這可能是對智慧財產權執法影響最大的變革:法院現在可以針對 故意且情節嚴重的侵權行為 判處懲罰性賠償 。賠償金額的計算基礎是權利人的實際損失或侵權人獲得的利益,對於情節嚴重的案件,可在基礎上適用懲罰性倍數
。據 TechTimes 報導,對於故意侵權且情節嚴重的案件,法院可判處 1 至 5 倍 於計算基礎賠償額的懲罰金
。這與中國近年來在智慧財產權領域提高侵權成本、嚇阻仿冒行為的總體趨勢一致
。
此次修訂是對美國收緊先進晶片製造設備和技術出口管制的直接回應 。北京當局將此舉視為推動技術自主、保護國內晶片技術免受外部壓力的更廣泛戰略的一部分
。透過提高 IP 保護標準,中國旨在激勵國內創新,並吸引晶片設計者將其作品在中國法律框架內進行註冊和商業化
。
這份監管改革有其龐大的半導體產業經濟數據作為支撐:
因此,這套法規組合將更嚴格的 IP 執法與更靈活的商業化工具相結合,旨在創造一個能支持中國快速擴張的半導體產業,在外部技術限制下持續發展的法律環境。