High-NA EUV của ASML đang định hình lại cuộc đua chip giữa Intel và TSMC
Intel đã đưa hệ thống High NA EUV EXE của ASML vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần chip Panther Lake. Các lớp được chọn được chứng nhận kép với EUV NXE truyền thống và đạt tỷ lệ sản phẩm tương đương, nhưng High NA chưa được sử dụng cho toàn bộ chip hay toàn bộ tiến...
Đăng bởiBiên tập bằng GPT-5.6 LunaHình ảnh được tạo bằng GPT Image 1.5
Intel đã đưa hệ thống High NA EUV EXE của ASML vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần chip Panther Lake.
Các lớp được chọn được chứng nhận kép với EUV NXE truyền thống và đạt tỷ lệ sản phẩm tương đương, nhưng High NA chưa được sử dụng cho toàn bộ chip hay toàn bộ tiến trình.
TSMC cho rằng High NA chưa cần thiết đối với công nghệ A16, thay vào đó dựa vào EUV khẩu độ 0,33, cải tiến tích hợp quy trình, đóng gói tiên tiến và thiết kế chip.
ASML vẫn là nút thắt không thể thay thế trong lĩnh vực quang khắc tiên tiến, nhưng việc TSMC trì hoãn có thể khiến doanh thu High NA tăng dần thay vì bùng nổ trên toàn ngành.
How is ASML’s roughly $400 million High-NA EUV lithography technology reshaping competition and strategy in the semiconductor industry—partiHigh-NA EUV is becoming a production decision, not just a lithography demonstration, as Intel adopts it selectively and TSMC weighs the economics of waiting.
Prompt AI
Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: How is ASML’s roughly $400 million High-NA EUV lithography technology reshaping competition and strategy in the semiconductor industry—parti. Article summary: High-NA EUV is shifting competition from a shared equipment roadmap to a strategic timing choice: Intel is using early adoption to demonstrate a process-leadership comeback, while TSMC is prioritizing cost-effective scal. Topic tags: general, general web, news, user generated. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts w
openai.com
Cuộc đua không còn chỉ là ai sở hữu công nghệ mới nhất
High-NA EUV đang biến cuộc cạnh tranh trong ngành bán dẫn từ một cuộc đua công nghệ thuần túy thành bài toán lựa chọn thời điểm. Intel muốn tận dụng lợi thế triển khai sớm để chứng minh khả năng giành lại vị thế dẫn đầu về quy trình sản xuất. Trong khi đó, TSMC đang chọn cách thận trọng hơn: tiếp tục mở rộng bằng EUV hiện tại, tối ưu quy trình và cải tiến thiết kế cho đến khi hiệu quả kinh tế của High-NA đủ thuyết phục.
High-NA EUV vẫn sử dụng ánh sáng cực tím bước sóng 13,5 nanomet nhưng nâng khẩu độ số từ 0,33 lên 0,55. Về lý thuyết, hệ thống này có thể cải thiện độ phân giải và giúp in một số lớp mạch quan trọng bằng ít bước tạo hình hơn. Tuy nhiên, mỗi máy có giá khoảng 400 triệu USD trở lên, khiến quyết định triển khai không chỉ phụ thuộc vào khả năng kỹ thuật mà còn vào chi phí trên mỗi wafer.
Intel đặt cược vào lợi thế đi trước
Intel Foundry đã đưa nền tảng High-NA EUV EXE của ASML, trong đó có hệ thống TWINSCAN EXE:5200B, vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần sản phẩm Panther Lake/Core Ultra Series 3. Các lớp này được chứng nhận kép với nền tảng EUV NXE 0,33 truyền thống và đang xuất xưởng với tỷ lệ sản phẩm tương đương. Đây là dấu hiệu quan trọng cho thấy High-NA đã vượt qua giai đoạn trình diễn kỹ thuật để tiến vào sản xuất thực tế.
