中國浸潤式 DUV 邁向量產，EUV 為何仍是至少十年的硬仗？

中國推動半導體自主供應，近期確實跨進了一個新階段：國產浸潤式深紫外光（DUV）微影設備傳出開始小量生產，長鑫存儲（CXMT）也開始小規模製造 HBM3E 高頻寬記憶體，供中國 AI 晶片開發商測試。

不過，這兩項進展不應被解讀為中國已補上最先進極紫外光（EUV）微影的缺口。關鍵在於：浸潤式 DUV 可以在付出更多製程步驟的代價下延伸能力；EUV 則是先進邏輯晶片量產效率與競爭力的核心平台。

EUV 差距：進步存在，但仍以十年以上計

德國蔡司（Zeiss）半導體事業主管 Frank Rohmund 表示，推估中國需要約 15 年才可能自行開發 EUV 微影設備，是「合理的假設」，但他也強調，中國的實際進展速度很難精確量化。UBS 的看法同樣保守：其評估中國微影能力大致相當於 ASML 在 2004 年的水準，並認為未來十年內出現國產 EUV 替代方案的可能性不高。

這不代表中國在未來 15 年不會持續前進。真正困難的是，EUV 不只是讓一台設備「能動」而已，而是要將光源、光學、晶圓傳輸、控制軟體、量測、維修服務、良率與產能整合成可重複、可長期運作的量產系統。

ASML 與蔡司：難以複製的不只是一台機器

目前 ASML 是全球唯一商業化 EUV 微影系統製造商；蔡司則是 ASML EUV 系統所用光學設備的獨家供應商。

EUV 是製造最先進晶片的重要技術，包括輝達（Nvidia）AI 加速器所用處理器。蔡司指出，其 EUV 光學系統由超高精度反射鏡與機電整合元件構成，是 EUV 機台的關鍵組件。

因此，挑戰不只是設計一台曝光機，而是建立一整套能製造、整合並長期維護超精密零組件的產業體系。這也是 EUV 與一般單點技術突破之間最大的差異。

DUV 能做得更細，為何 EUV 仍不可替代？

浸潤式 DUV 仍具有高度戰略價值。它在鏡頭與晶圓之間加入一層高純度水，以提升解析度；配合多重圖形化技術後，能把單次曝光的極限再往前推進。14

但這條路會增加製程步驟。實務上，問題不只是「能不能做出晶片」，而是能否以具競爭力的成本、良率、速度與產能持續製造。EUV 在先進邏輯晶片與高能效 AI 硬體上的價值，正是在於能降低相關層次的製程複雜度。

國產浸潤式 DUV：是小量爬坡，不是全面追平

路透報導，一項由上海國資背景團隊推動的計畫已開始生產國產浸潤式 DUV 機台，規劃 2026 年產出約 5 台、2027 年約 20 台；首批傳出客戶包括中芯國際（SMIC）、華虹半導體與 CXMT。14

這組數字同時說明了其重要性與限制：

• 重要性： 中國正建立一個本土替代選項，瞄準長期由海外供應商主導、且對先進製程極為關鍵的設備類別。
• 限制： 一年 5 台仍是試量產規模。報導指出，首批設備主要用於產線驗證，尚須進一步測試，並非已在晶圓廠大規模、成熟部署。10

在歸屬上也應審慎。這批新浸潤式 DUV 計畫與上海國資背景製造商有關，中芯國際則傳出測試由宇量昇提供的浸潤式設備；至於上海微電子裝備（SMEE），另有報導稱其已量產 90 奈米級 DUV 系統，並在研發 28 奈米浸潤式機型。公開資訊目前尚不足以證實 SMEE 的 28 奈米浸潤式平台已獲廣泛、獨立驗證的高產量部署。1411

換言之，這裡所稱的「量產」，更接近於有限度製造的起點，而非在產能、稼動率、套刻精度、可靠度、安裝基數或供應鏈成熟度上與 ASML 對等。

出口管制：限制取得設備，也強化本土化誘因

美國主導的出口限制已阻止中國取得 ASML 的 EUV 系統，也讓中國加大投資本土設備的誘因。

Rohmund 認為，若將限制再擴大至較成熟的舊世代 DUV 設備，可能產生反效果：進一步封鎖反而會加速中國的本土創新。

這是對誘因結構的判斷，並非表示管制沒有作用。管制確實可以限制中國取得當前最佳設備；但若連成熟設備也被切斷，反而可能促使資金與研發更快流向本土替代方案，尤其是在市場規模更大的 DUV 領域。

CXMT 的 HBM3E：另一條 AI 供應鏈的關鍵進展

中國 AI 晶片的供應能力不只取決於先進邏輯製程，也仰賴高頻寬記憶體。CXMT 據報已開始小規模生產 HBM3E，阿里巴巴旗下平頭哥與寒武紀等中國 AI 晶片開發商正進行測試；CXMT 目標在 2027 年擴大產能。1920

這項進展的重要性在於，它可能為中國 AI 加速器建立本土先進記憶體來源。然而，目前仍處於小規模生產與客戶驗證階段。來源報導指出，CXMT 的產品世代約落後全球主要記憶體廠已量產產品一代，至於其大規模量產能力仍未獲證明。20

結論：DUV 與 HBM 有實質突破，EUV 仍是更深的系統戰

中國不再只是停留在微影自主化的實驗室研究與政策藍圖。國產浸潤式 DUV 的小量產，以及 CXMT HBM3E 的客戶測試，都顯示部分先進晶片供應鏈正開始走向實際部署。

但 EUV 的門檻更深。ASML 在整機系統的獨特地位，以及蔡司對 EUV 光學的獨家角色，說明自製 EUV 需要的遠不止單一技術突破。依 Rohmund 與 UBS 的評估，中國若要建立具競爭力、可大規模量產的 EUV 平台，時間尺度仍可能是十多年，而不是眼前這一輪 DUV 擴產週期。