ASML：EUV光刻机生产周期缩短30%，2027年产能将达85台

• 2027年低NA EUV产能目标意味着大约85台系统的产能，其中绝大部分已被客户预订。
• 美银证券（BofA）将2028年低NA EUV出货量预测上调至97台，反映出对ASML持续扩产能力的信心。
• 这些产能计划明确考虑了埃隆·马斯克计划在得克萨斯州建设的Terafab芯片工厂的设备需求。

与AI芯片瓶颈的联系

EUV光刻机是先进芯片制造中受限最严重的设备——每台造价约3亿美元，建造周期约一年，直接制约着AI基础设施的扩张速度。通过：

• 将生产周期缩短约30%，
• 将年出货量从2025年的约44台提升至2027年的80台以上，
• 以及提升单机晶圆吞吐量（NXE:3800E达230片/小时），

ASML正在直接解决先进AI芯片（GPU、加速器、高带宽存储器）的供应端瓶颈。首席执行官Christophe Fouquet表示，公司正“竭尽全力”加速交付，以满足由AI驱动的激增需求。产能扩张也考虑了Terafab项目，该项目本身就是一个聚焦AI的超大规模晶圆厂。

2026年第二季度财报

财报发布于2026年7月15日（金额单位为欧元）：

修订后的2026年全年营收指引

ASML今年第二次上调了2026年全年净销售额展望：

• 新2026年指引：430亿至450亿欧元
• 此前指引（2026年4月）：360亿至400亿欧元
• 最初指引（2026年初）：340亿至390亿欧元

公司还给出了与这一上调后的全年轨迹相匹配的2026年第三季度净销售额指引区间。