Tuy nhiên, điều đó không có nghĩa toàn bộ chip Panther Lake hay toàn bộ tiến trình Intel 18A phụ thuộc vào High-NA. Việc chứng nhận kép cho thấy Intel vẫn duy trì phương án dự phòng bằng EUV truyền thống. Cách tiếp cận này làm giảm rủi ro vận hành, nhưng đồng thời cũng giới hạn sản lượng ngay lập tức của những sản phẩm phụ thuộc hoàn toàn vào High-NA.
Studio Global AI
Tiếp tục nghiên cứu của bạn
Trang này bao gồm câu trả lời dựa trên nguồn mà bạn có thể tiếp tục bên trong Studio Global.
Câu trả lời ngắn gọn cho "High-NA EUV của ASML đang định hình lại cuộc đua chip giữa Intel và TSMC" là gì?
Intel đã đưa hệ thống High NA EUV EXE của ASML vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần chip Panther Lake.
Những điểm chính cần xác nhận đầu tiên là gì?
Intel đã đưa hệ thống High NA EUV EXE của ASML vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần chip Panther Lake. Các lớp được chọn được chứng nhận kép với EUV NXE truyền thống và đạt tỷ lệ sản phẩm tương đương, nhưng High NA chưa được sử dụng cho toàn bộ chip hay toàn bộ tiến trình.
Tôi nên làm gì tiếp theo trong thực tế?
TSMC cho rằng High NA chưa cần thiết đối với công nghệ A16, thay vào đó dựa vào EUV khẩu độ 0,33, cải tiến tích hợp quy trình, đóng gói tiên tiến và thiết kế chip.
High-NA EUV của ASML đang định hình lại cuộc đua chip giữa Intel và TSMC
Intel đã đưa hệ thống High NA EUV EXE của ASML vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần chip Panther Lake. Các lớp được chọn được chứng nhận kép với EUV NXE truyền thống và đạt tỷ lệ sản phẩm tương đương, nhưng High NA chưa được sử dụng cho toàn bộ chip hay toàn bộ tiến...
Đăng bởiBiên tập bằng GPT-5.6 LunaHình ảnh được tạo bằng GPT Image 1.5
Intel đã đưa hệ thống High NA EUV EXE của ASML vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần chip Panther Lake.
Các lớp được chọn được chứng nhận kép với EUV NXE truyền thống và đạt tỷ lệ sản phẩm tương đương, nhưng High NA chưa được sử dụng cho toàn bộ chip hay toàn bộ tiến trình.
TSMC cho rằng High NA chưa cần thiết đối với công nghệ A16, thay vào đó dựa vào EUV khẩu độ 0,33, cải tiến tích hợp quy trình, đóng gói tiên tiến và thiết kế chip.
ASML vẫn là nút thắt không thể thay thế trong lĩnh vực quang khắc tiên tiến, nhưng việc TSMC trì hoãn có thể khiến doanh thu High NA tăng dần thay vì bùng nổ trên toàn ngành.
How is ASML’s roughly $400 million High-NA EUV lithography technology reshaping competition and strategy in the semiconductor industry—partiHigh-NA EUV is becoming a production decision, not just a lithography demonstration, as Intel adopts it selectively and TSMC weighs the economics of waiting.
Prompt AI
Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: How is ASML’s roughly $400 million High-NA EUV lithography technology reshaping competition and strategy in the semiconductor industry—parti. Article summary: High-NA EUV is shifting competition from a shared equipment roadmap to a strategic timing choice: Intel is using early adoption to demonstrate a process-leadership comeback, while TSMC is prioritizing cost-effective scal. Topic tags: general, general web, news, user generated. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts w
openai.com
Cuộc đua không còn chỉ là ai sở hữu công nghệ mới nhất
High-NA EUV đang biến cuộc cạnh tranh trong ngành bán dẫn từ một cuộc đua công nghệ thuần túy thành bài toán lựa chọn thời điểm. Intel muốn tận dụng lợi thế triển khai sớm để chứng minh khả năng giành lại vị thế dẫn đầu về quy trình sản xuất. Trong khi đó, TSMC đang chọn cách thận trọng hơn: tiếp tục mở rộng bằng EUV hiện tại, tối ưu quy trình và cải tiến thiết kế cho đến khi hiệu quả kinh tế của High-NA đủ thuyết phục.
