ASML執行長為何認為，晶片出口管制可能適得其反？

ASML執行長Christophe Fouquet的警告，焦點不在於中國已經追上ASML，而是出口管制若擴大到超出國家安全所需，可能讓中國更積極投入國產晶片設備。限制或許能在短期內減少中國取得外國設備的機會，卻也可能增加發展替代方案的誘因。這是關於管制範圍與長期影響的策略提醒，並不等於中國已接近掌握ASML最先進的技術。45

管制為何可能適得其反？

中國目前無法購買ASML的極紫外光（EUV）微影系統，但仍能在允許範圍內取得較不先進的深紫外光（DUV）設備。1417 Fouquet擔心，若管制進一步擴大，可能讓中國企業與政策制定者更有理由投資本土替代品。原本為了限制設備取得而採取的措施，長期而言也可能促使潛在競爭者加快發展。45

這並不表示中國能立刻以國產設備取代ASML。微影設備的研發難度高，新設備還得證明能穩定運作、符合量產需求。較長期的風險在於，持續投入與累積實務經驗，可能逐步降低中國部分市場對外國供應商的依賴。

為什麼ASML是先進晶片製造的關鍵環節？

微影是把細微電路圖案印製到晶圓上的製程。EUV微影能用於製造最先進晶片所需的微小圖案；ASML是全球唯一商用EUV系統供應商，因此在先進晶片生產、包括AI晶片製造中，扮演關鍵角色。813

但握有關鍵技術，不代表ASML能迅速增加供貨。隨著晶片設備需求升高，ASML也面臨供應鏈限制。路透社報導，ASML計畫在2026年出貨60台低數值孔徑（low-NA）EUV系統，並具備在2027年出貨80台的產能；另有報導指出，公司產能可能已預訂至2027年底。117 這些數字說明，AI晶片需求即使快速攀升，微影設備的供應也無法立刻同步增加。

中國的DUV研發透露了什麼？

報導指出，中國正投入先進DUV微影設備研發，華為也與這波推進相關。據報有設備正在測試，並以2026年底前推出12台為目標。 這些消息顯示中國可能正嘗試建立本土設備能力，但研發目標或原型機，不等於已證明能可靠、大量生產。

DUV與EUV是不同技術。中國研發DUV設備有進展，並不能證明其已能取代ASML的EUV系統。路透社另曾報導，中國一款EUV原型機仍在測試，尚未製造出可運作的晶片。2

若中國本土DUV設備日後能穩定運作並具備量產競爭力，可能對ASML在中國的DUV業務帶來壓力，也讓當地供應商累積更多經驗。現階段較審慎的結論是：中國正在尋找替代方案，但現有報導並未顯示ASML的EUV領先地位已被取代。

重點：看的是長期誘因，不是即時替代

Fouquet的警告關乎政策誘因與時間尺度。範圍過廣的管制，可能促使中國加大本土設備投資；而ASML在EUV市場的獨特地位與受限產能，則使它目前仍是先進晶片製造的重要瓶頸。中國的DUV研發值得持續觀察，因為它可能成為長期競爭挑戰，但不能據此推論EUV替代品即將問世。