台积电已购入ASML下一代High NA EUV光刻机进行研发,但在每台超4亿美元的设备实现经济可行性之前,不会用于量产,此举导致大规模采用时间至少推迟到2029年之后。 魏哲家向股东表示,AI驱动的芯片需求将持续数年超过供给,并确认2026年资本支出将达520亿至560亿美元,预计全年营收增长超30%。

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: What did TSMC CEO C.C. Wei confirm about the company's adoption of ASML's High-NA EUV lithography systems, how did he clarify earlier report. Article summary: At TSMC's annual shareholders' meeting on June 4, 2026, Chairman and CEO C.C. Wei addressed the company's position on High-NA EUV lithography, AI demand, capital spending, financial performance, and competitive threats f. Topic tags: general, general web, user generated. Reference image context from search candidates: Reference image 1: visual subject "# TSMC’s CEO Visited ASML Headquarters In Secret, Heralding A Possible Change In The Company’s Approach Toward High-NA EUV Lithography. Now, however, it appears that the contract c" source context "TSMC's CEO Visited ASML Headquarters In Secret, Heralding A Possible Change In The Company's Approach Toward High-NA
在2026年6月4日举行的台积电年度股东大会上,董事长兼总裁魏哲家回应了半导体行业最敏感的问题之一:作为全球最大的芯片代工厂,拒绝购买ASML最新光刻机是否意味着落后于竞争对手?他的回答斩钉截铁:不,并附上了一份清晰的战略说明。
魏哲家证实,台积电已经购买了ASML的高数值孔径极紫外光刻系统(High-NA EUV),但目前这些设备完全用于研发,而非大规模量产 。他直接驳斥了外界关于公司已决定跳过这项技术的猜测
。
魏哲家解释为何不将新设备引入制造环节时,只用了两个字:成本。每台High-NA EUV光刻机的价格超过4亿美元(约合3.5亿欧元),几乎是现有EUV设备的两倍 。他向股东表示,公司正在等待这些设备在商业上变得经济可行,才会用于大批量生产
。
这一表态澄清了2026年4月一些令人困惑的头条新闻。当时,台积电副共同运营长张晓强曾表示,公司“目前没有计划”采用High-NA EUV,并称这些设备“非常、非常昂贵” 。魏哲家在股东大会上收回了外界认为台积电永久放弃该技术的印象。他解释说,真正的策略是尽可能延长现有低数值孔径EUV设备的性能。台积电的研发团队持续寻找方法,在不切换至下一代设备的情况下,继续提升芯片性能,张晓强曾单独将这种能力形容为“令人惊叹”
。
行业分析师现在预计,台积电目标于2029年投产的A13制程节点将不需要High-NA EUV,这意味着台积电对该技术的大规模量产部署将推迟到2029年之后的某个时间点 。
魏哲家审慎的步伐与英特尔和SK海力士的激进动作形成鲜明对比。这两家公司正准备最早于2027年,将High-NA EUV设备用于制造先进的人工智能逻辑芯片和高带宽内存芯片 。英特尔作为行业首家接收High-NA EUV系统的公司(2023年12月),已在开发设备上处理了约30万片晶圆,为其14A制程节点做准备
。SK海力士则是首家将High-NA设备组装起来用于研发的内存芯片制造商
。
ASML首席执行官傅恪礼在2026年5月进一步加大了时间线压力,他透露,首批采用High-NA EUV光刻机生产的商用芯片,涵盖内存和逻辑产品,将在“数月内”问世 。
魏哲家对“先行者能获得永久优势”的说法不以为然。他表示,台积电 “从来不缺竞争者” ,公司将继续依赖制程创新和对现有EUV设备的优化,而不是仓促进行昂贵的设备更新换代 。他特别点明了英特尔的18A制程和三星晶圆代工业务的竞争压力,但同时表达了信心,称台积电将“持续努力,保持领先”
。
除了设备战略,魏哲家对人工智能热潮发出了一个严峻的信号:“AI需求太高了,我们只能生产这么多。” 他告诉股东,由AI驱动的先进半导体需求,将在未来数年内持续处于供不应求的状态 。
这些需求来自消费者、企业以及各国政府的“主权AI”项目。魏哲家表示,客户对AI行业的前景普遍极为乐观 。即便有新的制造产能(包括正在美国进行的工厂扩建),台积电依然无法满足其收到的所有订单
。
AI的激增直接反映在台积电的财务数据上。公司公布2026年第一季度营收达1.13万亿新台币(约357亿美元),同比增长35%;净利润则飙升58%,达到创纪录的5725亿新台币(约177亿美元) 。魏哲家给出的全年指引是,2026年营收增长将超过30%
。
这些数字是在创纪录的2025年之后取得的。那一年,台积电的营收和每股收益均创下历史新高,股价更是在一年内上涨超过一倍,从每股950新台币攀升至2425新台币 。
为跟上需求的步伐,台积电计划在2026年投入520亿至560亿美元的资本支出,其中大部分将用于扩展先进制程节点的制造产能 。
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台积电已购入ASML下一代High NA EUV光刻机进行研发,但在每台超4亿美元的设备实现经济可行性之前,不会用于量产,此举导致大规模采用时间至少推迟到2029年之后。
台积电已购入ASML下一代High NA EUV光刻机进行研发,但在每台超4亿美元的设备实现经济可行性之前,不会用于量产,此举导致大规模采用时间至少推迟到2029年之后。 魏哲家向股东表示,AI驱动的芯片需求将持续数年超过供给,并确认2026年资本支出将达520亿至560亿美元,预计全年营收增长超30%。
这一决策使台积电与英特尔、SK海力士走在不同路径上,后两者正积极准备最早于2027年将High NA EUV用于先进逻辑和存储芯片的量产。