AI 基礎設施的快速擴張,正在為 PFAS(全氟及多氟烷基物質)創造兩條相互連動的需求路徑:一是製造 AI 晶片所需的半導體供應鏈,二是為高密度伺服器散熱的熱管理系統。問題是,這類常被稱為「永遠化學物質」的材料,正同時面臨減量、替代與淘汰的政策及環境壓力。
ChemSec 在 2026 年 9 月的盤點指出,AI 與資料中心基礎設施、半導體製造,以及鋰離子電池,是推動 PFAS 產能擴張的三大需求來源。該組織表示,除少數例外外,多數大型生產商都在擴產;其中,科慕(Chemours)、Syensqo、Arkema、Solstice、Daikin 與 AGC 等公司,皆將相關投資與 AI 基礎設施或晶片製造連結。
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AI 為何會增加 PFAS 需求?
晶片愈多,半導體製程需求愈高
依 ChemSec 資料,PFAS 可用於半導體製造中的界面活性劑、蝕刻與清洗程序,以及耐化學性的管材與接頭。隨著 AI 加速器、記憶體及晶圓廠設備需求增加,這些上游特殊材料的需求也可能隨之上升。
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而且,PFAS 與資料中心的關係不只發生在伺服器機房。NRDC 指出,PFAS 可能用於冷卻、消防抑制,以及資料中心所使用的半導體與其他電子元件製造。
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伺服器更密集,液冷更有吸引力
運算密度與發熱量上升後,單靠空氣冷卻會愈來愈吃力。浸沒式冷卻是把電子設備置於不導電的介電液體中,而非僅依賴空氣散熱。
單相系統的液體在循環過程中不沸騰,常見介電液體包括聚 α-烯烴等碳氫化合物;兩相系統則可使用氟化冷媒,讓液體在高溫元件附近沸騰、以蒸氣帶走熱量,之後再凝結並循環。
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後一種方式可能成為 PFAS 的需求通路。ChemSec 明確將浸沒式冷卻液與 AI/資料中心熱管理,列為推動產能擴張的因素。
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PFAS 為何好用,卻也備受爭議?
PFAS 在嚴苛工業環境中受到重視,原因包括耐熱、拒水拒油、耐化學腐蝕與電氣絕緣等特性。面對晶圓製程化學品、高溫環境與敏感電子元件,這些性能確實具有工程價值。
但爭議也源自同一種特性:它們不易在環境中分解。Food & Water Watch 指出,資料中心冷卻系統即使可能降低、卻未必能消除用水,也可能成為持久性 PFAS 的額外使用途徑。
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這不表示每一種液冷液都以 PFAS 為基礎,也不表示每座資料中心都使用浸沒式冷卻;真正的意思是,AI 的散熱難題可能演變成材料選擇問題,並帶來長期環境後果。
誰在擴產?誰在退出?
擴產方:科慕與其他大型供應商
ChemSec 的研究稱,多數主要 PFAS 生產商正因應 AI/資料中心、半導體與電池市場而擴充產能,並點名科慕、Syensqo、Arkema、Solstice、Daikin 與 AGC,將投資明確包裝為 AI 或晶片製造相關機會。
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科慕的公開布局尤其明顯:
- 該公司表示,Teflon PFA 產能擴建已於 2024 年完成,並稱這項材料對半導體製造至關重要。
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- 科慕與 Navin Fluorine International 合作生產 Opteon 兩相浸沒式冷卻液;此合作隸屬其擴大的液冷事業,目標是回應先進資料中心與 AI 硬體的熱能、能源與用水需求。
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- 科慕也與數位基礎設施設計、開發及營運商 DataVolt 簽署協議,共同開發與展示液冷方案,包括兩相直接晶片冷卻與兩相浸沒式系統。
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科慕預期 Opteon 兩相浸沒式冷卻可在 2026 年商業化,但仍須取得適當監管核准。該公司亦主張這類技術可降低冷卻能耗;不過,這些是企業的性能主張,並非每個實際部署案例都已有獨立驗證。
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退出方:3M 改變供應版圖
3M 在 2022 年宣布,將在 2025 年底前逐步停止 PFAS 製造。其 Novec 與 Fluorinert 產品線曾用於冷卻、半導體製造及消防用途。
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因此,市場並不是全面撤退,而是重新洗牌:3M 離場之際,其他供應商正在爭取半導體與先進冷卻帶來的需求。
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AI 相關 PFAS 市場到底有多大?
目前提供的證據中,沒有可信的公開估算能夠單獨量化「AI 基礎設施所帶動的 PFAS 需求」規模。ChemSec 的分析著重於擴產計畫與需求驅動因素,而非 AI 專屬的產量數字。
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較可用的參考是更廣義的資料中心浸沒式冷卻液市場,但不能把它直接當成 PFAS 市場。MarketsandMarkets 預估,資料中心浸沒式冷卻液市場將由 2025 年的 1.8 億美元,成長至 2032 年的 8.3 億美元,預測年複合成長率為 23.9%。此類別包含直接晶片冷卻與浸沒式冷卻液,並不限於氟化或 PFAS 類產品。
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監管、替代方案與下一步
監管與採購壓力正推動替代方案。在美國,環境保護署(EPA)已在《有毒物質控制法》(TSCA)的審查流程中,優先處理用於資料中心專案或相關製造的新化學物質。
16 同時,申報要求與未來可能的限制,也促使資料中心營運商檢視供應鏈中的 PFAS 暴露。
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部分冷卻用途已有替代選項。單相浸沒式冷卻常使用碳氫介電液;更廣泛的市場也正在發展非氟化合成液、酯類、矽油及生質基液體。
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42 在某些部署中,直接晶片冷卻與改善空氣冷卻設計,也能降低對兩相浸沒式冷卻的需求。
不過,現有證據無法證明非 PFAS 選項能直接取代每一項半導體製程,或所有高密度兩相冷卻應用。材料認證、可靠度、安全性與整體系統設計,都會左右選擇。
AI 基礎設施的真正取捨
對資料中心建置者而言,問題不只是要不要使用更多液冷,而是:在可行替代方案已存在、仍在成熟,或未必適合特定用途的情況下,能否以會長期殘留的含氟材料,來達成能效與用水管理目標?
ChemSec 認為,AI 需求有可能在更廣泛的淘汰行動加速之際,鎖定新一代 PFAS 產能。
31 NRDC 則提醒,PFAS 的問題必須從整個生命週期來看:從晶片製造、冷卻、消防抑制,到設備報廢處理,都可能涉及這類物質。
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因此,關鍵要區分兩件事:AI 正推升先進散熱技術的需求,這一點正在加速;但 PFAS 是否是實現這種散熱的唯一途徑,仍是技術、監管與環境層面的選擇,而非既定答案。