近年來 AI 的爆發式成長,尤其是資料中心 GPU 與 AI 加速器需求,正在推動晶片公司增加資本支出。
為了支撐這樣的需求,晶片製造商需要:
這些都意味著對 EUV 與深紫外光(DUV)微影設備 的投資將持續增加。
ASML 未來最重要的催化劑之一,是 High‑NA(高數值孔徑)EUV 微影技術。
相較於目前主流 EUV 系統,High‑NA EUV 能夠:
每一台 High‑NA EUV 機器價格可能高達 數億美元。
對投資人而言,這具有幾個重要意義:
未來十年,晶片製造商很可能為了更先進節點而持續採購 High‑NA 設備。
ASML 在 2026 年第一季 的財報也讓分析師對需求循環更有信心。
公司公布:
隨後公司將 2026 年全年財測上修 至:
此外,ASML 的 Installed Base(已安裝設備服務)收入 持續增長。這部分包括維護、升級與服務,通常毛利率較高,也能提供更穩定的經常性收入。
綜合各大機構的研究報告,ASML 的投資邏輯主要來自四個因素:
雖然部分討論提到更高的目標價,但公開資料顯示:
這意味著市場看多 ASML 的原因主要來自 基本面改善與技術進展,而非純粹市場炒作。
展望未來十年,ASML 的成長故事主要建立在幾個結構性趨勢上:
如果這些趨勢持續,ASML 很可能在未來十年仍然是 全球半導體產業中最關鍵的設備公司之一。
簡單說,分析師之所以看好 ASML,不只是因為單一利多,而是因為這家公司正處於 AI 成長、晶片技術演進與關鍵設備壟斷地位的交會點。