Çin, kendi EUV litografi makinesini ne zaman geliştirebilir?

Çin’in kendi aşırı ultraviyole (EUV) litografi makinesini geliştirmesi için ne kadar zamana ihtiyaç duyacağı kesin değil. Ancak iki tahmin, mevcut açığın kısa sürede kapanmasının beklenmediğine işaret ediyor: Zeiss’in yarı iletken bölümünü yöneten Frank Rohmund, yaklaşık 15 yılı makul bir tahmin olarak nitelendiriyor. UBS ise ASML’nin EUV teknolojisine uygulanabilir bir alternatifin önümüzdeki on yıl içinde geliştirilmesini düşük ihtimal görüyor. Bunlar kesin tarihler değil; ayrıca aynı hedefi bire bir ölçen tahminler de değiller. 13

EUV neden bu kadar zor?

Litografi makineleri, çiplerin üzerindeki devre desenlerini oluşturmak için kullanılıyor. EUV, bu alandaki en ileri teknolojiye ilişkin tartışmanın merkezinde. UBS’nin değerlendirmesi, Çin’in ASML’nin önde gelen EUV teknolojisinin yerini alabilecek bir sistem geliştirip geliştiremeyeceğine odaklanıyor. Rohmund ise Çin’in ilerleme düzeyini ölçmenin zor olduğunu vurguluyor; bu nedenle 15 yıllık tahmini takvimden geri sayım gibi okumamak gerekiyor. 13

Mesele yalnızca bir makine tasarlamak da değil. Alman optik şirketi Zeiss, ASML’nin EUV sistemlerinde kullanılan özel optiklerin önemli tedarikçilerinden biri. Bu ilişki, söz konusu optik bileşenleri gelişmiş litografi sistemlerinin üretim zincirinin kritik parçalarından biri hâline getiriyor. 2

DUV daha yakın bir hedef; ama EUV değil

Çin’in daha yakın vadede ilerleme kaydedebileceği alan, daha eski bir teknoloji sınıfı olan daldırmalı derin ultraviyole (DUV) litografisi. UBS analistlerinin, Çin’in daldırmalı DUV sistemlerinde iki ila beş yıl içinde yüksek hacimli üretime ulaşabileceğini öngördüğü bildiriliyor. Bu tahmin, yerli ekipman üretiminde ilerlemeye işaret ediyor; EUV atılımına ya da ASML’nin en ileri sistemlerinin yerini alacak bir çözüme değil. 3

Bu ayrımı korumak önemli: DUV üretimiyle ilgili bir öngörü, Çin’in EUV açığını kapattığının kanıtı sayılamaz. Mevcut değerlendirmeler iki teknoloji hattını ayrı ele alıyor. 3

İhracat kontrollerinin iki yönlü etkisi

Bildirilen kısıtlamalar EUV sistemlerinin Çin’e gönderilmesini engelliyor; bazı gelişmiş daldırmalı DUV sistemlerinin ihracatı da lisans şartlarına tabi. Bu kontroller Çin’in yabancı ekipmanlara erişimini sınırlarken Rohmund, yeni kısıtlamaların Çin’i kendi teknolojisini geliştirmeye daha fazla yöneltebileceği uyarısında bulunuyor. 2311

Dolayısıyla uzun vadeli etkiyi tek taraf için kesin bir avantaja indirgemek zor. Kısıtlamalar gerekli araçlara erişimi daraltabilir; ancak Zeiss yöneticisinin değerlendirmesine göre yerli alternatif geliştirme teşvikini de güçlendirebilir. Mevcut kaynaklar, bu tepkinin teknolojik açığı ne hızla azaltacağını ortaya koymuyor. 2

Yapay zekâ talebi ve Zeiss’in kapasite adımları

Yapay zekâya bağlı talep de yarı iletken ekipmanı pazarını etkiliyor. Zeiss’in yarı iletken optiklerine yönelik artan talebe yanıtını ele alan bir habere göre şirket, yarı iletken üretim merkezini genişletti; başka bir tesiste ek kapasite kuruyor ve ihtiyaç hâlinde üretimini daha da ölçeklendirebileceğini belirtiyor.

Bu adımlar artan talebe yönelik bir kapasite yanıtı. Kaynak, bunların özellikle Çin’in EUV geliştirme çabalarına ya da ihracat kontrollerine karşı hazırlanmış bir plan olduğunu söylemiyor. Ayrım önemli: Sektörün gündeminde hem ileri litografi yarışının hem de artan talebi karşılayacak optik bileşenleri tedarik etme meselesinin yeri var.

Tahminler ne söylüyor, ne söylemiyor?

En temkinli okuma şu: Çin’in DUV’de ilerlemesi EUV’ye kıyasla daha yakın vadede mümkün görünüyor; kendi EUV makinesini veya ASML teknolojisine uygulanabilir bir alternatifi geliştirmeye ilişkin tahminler ise en az on yıllık bir ufka işaret ediyor. Zeiss’in 15 yıllık değerlendirmesi önemli bir ekipman tedarikçisinin görüşü, UBS’nin takvimi ise analist tahmini. İkisi de garanti edilmiş bir program değil. 13

Öne çıkan üç unsur var: Zeiss optikleri ASML’nin EUV tedarik zincirinde önemli bir yere sahip; ihracat kontrolleri ekipmana erişimi sınırlarken yerli geliştirme motivasyonunu da artırabilir; yapay zekâ bağlantılı talep ise Zeiss’i kapasitesini büyütmeye yöneltiyor. Bu güçlerin nasıl etkileşeceği pazarı şekillendirecek. Ancak mevcut haberler, Çin’in bugünkü EUV sistemlerine ne zaman — ya da ulaşıp ulaşamayacağını — kesinleştirmiyor. 23