High-NA EUV vẫn sử dụng ánh sáng cực tím bước sóng 13,5 nanomet nhưng nâng khẩu độ số từ 0,33 lên 0,55. Về lý thuyết, hệ thống này có thể cải thiện độ phân giải và giúp in một số lớp mạch quan trọng bằng ít bước tạo hình hơn. Tuy nhiên, mỗi máy có giá khoảng 400 triệu USD trở lên, khiến quyết định triển khai không chỉ phụ thuộc vào khả năng kỹ thuật mà còn vào chi phí trên mỗi wafer.
Intel đặt cược vào lợi thế đi trước
Intel Foundry đã đưa nền tảng High-NA EUV EXE của ASML, trong đó có hệ thống TWINSCAN EXE:5200B, vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần sản phẩm Panther Lake/Core Ultra Series 3. Các lớp này được chứng nhận kép với nền tảng EUV NXE 0,33 truyền thống và đang xuất xưởng với tỷ lệ sản phẩm tương đương. Đây là dấu hiệu quan trọng cho thấy High-NA đã vượt qua giai đoạn trình diễn kỹ thuật để tiến vào sản xuất thực tế.
Tuy nhiên, điều đó không có nghĩa toàn bộ chip Panther Lake hay toàn bộ tiến trình Intel 18A phụ thuộc vào High-NA. Việc chứng nhận kép cho thấy Intel vẫn duy trì phương án dự phòng bằng EUV truyền thống. Cách tiếp cận này làm giảm rủi ro vận hành, nhưng đồng thời cũng giới hạn sản lượng ngay lập tức của những sản phẩm phụ thuộc hoàn toàn vào High-NA.
Studio Global AI
Tiếp tục nghiên cứu của bạn
Trang này bao gồm câu trả lời dựa trên nguồn mà bạn có thể tiếp tục bên trong Studio Global.
Câu trả lời ngắn gọn cho "High-NA EUV của ASML đang định hình lại cuộc đua chip giữa Intel và TSMC" là gì?
Intel đã đưa hệ thống High NA EUV EXE của ASML vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần chip Panther Lake.
Những điểm chính cần xác nhận đầu tiên là gì?
Intel đã đưa hệ thống High NA EUV EXE của ASML vào sản xuất khối lượng lớn trên một số lớp của tiến trình Intel 18A dành cho một phần chip Panther Lake. Các lớp được chọn được chứng nhận kép với EUV NXE truyền thống và đạt tỷ lệ sản phẩm tương đương, nhưng High NA chưa được sử dụng cho toàn bộ chip hay toàn bộ tiến trình.
Tôi nên làm gì tiếp theo trong thực tế?
TSMC cho rằng High NA chưa cần thiết đối với công nghệ A16, thay vào đó dựa vào EUV khẩu độ 0,33, cải tiến tích hợp quy trình, đóng gói tiên tiến và thiết kế chip.
Giá trị chiến lược lớn nhất của Intel nằm ở dữ liệu học hỏi sớm: kinh nghiệm vận hành thiết bị, dữ liệu về độ phủ và tỷ lệ sản phẩm, cũng như khả năng đánh giá chi phí ở quy mô sản xuất. Nếu High-NA giúp giảm số lần tạo hình, tăng mật độ transistor hoặc rút ngắn lộ trình đến các tiến trình tương lai, Intel có thể dùng kết quả này để củng cố uy tín với các khách hàng gia công bên ngoài.
TSMC chọn hiệu quả kinh tế thay vì chạy đua triển khai
TSMC cho biết High-NA chưa cần thiết cho công nghệ A16 và chưa cam kết đưa thiết bị này vào sản xuất khối lượng lớn ngay lập tức. Hãng tiếp tục dựa trên EUV khẩu độ 0,33, kết hợp với tối ưu tích hợp quy trình, tạo hình nhiều lần ở những lớp phù hợp, đóng gói tiên tiến và các cải tiến ở cấp độ chip, hệ thống.
