為何美國前官員主張全面禁止 ASML 在中國銷售及維修 DUV 設備？

美國前官員主張，若只限制新設備出口，可能還不足以限制中國晶片製造能力：中國晶圓廠已經累積一定數量的浸潤式深紫外光（DUV）微影設備，而已安裝的設備仍需要維修與支援。他們因此呼籲，同時禁止向中國銷售這類設備，並停止維修既有機台。這項主張的一個重要依據，是估計中國晶圓廠截至 2026 年初已取得 343 台浸潤式 DUV 系統、價值數十億美元；但這是估算，不是經公開查證的設備清冊。3

沒有 EUV，不代表做不出部分先進晶片

極紫外光（EUV）微影設備用於最先進的晶片製程，中國目前無法取得這類設備。不過，這不代表中國完全無法製造部分先進晶片：透過 DUV 設備反覆進行多重圖形化，仍可製造 7 奈米級邏輯晶片。相關報告指出，中國晶片製造商曾在沒有 EUV 設備的情況下，以 DUV 製程生產 7 奈米級晶片。15

主張禁令的一方擔心，中國已累積的浸潤式 DUV 設備，能支撐更多先進晶片製造，包括與人工智慧（AI）相關的晶片。因此，設備庫存估算是他們論證中的關鍵：如果既有機台仍能持續運作，單靠停止新增採購，未必能迅速壓低產能。315

禁止維修，與限制新機出口有何不同？

荷蘭目前的出口管制要求，部分較先進的微影設備須取得出口許可。美國前官員提出的做法則更廣：不只限制浸潤式 DUV 設備銷往中國，也要阻止維修已在中國使用的機台。換言之，限制範圍可能不再只針對特定出貨，或個別被列名的企業，而是擴及中國境內的設備銷售與維修服務。4

維修之所以重要，是因為禁售新機只會影響未來交付，未必能讓既有設備立即停擺。據一則報導，中國兩家主要記憶體晶片製造商囤積的設備，足以支應三年的既定擴產計畫。不過，這項報導談的是這兩家公司的規劃，不能據此推論所有中國晶圓廠在沒有新設備或維修服務時，都能運作同樣長的時間。19

MATCH 法案是提案，不是已生效的全面禁令

MATCH 法案是另一條擴大管制的立法途徑，目標包括擴大限制，並讓美國與荷蘭、日本等盟友的規則一致。路透報導指出，經縮減後的法案版本仍納入全中國範圍的 ASML 浸潤式 DUV 設備限制。不過，這項法案仍是提案，並非已經生效的全面禁令。12

如果盟友不願配合，美國可能尋求運用出口管制規則，包括擴大「外國直接產品規則」（Foreign Direct Product Rule），管制含有美國技術的設備。不過，這是報導所述的可能執行途徑，並不代表美國可以不經荷蘭同意，就自動對荷蘭供應商實施全面維修禁令。9

對 ASML 與中國產能的影響仍難估算

禁令可能影響 ASML 在中國的業務，但目前提供的銷售數字，無法單獨說明維修限制會對公司營收或中國晶片產量造成多大影響。據報導，中國市場占 ASML 2026 年第一季淨系統銷售額的 19%，第二季則為 14%。58

中國也在研發本土浸潤式微影設備。現有報導提到相關進展，但本土設備的發展速度與競爭力仍未明朗。18 這項不確定性有兩面：國產設備未來可能降低限制的影響；另一方面，近期禁令仍可能限制中國取得進口機台與相關支援。

支持禁令的核心理由是：如果設備庫存估算接近實況，而且維修能讓既有機台維持效用，只限制新設備銷售，可能仍會留下相當數量的運作中機台。但 343 台是估算而非確認清單，MATCH 法案也尚未成為法律；中國替代設備的進展，以及 ASML 的銷售占比，都不足以單獨判定全面禁令會在多快的時間內改變中國晶片產能。