限制愈收愈緊，會否反而推動中國自製晶片設備？

ASML行政總裁Christophe Fouquet的警告，重點在於出口管制可能帶來的長遠代價：限制短期內或會減少中國取得外國晶片製造設備的機會，但若範圍過廣，也可能令中國更有誘因投入資源，研發本土替代品。這是主張管制應聚焦國家安全目標，並不是說中國快將追上ASML最先進的技術。45

為甚麼限制太廣可能適得其反？

中國目前已不能購買ASML的極紫外光（EUV）微影系統，但在符合規定的用途下，仍可購買技術較成熟的深紫外光（DUV）設備。1417 Fouquet所擔心的是，如果限制再擴大，國內替代設備對中國企業和政策制定者可能會更具吸引力。原本旨在限制設備取得的措施，長遠亦可能促成未來的競爭者。45

這並不代表中國可以即時一對一取代外國設備。微影設備研發難度高，本土機器亦要證明性能和量產穩定性。真正值得留意的風險，是長期投資和累積經驗，可能逐步減少中國在部分市場對外國供應商的依賴。

為甚麼ASML是關鍵瓶頸？

EUV微影技術用來把極微細的電路圖案印到晶圓上，是製造最先進半導體的重要一環。ASML是唯一商業供應EUV系統的公司，因此其設備是先進晶片生產的重要環節，當中包括人工智能（AI）晶片。813

不過，ASML獨家供應並不代表它可以迅速滿足任何新增需求。隨着晶片製造設備需求上升，公司亦面對供應鏈限制。路透社報道，ASML計劃在2026年交付60部低數值孔徑（low-NA）EUV系統，並具備在2027年交付80部的產能；另有報道指，其產能可能已預訂至2027年底。117 這些數字反映，先進晶片需求上升，不會即時變成更多微影設備產能。

中國發展DUV，代表甚麼？

有報道指，中國正嘗試研發較先進的DUV微影設備，華為亦與這項更廣泛的發展方向有所關聯。其中一則報道稱，相關設備正在測試，並提到目標是在2026年底前達到12部。 這些報道顯示中國可能正嘗試建立本土能力，但研發目標或原型機，並不等於已能穩定、大規模生產。

DUV和EUV是不同技術；中國研發本土DUV設備的進展，不能證明它已能取代ASML的EUV系統。路透社另曾報道一部中國EUV原型機正在測試，但尚未製造出可運作的晶片。2

如果本土DUV設備日後能可靠地大規模生產，可能對ASML在中國的DUV業務帶來壓力，也有助本土供應商累積經驗。較審慎的結論是：中國正尋找替代方案，但現有報道未顯示它已取代ASML在EUV領域的領先位置。

重點整理

Fouquet的警告關乎誘因和時間：範圍更廣的管制，可能推動中國加大對本土設備的投資；而ASML在EUV市場的獨家地位和受限產能，則令它目前仍是先進晶片製造不可或缺的一環。中國的DUV研發值得作為長遠競爭風險留意，但不應視作EUV替代品即將面世的證據。