Lựa chọn này giúp TSMC tránh phải đầu tư hàng trăm triệu USD cho mỗi thiết bị trước khi lợi ích kinh tế trở nên rõ ràng. Đổi lại, Intel đang có cơ hội tích lũy kinh nghiệm sản xuất High-NA trước đối thủ gia công lớn nhất của mình. TSMC có thể chờ đến khi năng suất, độ ổn định và chi phí được chứng minh đầy đủ rồi mới mở rộng đầu tư.
Vì thế, khác biệt giữa hai công ty không hẳn là Intel tin vào High-NA còn TSMC phản đối công nghệ này. Đây là sự khác biệt về thời điểm: Intel chấp nhận chi phí và rủi ro sớm để giành lợi thế học hỏi, còn TSMC muốn khai thác tối đa nền tảng hiện tại trước khi nâng cấp.
High-NA đã có bằng chứng thương mại, nhưng chưa tạo doanh thu bùng nổ
ASML cho biết các hệ thống High-NA đã xử lý 500.000 wafer và sẵn sàng cho sản xuất hàng loạt. Giám đốc công nghệ của công ty dự kiến công nghệ này sẽ được tích hợp rộng rãi vào hoạt động sản xuất trong vòng hai đến ba năm tiếp theo. Trước đó, CEO Christophe Fouquet nói những con chip đầu tiên được chế tạo bằng máy High-NA sẽ xuất hiện trong vài tháng. Cột mốc Panther Lake của Intel đã cung cấp một bằng chứng sản xuất thực tế cho dự báo này.
Dù vậy, kết quả tài chính trước mắt của ASML không hoàn toàn phụ thuộc vào High-NA. Sau khi ghi nhận doanh thu quý II đạt 9,33 tỷ euro, ASML nâng dự báo doanh thu cả năm 2026 lên 43–45 tỷ euro và cho biết sẽ tăng công suất 30% trong các năm 2027–2028, trong bối cảnh nhu cầu thiết bị phục vụ chip AI tăng mạnh.
Trong quý II, ASML chỉ ghi nhận một hệ thống High-NA trong doanh số EUV. Điều đó cho thấy EUV truyền thống, DUV, dịch vụ bảo trì và kế hoạch mở rộng công suất phục vụ AI vẫn là những động lực doanh thu lớn hơn trong ngắn hạn.
TSMC trì hoãn sẽ ảnh hưởng thế nào đến ASML?
TSMC là một trong những khách hàng mua thiết bị sản xuất chip tiên tiến lớn nhất thế giới. Vì vậy, việc hãng chưa triển khai High-NA trên quy mô lớn nhiều khả năng sẽ làm chậm thời điểm doanh thu High-NA tăng mạnh trên toàn ngành.
Nhưng sự trì hoãn này không đồng nghĩa với việc cơ hội của ASML biến mất. Ngược lại, việc Intel đưa High-NA vào sản xuất giúp giảm rủi ro công nghệ và cung cấp dữ liệu thực tế cho các khách hàng khác. Nếu TSMC chờ đến khi hiệu quả kinh tế được xác nhận, hãng có thể tạo ra một chu kỳ nâng cấp lớn hơn vào thời điểm sau này. Vấn đề cốt lõi là thời gian và hiệu quả nhà máy, chứ không phải liệu hiện đã có nhà cung cấp nào đủ sức thay thế ASML ở biên giới EUV hay chưa.
Rủi ro riêng từ Trung Quốc và DUV
Rủi ro chiến lược liên quan đến Trung Quốc và thiết bị DUV là một câu chuyện khác với cuộc đua High-NA. Các hạn chế xuất khẩu và dịch vụ đối với thiết bị tiên tiến có thể làm giảm doanh thu dịch vụ, thay thế thiết bị DUV của ASML tại Trung Quốc, đồng thời thúc đẩy nỗ lực nội địa hóa của các doanh nghiệp nước này.
