2026年7月8日,美國材料科學家、理海大學教授艾爾莎·瑞秋曼尼斯在北京人民大會堂獲頒2025年度中華人民共和國國際科學技術合作獎,她是九位獲獎者中唯一的美國人。 瑞秋曼尼斯是貝爾實驗室出身、半導體微影技術的先驅,其研發的深紫外光阻劑為現代晶片製造奠定基礎。她目前也是東華大學先進纖維材料全國重點實驗室的國際諮詢委員會主席。

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2026年7月8日,美國材料科學家艾爾莎·瑞秋曼尼斯(Elsa Reichmanis)站在北京人民大會堂的頒獎台上,成為九位獲頒2025年度中華人民共和國國際科學技術合作獎的外國專家之一 。該獎項由中國國務院於1994年設立,每年頒發給不超過十位對中國科技發展有重要貢獻的外國人士或組織
。瑞秋曼尼斯是由上海市提名
。
瑞秋曼尼斯獲獎的意義,遠超出外交儀式本身。她是貝爾實驗室(Bell Labs)出身的半導體製造先驅,其研究成果為現代晶片微影製程中不可或缺的光阻材料奠定了基礎。在獲獎後,她於2026年7月30日接受《南華早報》獨家專訪,在美中科技競爭——尤其是半導體領域——達到白熱化的當下,強力捍衛國際科學合作的價值 。
瑞秋曼尼斯1953年12月9日出生於澳洲墨爾本,幼年隨家人移居美國,在紐約州雪城(Syracuse)長大 。她於1972年及1975年在雪城大學分別取得化學學士與有機化學博士學位
。
她的職業生涯幾乎就是一部現代半導體研究史:
瑞秋曼尼斯擁有美國三大國家學院的院士頭銜:美國國家工程院(NAE)、美國國家發明家科學院(NAI) 以及美國藝術與科學院(AAAS),這在學界極為罕見 。她同時是2003年美國化學學會(ACS)會長,也是美國化學工程師學會(AIChE)會士
。
瑞秋曼尼斯享譽國際,主要因為她在微影材料的發現、開發與工程領導方面的成就。所謂微影材料,就是用以在矽晶圓上蝕刻電路圖案的光敏聚合物,即光阻劑 。她在貝爾實驗室的工作,促成了深紫外光(DUV)光阻材料的重大突破,這項技術使半導體元件得以持續微小化
。
根據中國官方報導,她「開創性地設計了首批工業用深紫外光刻膠,奠定了超大規模集成電路(VLSI)光刻技術的基礎,並開發出首個柔性半導體晶體管」 。她的研究成果涵蓋約40項專利,對大規模晶片製造方式產生了深遠影響
。
如今,她在理海大學的研究仍持續進行,其團隊正在探索用於下一代柔性電子產品的可拉伸聚合物半導體 。
瑞秋曼尼斯是上海東華大學先進纖維材料全國重點實驗室國際諮詢委員會主席,也是《先進纖維材料》(Advanced Fiber Materials)期刊的顧問編委 。她與中國研究團隊數十年的長期合作,是她獲獎的關鍵因素。此次頒獎典禮上,東華大學同時也因一項聚酯纖維項目獲得了國家科技進步獎一等獎
。2024年,她已先獲得上海市國際科技合作獎
。
瑞秋曼尼斯獲獎之際,正值美中在半導體技術、出口管制與科學交流上關係緊張。她在《南華早報》的專訪中毫不迴避:
她的立場之所以意義重大,是因為她的半導體材料研究領域恰恰處於美中科技競爭的核心。她所開創的微影材料,是晶片製造的關鍵;而在這個行業中,美中兩國在供應鏈、出口管制和技術轉移上的角力正日益激烈。
中華人民共和國國際科學技術合作獎是中國授予外國專家的最高榮譽之一。2025年度的九位獲獎者來自俄羅斯、比利時、葡萄牙、法國等國,涵蓋人工智慧、海洋工程等多元領域 。瑞秋曼尼斯是其中唯一的美國獲獎者
。
對瑞秋曼尼斯而言,這個獎既是對她過去工作的肯定,也是對科學未來的一種表態。正如她告訴《南華早報》的,科學家們提出的基本問題以及他們找到的答案,是不受國界限制的 。在一個科技脫鉤與出口管制盛行的時代,這句話的份量遠遠超出了化學實驗室的範疇。
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2026年7月8日,美國材料科學家、理海大學教授艾爾莎·瑞秋曼尼斯在北京人民大會堂獲頒2025年度中華人民共和國國際科學技術合作獎,她是九位獲獎者中唯一的美國人。
2026年7月8日,美國材料科學家、理海大學教授艾爾莎·瑞秋曼尼斯在北京人民大會堂獲頒2025年度中華人民共和國國際科學技術合作獎,她是九位獲獎者中唯一的美國人。 瑞秋曼尼斯是貝爾實驗室出身、半導體微影技術的先驅,其研發的深紫外光阻劑為現代晶片製造奠定基礎。她目前也是東華大學先進纖維材料全國重點實驗室的國際諮詢委員會主席。
在接受《南華早報》專訪時,她直言「科學是共通語言」,強調基礎科研合作應超越美中在半導體領域的技術競爭與出口管制。