Скільки часу Китаю потрібно, щоб наздогнати лідерів у EUV-літографії

Оцінки від Zeiss і UBS свідчать про значне відставання Китаю в найсучаснішій літографії, але не є точним календарем наздоганяння. Френк Ромунд, який очолює напівпровідниковий підрозділ Zeiss, назвав приблизно 15 років обґрунтованою оцінкою для розробки Китаєм власних EUV-установок. UBS, зі свого боку, вважає малоймовірною появу життєздатної альтернативи технології ASML упродовж наступного десятиліття. Йдеться про пов’язані, але не тотожні орієнтири, а фактичний поступ Китаю, за словами Ромунда, складно виміряти. 13

Чому EUV так складно відтворити

Літографічні установки допомагають наносити на кремнієві пластини візерунки крихітних елементів, з яких формуються мікросхеми. EUV — літографія з використанням екстремального ультрафіолету — перебуває в центрі дискусії про технологічне відставання Китаю. Оцінка UBS стосується того, чи зможе країна створити обладнання, здатне замінити найсучаснішу EUV-технологію ASML. Ромунд застеріг: оцінку в 15 років не слід сприймати як точний відлік до появи такої машини. 13

Завдання не обмежується конструкцією самої установки. Zeiss постачає спеціалізовану оптику для EUV-систем ASML, тож її компоненти — важлива частина ланцюга постачання передового літографічного обладнання. 2

DUV може розвиватися швидше — але це інша технологія

Ближчою перспективою для Китаю може бути іммерсійна DUV-літографія — попереднє покоління обладнання. За повідомленнями про оцінку UBS, китайські установки цього типу можуть вийти на масове виробництво за два-п’ять років. Це прогноз щодо розвитку місцевого виробництва обладнання, а не свідчення прориву в EUV чи появи заміни найсучаснішим системам ASML. 3

Цю різницю важливо не губити: прогноз щодо DUV не означає, що Китай уже подолав відставання в EUV. У наведених оцінках ці напрями розглядають окремо. 3

Експортні обмеження можуть мати подвійний ефект

Повідомляється, що постачання EUV-систем до Китаю заборонене, а для експорту частини передових іммерсійних DUV-установок потрібні дозволи. Такі обмеження ускладнюють доступ до закордонного обладнання. Водночас Ромунд попередив: розширення контролю за експортом може підштовхнути Китай швидше розвивати власні технології. 2311

Тому довгостроковий ефект обмежень не зводиться до простої формули «перевага однієї сторони». Вони стримують доступ до інструментів, але водночас можуть посилити стимул створювати внутрішні альтернативи. Наявні оцінки не дають змоги визначити, наскільки швидко такий стимул здатен скоротити технологічний розрив. 2

Попит на AI і виробничі плани Zeiss

Зростання попиту, пов’язаного зі штучним інтелектом, впливає і на ринок обладнання для виробництва чипів. За повідомленням про реакцію Zeiss на більшу потребу в напівпровідниковій оптиці, компанія розширила головний майданчик свого напівпровідникового виробництва, будує додаткові потужності на іншому об’єкті та заявила, що за потреби може нарощувати виробництво й надалі.

Це опис реакції на зростання попиту, а не заявлений план, спеціально спрямований на розвиток китайської EUV-технології чи експортні обмеження. Важливо розрізняти ці теми: галузь одночасно змагається за передову літографію і має задовольняти потребу в більшій кількості оптики.

Що можна виснувати з цих прогнозів

Найобережніше прочитання таке: Китай може швидше просунутися в DUV, тоді як оцінки щодо власної EUV-установки або життєздатної альтернативи вимірюються десятиліттям і більше. П’ятнадцятирічний горизонт назвав керівник великого постачальника обладнання, а оцінка UBS є прогнозом аналітиків. Жодна з них не гарантує конкретного терміну. 13

У цій картині варто тримати в голові три речі: оптика Zeiss є важливою частиною ланцюга постачання EUV-систем ASML; експортні обмеження звужують доступ до передового обладнання, але можуть також заохочувати власні розробки; а зростання попиту, пов’язаного з AI, спонукає Zeiss збільшувати потужності. Як ці чинники взаємодіятимуть, визначатиме подальший розвиток ринку, але доступні повідомлення не дають точної відповіді, коли — і чи взагалі — Китай зрівняється з нинішніми EUV-системами. 23