Một số tuyên bố về kế hoạch sản xuất năm hệ thống DUV immersion của Shanghai Aishengna, con số mua lại cổ phiếu 78,1 triệu euro mỗi ngày trong tháng 8 hoặc động cơ kinh tế cụ thể đằng sau chính sách xuất khẩu chưa có đủ bằng chứng có độ tin cậy cao trong các nguồn được cung cấp để xác minh. Ngay cả nếu kế hoạch DUV nói trên được thực hiện, nó cũng chưa phải là thách thức đáng tin cậy đối với vị thế độc quyền EUV của ASML trong ngắn hạn.
Ba chỉ dấu cần theo dõi
Tác động lâu dài của High-NA sẽ được quyết định bởi ba câu hỏi:
Intel có mở rộng High-NA từ một số lớp được chọn của Panther Lake sang nhiều lớp và nhiều sản phẩm hơn hay không?
High-NA có giúp giảm tổng chi phí trên mỗi wafer so với EUV truyền thống hay không?
Khi nào TSMC chuyển từ giai đoạn đánh giá sang cam kết mua thiết bị để sản xuất?
Ba yếu tố này quan trọng hơn mức giá niêm yết của từng chiếc máy. Intel đang dùng High-NA để mua trước kinh nghiệm và một lợi thế về câu chuyện công nghệ; TSMC đang dùng thời gian để chờ bài toán chi phí được giải đáp. Còn ASML vẫn giữ vị trí trung tâm, nhưng tốc độ tăng trưởng doanh thu High-NA sẽ phụ thuộc vào thời điểm các nhà sản xuất chip biến năng lực kỹ thuật thành hiệu quả kinh tế thực sự.
Giá trị chiến lược lớn nhất của Intel nằm ở dữ liệu học hỏi sớm: kinh nghiệm vận hành thiết bị, dữ liệu về độ phủ và tỷ lệ sản phẩm, cũng như khả năng đánh giá chi phí ở quy mô sản xuất. Nếu High-NA giúp giảm số lần tạo hình, tăng mật độ transistor hoặc rút ngắn lộ trình đến các tiến trình tương lai, Intel có thể dùng kết quả này để củng cố uy tín với các khách hàng gia công bên ngoài.
TSMC chọn hiệu quả kinh tế thay vì chạy đua triển khai
TSMC cho biết High-NA chưa cần thiết cho công nghệ A16 và chưa cam kết đưa thiết bị này vào sản xuất khối lượng lớn ngay lập tức. Hãng tiếp tục dựa trên EUV khẩu độ 0,33, kết hợp với tối ưu tích hợp quy trình, tạo hình nhiều lần ở những lớp phù hợp, đóng gói tiên tiến và các cải tiến ở cấp độ chip, hệ thống.
Lựa chọn này giúp TSMC tránh phải đầu tư hàng trăm triệu USD cho mỗi thiết bị trước khi lợi ích kinh tế trở nên rõ ràng. Đổi lại, Intel đang có cơ hội tích lũy kinh nghiệm sản xuất High-NA trước đối thủ gia công lớn nhất của mình. TSMC có thể chờ đến khi năng suất, độ ổn định và chi phí được chứng minh đầy đủ rồi mới mở rộng đầu tư.
Vì thế, khác biệt giữa hai công ty không hẳn là Intel tin vào High-NA còn TSMC phản đối công nghệ này. Đây là sự khác biệt về thời điểm: Intel chấp nhận chi phí và rủi ro sớm để giành lợi thế học hỏi, còn TSMC muốn khai thác tối đa nền tảng hiện tại trước khi nâng cấp.
High-NA đã có bằng chứng thương mại, nhưng chưa tạo doanh thu bùng nổ
ASML cho biết các hệ thống High-NA đã xử lý 500.000 wafer và sẵn sàng cho sản xuất hàng loạt. Giám đốc công nghệ của công ty dự kiến công nghệ này sẽ được tích hợp rộng rãi vào hoạt động sản xuất trong vòng hai đến ba năm tiếp theo. Trước đó, CEO Christophe Fouquet nói những con chip đầu tiên được chế tạo bằng máy High-NA sẽ xuất hiện trong vài tháng. Cột mốc Panther Lake của Intel đã cung cấp một bằng chứng sản xuất thực tế cho dự báo này.
