ASML削减EUV光刻机30%生产周期，剑指2027年产量翻倍，缓解AI芯片瓶颈

2027年和2028年的产能目标

ASML制定了一份清晰的多年产能路线图，其目标相较早先的指引有了显著提高：

• 2027年低数值孔径EUV约85台的产能数字，意味着在2026年规划的约65台基础上再增长约30%。2027年的几乎全部产能已被客户预订。
• 美银证券将其2028年低数值孔径EUV设备交付量预测上调至97台，反映出对持续扩张的信心。巴克莱银行的模型更为乐观，预测2027年和2028年分别交付90台和100台。
• 这些产能计划明确考虑了埃隆·马斯克计划在得克萨斯州建设的Terafab超级工厂的需求。

ASML还指出，理论上到2027年，仅通过效率提升而不增加物理工厂产能，就可以交付多达90台EUV设备。包括摩根大通在内的一些分析师认为，如果需求持续强劲，到2028年ASML的产量甚至可能达到110台。

与AI芯片瓶颈的直接关联

在尖端半导体生产中，EUV光刻机是约束性最强的单一工具。每一块先进的AI芯片——无论是英伟达的GPU、AMD的加速器，还是谷歌或亚马逊的定制芯片——都必须依赖EUV光刻机来刻画最微小的电路特征。每台光刻机的制造周期约一年，这直接限制了AI基础设施扩张的速度。CEO Christophe Fouquet表示，公司正在“尽一切努力”加快交付，以满足AI需求激增带来的挑战。

通过同步实现：

• 将生产周期缩短约30%，
• 提高单台设备的晶圆产能（NXE:3800E每小时230片，较160片提升43%），
• 将低数值孔径EUV的年产量从2025年的约44台到2027年翻番至80台以上，

ASML正在直接解决制约AI芯片生产的供给端瓶颈。此外，该公司还成功演示了1000瓦特的EUV光源，这项突破有望在2030年前使整体芯片产量增加50%。

2026年第二季度财报

ASML于2026年7月15日公布的第二季度业绩全面超过了公司自身指引和华尔街预期：

修订后的2026年全年营收指引

得益于AI芯片需求的持续激增，ASML今年第二次上调了2026年全年的净销售额展望：

• 新的2026年指引：430亿至450亿欧元
• 之前指引（2026年4月）：360亿至400亿欧元
• 最初指引（2026年初）：340亿至390亿欧元

该公司还预计2026年第三季度的净销售额在110亿至120亿欧元之间，毛利率为55-57%。