美光在10月21日举办的技术网络研讨会上,将内存与存储摆到了AI系统讨论的核心位置:它们不只是处理器的配套部件,也可能成为影响系统性能、容量和每个token成本的关键约束。公司路线图涵盖DRAM、高带宽内存(HBM)和NAND,并预计两项重要技术于2027年下半年启动爬坡。不过,报道中部分性能数字和实现细节仍缺乏充分核实。
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美光的判断:AI需要更快、更大的数据通道
这场研讨会由美光总裁兼首席技术与产品官斯科特·德博尔(Scott DeBoer)主讲。美光10月19日宣布了活动安排,议题覆盖DRAM、HBM和NAND技术创新。公司指出,下一代AI基础设施需要更高带宽、更大容量,以及更高效的数据传输、存储和访问能力。
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相关报道概括德博尔的观点称,内存正逐渐成为制约AI系统性能、容量和每个token成本的因素。这也解释了美光为何同时布局靠近处理器、强调高速传输的内存,以及面向AI工作负载的存储技术。
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两项技术预计于2027年下半年启动爬坡
美光预计,1-delta DRAM节点与第11代NAND(G11)都将在2027年下半年开始爬坡。这里所说的是路线图预期,并不意味着这两项技术已经进入大规模量产。
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据报道,G11将跳过第10代,目标是采用超过400层的堆叠设计。相关报道还称,其位密度预计超过G9的两倍,I/O速度预计达到G9的1.5倍,并面向高IOPS、高带宽的AI存储应用。这些属于报道中的路线图规格,并非经独立验证的产品实测数据。
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HBM与DRAM:新架构仍有待更多细节
研讨会还将垂直HBM列为美光未来内存方向之一。技术报道将这一概念描述为把HBM堆叠在处理器上方;另有报道提到,美光也在开发定制化HBM。不过,现有材料没有明确其详细量产时间,也不足以确认所有封装与键合方式。
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在DRAM方面,德博尔对“4F²设计必然比6F²设计更有密度优势”的说法提出质疑。美光的路线图包含3D DRAM,但其部署时间据报道仍取决于成本、复杂度和器件性能等因素。
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内存供应可能继续偏紧
MarketBeat报道称,美光预计内存供应至少还会紧张两年。这是对市场状况的展望,并非对供需何时恢复平衡的保证。现有材料也无法证实具体的供需平衡时间,或所有有关未来产品如何影响晶圆需求的说法。
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哪些细节尚不能下定论
现有报道未能充分核实若干更具体的说法,包括HBM4每堆栈带宽据称达到2.8 TB/s、1-delta DRAM位密度提升约20%以上,以及由博伊西工厂率先生产、用于HBM5和边缘推理等规划。
此外,客户定制HBM底层裸片逻辑、未来由晶圆代工厂生产底层裸片,以及垂直HBM具体采用何种键合工艺等说法,也没有在现有材料中得到充分证实。
较明确的结论是,美光认为AI正在提高市场对内存和存储的要求,并计划通过多代DRAM、HBM与NAND技术应对。路线图的大方向相对清晰,但具体规格和落地方式仍有待进一步确认。