不用光刻機也能造晶片：中國璞璘科技奈米壓印技術突破，成功量產8吋光子晶圓

在半導體製造的世界裡，一台先進光刻機的價格動輒數億美元，且受限於嚴格的出口管制。如今，一家來自杭州的新創公司，找到了一條截然不同的路。

2026年6月5日，璞璘科技（Prinano） 宣布，他們與客戶深圳力策科技合作，已成功驗證了8吋光子晶片晶圓的可規模化量產。最關鍵的是，他們使用的不是傳統的光學微影（也就是光刻）技術，而是一種名為「奈米壓印微影（Nanoimprint Lithography, NIL）」的技術，完全繞過了由荷蘭ASML公司主導的深紫外光（DUV）光刻設備，並將晶片製造成本壓縮至傳統DUV方案的十分之一 。

這項成就，不僅是中國半導體自主化野心的重要里程碑，也為奈米壓印技術作為特定晶片領域的商業化替代方案，邁出了關鍵一步。

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技術原理：用「奈米級蓋章」取代「複雜光學秀」

傳統DUV光刻技術的運作原理，就像一台極其精密的高階投影機，將光線穿過刻有電路圖案的光罩，投射到塗有感光材料的矽晶圓上。這個過程需要一系列昂貴且複雜的元件，例如準分子雷射、超高精度投影光學鏡頭和真空紫外光照明系統，而這些正是目前受到嚴格出口管制的核心設備 。

璞璘科技使用其專利的 PL-AS 真空氣壓式晶圓級NIL設備，其原理則從根本上簡單得多：

• 機械式壓印：將刻有奈米級電路圖案的石英複合模板，直接壓入晶圓上預先塗佈的特殊壓印膠層。這就像蓋印章一樣，但解析度達到奈米等級，透過一次機械動作就能完成圖案轉移。
• 徹底消除成本動因：PL-AS系統的機械結構遠比DUV掃描機簡單，它不需要複雜的準分子雷射光源、超高精度的投影光學系統和真空紫外光照明系統，因此設備本身的建置與維護成本大幅降低 。
• 壽命更長的耗材：製程中使用的石英複合模板，其使用壽命遠比傳統DUV光罩長，這進一步降低了長期攤提下的每片晶圓生產成本 。
• 客製化的雙層壓印膠系統：為了在整片8吋晶圓上達成奈米級的均勻度，璞璘開發了專利的雙層壓印膠材料體系和真空壓力氣墊製程。這項創新是實現光子晶片所需解析度下，可重複性圖案化的重要關鍵 。