Dù vậy, kết quả tài chính trước mắt của ASML không hoàn toàn phụ thuộc vào High-NA. Sau khi ghi nhận doanh thu quý II đạt 9,33 tỷ euro, ASML nâng dự báo doanh thu cả năm 2026 lên 43–45 tỷ euro và cho biết sẽ tăng công suất 30% trong các năm 2027–2028, trong bối cảnh nhu cầu thiết bị phục vụ chip AI tăng mạnh.
Trong quý II, ASML chỉ ghi nhận một hệ thống High-NA trong doanh số EUV. Điều đó cho thấy EUV truyền thống, DUV, dịch vụ bảo trì và kế hoạch mở rộng công suất phục vụ AI vẫn là những động lực doanh thu lớn hơn trong ngắn hạn.
TSMC trì hoãn sẽ ảnh hưởng thế nào đến ASML?
TSMC là một trong những khách hàng mua thiết bị sản xuất chip tiên tiến lớn nhất thế giới. Vì vậy, việc hãng chưa triển khai High-NA trên quy mô lớn nhiều khả năng sẽ làm chậm thời điểm doanh thu High-NA tăng mạnh trên toàn ngành.
Nhưng sự trì hoãn này không đồng nghĩa với việc cơ hội của ASML biến mất. Ngược lại, việc Intel đưa High-NA vào sản xuất giúp giảm rủi ro công nghệ và cung cấp dữ liệu thực tế cho các khách hàng khác. Nếu TSMC chờ đến khi hiệu quả kinh tế được xác nhận, hãng có thể tạo ra một chu kỳ nâng cấp lớn hơn vào thời điểm sau này. Vấn đề cốt lõi là thời gian và hiệu quả nhà máy, chứ không phải liệu hiện đã có nhà cung cấp nào đủ sức thay thế ASML ở biên giới EUV hay chưa.
Rủi ro riêng từ Trung Quốc và DUV
Rủi ro chiến lược liên quan đến Trung Quốc và thiết bị DUV là một câu chuyện khác với cuộc đua High-NA. Các hạn chế xuất khẩu và dịch vụ đối với thiết bị tiên tiến có thể làm giảm doanh thu dịch vụ, thay thế thiết bị DUV của ASML tại Trung Quốc, đồng thời thúc đẩy nỗ lực nội địa hóa của các doanh nghiệp nước này.
Một số tuyên bố về kế hoạch sản xuất năm hệ thống DUV immersion của Shanghai Aishengna, con số mua lại cổ phiếu 78,1 triệu euro mỗi ngày trong tháng 8 hoặc động cơ kinh tế cụ thể đằng sau chính sách xuất khẩu chưa có đủ bằng chứng có độ tin cậy cao trong các nguồn được cung cấp để xác minh. Ngay cả nếu kế hoạch DUV nói trên được thực hiện, nó cũng chưa phải là thách thức đáng tin cậy đối với vị thế độc quyền EUV của ASML trong ngắn hạn.
Ba chỉ dấu cần theo dõi
Tác động lâu dài của High-NA sẽ được quyết định bởi ba câu hỏi:
Intel có mở rộng High-NA từ một số lớp được chọn của Panther Lake sang nhiều lớp và nhiều sản phẩm hơn hay không?
High-NA có giúp giảm tổng chi phí trên mỗi wafer so với EUV truyền thống hay không?
Khi nào TSMC chuyển từ giai đoạn đánh giá sang cam kết mua thiết bị để sản xuất?
Ba yếu tố này quan trọng hơn mức giá niêm yết của từng chiếc máy. Intel đang dùng High-NA để mua trước kinh nghiệm và một lợi thế về câu chuyện công nghệ; TSMC đang dùng thời gian để chờ bài toán chi phí được giải đáp. Còn ASML vẫn giữ vị trí trung tâm, nhưng tốc độ tăng trưởng doanh thu High-NA sẽ phụ thuộc vào thời điểm các nhà sản xuất chip biến năng lực kỹ thuật thành hiệu quả kinh tế thực sự.