imec впервые продемонстрировала устройство кубитов на квантовых точках, изготовленное с использованием High‑NA EUV‑литографии ASML — самой передовой технологии фотолитографии в индустрии.
Литография High‑NA EUV повышает числовую апертуру с 0,33 до 0,55, что позволяет печатать более мелкие элементы на кремниевых пластинах и сокращать количество этапов паттернинга.
High‑NA EUV увеличивает числовую апертуру литографии с 0,33 до 0,55, улучшая разрешение примерно с 13 нм до около 8 нм и снижая необходимость сложного мультипаттернинга.
Deutsche Bank повысил целевые цены для ASML (€1 600), STMicroelectronics (€52) и BE Semiconductor Industries (€125), сигнализируя о более позитивном взгляде на сектор чипов в Европе.
Сценарии Bank of America для ASML расходятся резко: около €1,8 млрд потенциальных заказов без чипов iPhone и до €4,6 млрд, если iPhone войдёт в периметр [31][32].
Последние сделки ASML стоит рассматривать как часть программы обратного выкупа до €12 млрд, рассчитанной до 31 декабря 2028 года [1].