不用光刻機也能造晶片：中國璞璘科技奈米壓印技術突破，成功量產8吋光子晶圓

璞璘科技使用其專利的 PL-AS 真空氣壓式晶圓級NIL設備，其原理則從根本上簡單得多：

• 機械式壓印：將刻有奈米級電路圖案的石英複合模板，直接壓入晶圓上預先塗佈的特殊壓印膠層。這就像蓋印章一樣，但解析度達到奈米等級，透過一次機械動作就能完成圖案轉移。
• 徹底消除成本動因：PL-AS系統的機械結構遠比DUV掃描機簡單，它不需要複雜的準分子雷射光源、超高精度的投影光學系統和真空紫外光照明系統，因此設備本身的建置與維護成本大幅降低 。
• 壽命更長的耗材：製程中使用的石英複合模板，其使用壽命遠比傳統DUV光罩長，這進一步降低了長期攤提下的每片晶圓生產成本 。
• 客製化的雙層壓印膠系統：為了在整片8吋晶圓上達成奈米級的均勻度，璞璘開發了專利的雙層壓印膠材料體系和真空壓力氣墊製程。這項創新是實現光子晶片所需解析度下，可重複性圖案化的重要關鍵 。

最終的成果，是將製造成本壓縮至傳統DUV方案的約十分之一 。這驚人的成本節省，主要來自設備本身的巨大價差，以及壓印模板更長的使用壽命。

深度解讀：這對晶片製造業的真正意義

雖然「成本降至十分之一」的數字非常吸睛，但我們必須清楚理解這項突破的應用範圍。

璞璘此次公布的成果，是針對光子晶片——也就是應用於光達（LiDAR）、光纖通訊和先進感測器中的關鍵元件，而非你我手機裡或AI加速器中的最先進邏輯處理器 。

光子晶片所需的線寬特徵尺寸，相較於需要極紫外光（EUV）技術的3奈米以下先進製程，要求相對較低。奈米壓印技術非常適合這些需求，但它目前並非定位為直接取代EUV，應用於最先進的邏輯晶片製造上。

科技冷戰中的戰略突圍之道

這項進展的重要性，遠超過單一產品的發布。

璞璘科技是繼日本Canon之後，全球第二家實現半導體等級奈米壓印系統商業化的公司，並有系統地致力於打造替代西方光刻工具的國產方案 。

早在2025年8月，璞璘便已交付了中國首台自主研發的PL-SR系列步進式奈米壓印設備，其技術指標據報可支援線寬低於10奈米的製程，並已完成在記憶體晶片、矽基微顯示器及先進封裝等領域的研發驗證 。

2026年6月的這次發布，正是在此基礎上進一步證明，該技術已能從研發階段邁向可大規模驗證的生產製造。對於面臨DUV和EUV設備出口管制日益緊縮的中國晶片製造商而言，奈米壓印技術為他們提供了一條完全採用國產工具，生產關鍵晶片類別的可行途徑。

這項技術目前也存在已知的權衡取捨，例如其疊對精度和產能吞吐量等細節，至今仍未完全公開 。但對於電晶體密度並非首要目標的光子晶片來說，奈米壓印技術的成本結構和解析度已經綽綽有餘。

璞璘的進展顯示，全球半導體設備的版圖並非鐵板一塊的壟斷局面。儘管ASML的EUV光刻機在先進邏輯製程上無可取代，但商業上可行的奈米壓印工具的崛起，為特殊製程晶片、感測器和光學元件開闢了一條平行賽道——這條賽道或將重塑供應鏈，並為新一代晶片設計者降低進入門檻。