ASML股價升3.25%，High-NA EUV採用進度透露甚麼？

ASML股價於2026年10月2日收市升3.25%，報1,867.31美元。市場一方面觀望公司10月14日公布業績，另一方面評估客戶對新一代High-NA EUV光刻系統的興趣。這些計劃顯示晶片廠正準備採用新技術，但沒有透露已訂購多少部設備，也未能說明計劃幾時會轉化成銷售收入。1625

ASML為何上升？

股價上升反映市場對ASML晶片製造設備業務的前景較樂觀，當中包括客戶採用High-NA EUV的計劃。不過，現有報道未能證實10月2日升市有單一、明確的直接催化因素。較長線來看，數家大型晶片廠已公布採用這項技術的生產時間表，為市場提供了需求逐步擴大的訊號。25

High-NA EUV系統據報每部約值4億美元。客戶的採用計劃因此與ASML未來增長前景有關，但有計劃並不等於已公布實際訂單。6

客戶採用步伐不一

三星和SK海力士都以2028年為目標，計劃在DRAM生產中採用High-NA EUV。台積電的時間表較後，目標是由2030年起，把技術用於先進晶片的大規模生產。這些安排顯示市場興趣已涵蓋記憶體與邏輯晶片製造，但各家公司的部署時間和導入方式並不相同。133

Intel與ASML表示，使用High-NA設備處理的晶圓已超過100萬片。這個數字涵蓋早期設備認證及測試、研發，以及Intel部分處理器指定層的批量生產。它反映技術和製造流程已有進展，但不能解讀為100萬片晶圓都來自全面規模的High-NA商業量產。17

光罩平台也是擴大應用的一環

三星已加入業界計劃，研發供High-NA EUV使用的12吋光罩平台。這屬於建立配套生態的一部分，並不能證明新平台或相關設備採購會趕及三星2028年的目標，在大規模生產中投入使用。18

整體轉換時間表更長：ASML與台積電的合作計劃，目標是2031年建立12吋光罩試產線，並於2033年備妥供先進製程生產使用的完整光刻系統。在此之前，High-NA量產仍會使用現有的6吋光罩。19

近期收入仍要看現有EUV設備

High-NA是較長線的增長機會，ASML現有EUV業務同樣重要。路透報道指，現有EUV系統每部約值2億美元，訂單幾乎已排滿至2027年。33

ASML表示，計劃把傳統Low-NA EUV產能在2027年較2026年增加30%；至於2028年會否再增加30%，公司仍在研究。能否滿足需求並按計劃提升產能，是與High-NA前景並行的近期執行考驗。40

仍未解答的問題

公開的採用時間表沒有交代High-NA訂單總量、交付安排，亦未說明計劃中的用途會以甚麼速度帶來收入。至於晶圓處理量，數字涵蓋多個階段，並非全部屬於商業量產。因此，單憑採用時間表，難以直接推算相關銷售何時、以多大規模入帳。171819

競爭情況也有待觀察，但現有資料有限。有來源提到中國企業SMEE正嘗試研發DUV領域的替代方案；不過，提供的報道沒有列出出貨量，也沒有證據顯示相關設備正在取代ASML的產品。因此，現階段未能據此判斷競爭對ASML業務的實際影響有多大。38

估值亦會影響市場對延誤或訂單遜預期的反應。現有來源沒有提供一個可靠而一致的估值指標，單憑這些資料不足以判斷股價是否已合理反映未來增長。較穩妥的結論是：客戶計劃是High-NA逐步獲採用的正面訊號，但不保證訂單、利潤率或股價回報必然跟上。