Elsa Reichmanis 1953年12月9日喺澳洲墨爾本出世,細個跟屋企移民美國,喺紐約州雪城(Syracuse)長大。佢1972年喺雪城大學拎化學學士,1975年拎有機化學博士。
佢嘅職業生涯簡直係現代半導體研究史嘅縮影:
Reichmanis係好少數同時入選美國三大國家級學院嘅科學家:美國國家工程院、美國國家發明家科學院同美國人文與科學院。佢仲做過2003年美國化學學會會長,亦係AIChE院士。
Reichmanis喺國際上最出名嘅係發現、開發同領導咗新一代光刻材料——即係用來喺矽晶圓上印電路嘅感光聚合物,叫光刻膠。佢喺貝爾實驗室嘅研究做出咗深紫外(DUV)光刻膠嘅關鍵突破,令半導體器件可以不斷微型化。
根據國內傳媒報道,佢「開創性設計咗首批工業用深紫外光刻膠,奠定咗超大規模集成電路光刻技術嘅基礎,仲開發咗第一個柔性半導體晶體管」。佢嘅研究成果有大概40項專利,直接影響咗而家點樣大規模生產微芯片。
而家佢喺理海大學嘅研究團隊繼續探索可拉伸聚合物半導體,為下一代柔性電子產品做準備。
Reichmanis擔任上海東華大學先進纖維材料全國重點實驗室國際諮詢委員會主席,亦係《Advanced Fiber Materials》期刊嘅顧問編委。佢同中國科研團隊嘅長期合作——跨越幾十年——係攞到呢個獎嘅關鍵因素。同一日,東華大學嘅一個聚酯纖維項目仲拎咗國家科技進步一等獎。2024年,佢已經攞咗上海市國際科技合作獎。
Reichmanis攞獎嗰陣,正正係中美喺半導體技術、出口管制同科學交流方面關係緊張嘅時候。喺《南華早報》訪問入面,佢完全冇迴避:
佢嘅立場特別有意義,因為佢嘅領域——半導體材料——正正係中美科技競爭嘅核心。佢開創嘅光刻材料係芯片製造必不可少嘅,而芯片業正好係中美而家喺供應鏈、出口管制同技術轉移上爭拗最多嘅地方。
中國國際科學技術合作獎係中國俾外國專家嘅最高榮譽之一。2025年度嘅9位得獎人包括嚟自俄羅斯、比利時、葡萄牙、法國等國嘅科學家,研究領域涵蓋人工智能、海洋工程等。Reichmanis係唯一嘅美國獲獎者。
對Reichmanis嚟講,呢個獎唔單止係對過去工作嘅肯定,更加係對科學未來嘅一個表態。正如佢同《南華早報》講嘅,科學家提出嘅基本問題同佢哋搵到嘅答案,都唔會理會國界。喺科技脫鈎同出口管制嘅年代,呢個訊息嘅分量遠遠超越咗化學實驗室嘅範圍。
(本文綜合自《南華早報》、中華人民共和國科學技術部、理海大學、東華大學等官方公佈資料。)