plus‑Previewはビジョン能力で16位となり、当時の中国系AIモデルの中で最上位の評価を獲得した。[2][19]

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  • Large AI data center facility representing the infrastructure behind cloud computing and artificial intelligence

    AIデータセンターに広がる住民反発の理由とは

    6 か月前19 ソース
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    AIインフラ拡張に伴い、データセンター建設に対する地域住民の反発が世界で増加している。理由は騒音、電力・水使用、環境影響などの地元負担が大きい一方、雇用などの恩恵が限られるため。

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