璞璘科技納米壓印突破：8吋光晶圓量產 成本大降九成

喺晶片戰爭打到如火如荼嘅時候，一間嚟自杭州嘅初創公司，示範咗一條冇咁受制於人嘅新路。2026年6月5日，璞璘科技（Prinano）宣布，佢哋同深圳力策科技合作，用一套「蓋印」技術，成功驗證咗8吋光晶片晶圓嘅可規模化量產，而且最重要係，成個過程完全繞過咗由荷蘭ASML壟斷嘅深紫外光（DUV）光刻機，製造成本更只係傳統方案嘅十分之一 。

呢項突破唔單止係一間公司嘅技術勝利，更可能為中國半導體產業喺極度依賴先進光刻設備嘅困局中，撬開一條新嘅生路。

技術原理：用「圖章」取代「投映機」

要理解呢項技術點解咁把炮，首先要明白傳統DUV光刻機點運作。你可以將佢想像成一部極度精密嘅投映機，透過光學系統將光線射穿一塊畫好電路圖嘅光罩，再縮小投射到晶圓上「刻」出圖案。呢個過程需要一大堆又貴又難整嘅部件，例如準分子激光器、超高精度投射鏡頭，全部都係受嚴格出口管制嘅「戰略物資」。

璞璘科技嘅做法就簡單直接好多，佢哋用嘅係自家研發嘅PL-AS真空氣壓式晶圓級納米壓印（NIL）設備，原理同「蓋圖章」差唔多：

• 機械壓印：預先喺一塊石英複合模板上雕好納米級嘅電路圖案，然後直接將模板撳落晶圓表面嘅特殊壓印膠上面。一壓、一起，圖案就轉移咗過去。成個過程好似壓印黑膠碟咁，但精準度係去到納米級別 。
• 踢走成本大佬：因為唔使玩光學投影，PL-AS系統嘅機械結構簡單好多，唔使準分子激光光源，唔使超高精度投射鏡頭，慳返唔少錢 。
• 消耗品更襟用：用嚟壓印嘅石英複合模板，壽命比傳統DUV光罩長好多，攤薄落每塊晶圓嘅成本自然更低 。
• 雙層膠突破均勻性：要喺成塊8吋晶圓上都做到納米級嘅均勻壓印，璞璘開發咗一套自家嘅雙層壓印膠材料系統同真空壓力工藝，呢個係實現量產嘅關鍵 。

就係咁，硬件開支又平、損耗又低，加加埋埋，就令到製造成本急降到傳統DUV方案嘅十分之一 。

理性解讀：唔係萬能key，而係精準切入

90%成本大劈價，呢個數字極之吸睛，但我哋必須搞清楚，呢項技術現階段嘅應用範圍。璞璘今次嘅公布，針對嘅係光晶片（Photonic Chips），即係用喺LiDAR（激光雷達）、光纖通訊同高階傳感器嗰類元件，而唔係大家成日講嘅手機處理器、AI加速器嗰啲尖端邏輯晶片 。

光晶片對電路線寬嘅要求，冇嗰啲要去到3納米以下嘅先進製程咁高。納米壓印技術嘅精準度剛好夠用，所以佢唔係要直接取代生產尖端邏輯晶片嘅極紫外光（EUV）光刻機，而係喺特定晶片領域入面，提供一個極具成本優勢嘅「平行賽道」。

科技冷戰下嘅「Plan B」

呢次突破嘅地緣戰略意義，可能比技術本身更重要。璞璘係繼日本Canon之後，全球第二間將半導體級納米壓印系統商品化嘅公司 。佢哋一直有系統咁建立一套可以擺脫西方光刻設備依賴嘅國產方案。

回帶去2025年8月，璞璘已經交付咗國內第一台自主研發嘅PL-SR系列噴墨步進式納米壓印機，據報可以做到10納米以下線寬，仲完成咗儲存晶片、矽基微顯示器同先進封裝等領域嘅研發驗證 。

今次2026年6月嘅宣布，就係喺呢個基礎上再行多一步，證明咗呢項技術唔單止停留喺實驗室，而係已經可以去到驗證可規模化量產嘅階段。對於成日俾人「卡脖子」嘅中國晶片廠嚟講，NIL提供咗一個可以用國產設備生產關鍵晶片嘅可行路徑。

當然，NIL技術唔係完美，外界對佢嘅疊對精度同產能（throughput）仍然有疑問 。但係對光晶片呢類唔係一味追求晶體管密度嘅產品嚟講，NIL嘅成本結構同解像度已經夠曬用。

璞璘嘅進展係一個強烈信號：全球半導體設備嘅世界，唔係只得ASML一間玩晒。隨住NIL技術持續成熟，佢將會為特殊工藝晶片、傳感器同光學元件，開闢一條新嘅供應鏈，大大降低新一批晶片設計公司嘅入場門檻。