27–28 липня видання The Information, а згодом і Reuters повідомили, що консорціум китайських компаній, до якого, за наявними даними, входять Huawei та SiCarrier, розпочав виробництво вітчизняних машин для immersion DUV-літографії . Проєкт очолює маловідома шанхайська державна компанія Shanghai Aishengna Electronic Technology Group .
Йдеться про обладнання, яке за допомогою глибокого ультрафіолетового випромінювання наносить надзвичайно тонкі візерунки на кремнієві пластини — один із ключових етапів виготовлення чипів.
27 липня акції ASML падали протягом дня більш ніж на 8% і завершили сесію приблизно на 6% нижче. Новина також потягнула вниз американських виробників обладнання Applied Materials, Lam Research і KLA .
Падіння відбулося на тлі вже слабкого місяця для напівпровідникового сектору: інвестори фіксували прибутки після сильного зростання, розчарувалися результатами Samsung і побоювалися, що клієнти відкладатимуть дорогі оновлення виробничих потужностей . Китайська новина стала тим самим каталізатором, який перервав період відносної стабілізації.
Головний аргумент Уолл-стриту простий: повідомлення справді важливе для технологічної незалежності Китаю, але його безпосередній вплив на бізнес ASML поки що дуже обмежений.
Китайський проєкт передбачає близько 5 поставок у 2026 році та приблизно 20 у 2027-му . Для порівняння, ASML постачає сотні систем на рік, а її портфель замовлень уже розписаний до 2027 року . Саме цей розрив у масштабах, на думку аналітиків, ринок спочатку фактично проігнорував.
Китайський консорціум почав виробництво власних immersion DUV-систем і планує постачати їх місцевим виробникам чипів, серед яких називають SMIC, Hua Hong і CXMT . Це важлива віха для Пекіна, адже вона зменшує залежність від іноземного обладнання в умовах американських експортних обмежень.
Водночас Reuters повідомляв, що нові машини поки поступаються за продуктивністю та надійністю й потребують додаткових випробувань, перш ніж зможуть зрівнятися з обладнанням ASML за якістю результату . Тому слова «масове виробництво» в цьому випадку не варто автоматично сприймати як доказ готового конкурента глобального масштабу: початкові обсяги залишаються дуже невеликими.
Найбільша технологічна перевага ASML — системи EUV, або літографії в екстремальному ультрафіолеті. Саме вони потрібні для виробництва найсучасніших чипів, а комерційно виготовляти такі машини наразі здатна лише ASML.
У грудні 2025 року Reuters повідомляв, що команда колишніх інженерів ASML у Шеньчжені створила прототип EUV-машини та випробовувала його в лабораторії з високим рівнем безпеки . Однак прототип ще не виготовив жодного працездатного чипа . Китайські керівники напівпровідникової галузі закликають до єдиної національної програми зі створення повноцінних літографічних систем у 2026–2030 роках, визнаючи значні прогалини в EDA-програмному забезпеченні, базових матеріалах і самій EUV-технології .
У короткостроковій перспективі він, імовірно, буде невеликим. За словами фінансового директора ASML Роджера Дассена, Китай забезпечить близько 20% чистих продажів компанії у 2026 році — це вже менше, ніж 44% у 2024-му та 42% у 2025-му .
Крім того, частка DUV у загальних продажах ASML знизилася з 44% у 2024 році до 29% в останньому кварталі . Бізнес дедалі більше спирається на дорожчі та технологічно складніші EUV-системи, які Китай поки не може придбати через експортні обмеження.
Bank of America підрахував, що навіть перехід Китаю на 20 локальних машин категорії argon fluoride immersion — до неї належать DUV-системи — зменшив би продажі ASML наступного року приблизно на €1,4 млрд, або лише на 2,4% . Це зовсім інший масштаб, ніж десятки мільярдів євро, які інвестори одномоментно стерли з капіталізації компанії.
Попри перебільшені короткострокові побоювання, стратегічний ризик для ASML є реальним. Компанія опинилася між американською політикою експортного контролю та китайською програмою технологічної самодостатності.
США вже забороняють постачати Китаю найсучасніше обладнання EUV, а обмеження поширюються і на старіші DUV-системи . У відповідь Китай розвиває власну літографію, шукає способи підвищити ефективність доступних AI-чипів і, за окремими повідомленнями, може намагатися отримувати обладнання ASML несанкціонованими каналами .
Американський міністр торгівлі Говард Латнік, як повідомлялося, ставив керівникам ASML запитання щодо побоювань, що одна з EUV-систем компанії могла потрапити до Китаю в обхід експортних правил . Водночас ASML не може контролювати, де працюватимуть її колишні співробітники. Компанія заявляє, що вони пов'язані угодами про конфіденційність, а в окремих випадках ASML домагалася юридичних заходів через імовірне викрадення комерційних таємниць .
Китайський прорив у DUV — значуща подія для його напівпровідникової промисловості та символічний удар по багаторічній монополії ASML. Але між створенням перших локальних машин і появою конкурента, здатного працювати у глобальному промисловому масштабі, лежить велика дистанція.
П'ять систем у 2026 році проти сотень у ASML, обмежена надійність китайського обладнання, портфель замовлень ASML до 2027 року та величезне відставання Китаю в EUV свідчать: загроза існує, але її комерційний вплив — це питання років, а не найближчих місяців. Саме тому падіння капіталізації ASML на €60 млрд аналітики вважають реакцією, яка випередила реальні фінансові наслідки новини.