ABD’den ASML’ye ‘EUV Makinesi Çin’de mi?’ Sorusu: 400 Milyon Dolarlık Çip Devi ve MATCH Yasası

İşte 19 Haziran 2026 itibarıyla durumun bir dökümü.

ABD'nin İddiası

ABD Ticaret Bakanı Howard Lutnick, bir dizi toplantıda ASML'nin üst düzey yöneticilerine, şirketin en gelişmiş aşırı ultraviyole (EUV) litografi makinelerinden birinin, ABD öncülüğündeki ihracat kontrollerini ihlal ederek Çin'e ihraç edilmiş olabileceği endişesini doğrudan dile getirdi . Spesifik endişe, tanesi 400 milyon dolardan fazlaya mal olan ve yapay zeka ile akıllı telefon işlemcilerinin üretimi için hayati öneme sahip bir EUV sisteminin fiziksel olarak Çin sınırları içinde bulunması ihtimali .

ASML'nin Reddi

ASML bu iddiayı kesin bir dille reddetti. Şirket sözcüsü, ASML'nin Çin'e hiçbir zaman bir EUV makinesi göndermediğini belirtti . Şirket ayrıca, ABD'li yetkililere kendini aklamak için belgeler sunarak, EUV makinelerinin kabaca bir okul otobüsü büyüklüğünde olduğunu, çok sınırlı sayıda üretildiğini, ASML personeli tarafından sürekli yerinde bakım gerektirdiğini ve zaten Çin'e satışını yasaklayan sıkı ihracat kontrollerine tabi olduğunu vurguladı . ASML, "dünyanın dört bir yanındaki hükümet liderleriyle düzenli olarak şeffaf ve açık bir diyalog yürüttüğünü" ve hem ABD hem de Hollanda ihracat kontrol düzenlemelerini anladığını ve bunlara uyduğunu ifade etti .

ABD'li Yetkililerin Gösterdiği Kanıtlar

ABD'nin endişesinin altında yatan spesifik kanıtlar kamuoyuyla detaylı olarak paylaşılmadı. Bloomberg News'in haberine göre konu, "duruma aşina kişilere" dayandırılarak duyuruldu ancak Lutnick'in müdahalesine yol açan istihbarat, nakliye kayıtları veya diğer kanıtlar tanımlanmadı . Kamuya açık haberlere göre Çin'de doğrulanmış bir EUV sistemi görüntüsü, ele geçirilmiş bir sevkiyat veya yetkisiz kurulum gösteren servis kayıtları bulunmuyor.

Ancak şüpheleri besleyen daha geniş bir bağlam var. Aralık 2025'te Reuters, Shenzhen'deki Çinli araştırmacıların, Batı'ya yapay zeka çiplerinde rakip olmak için Çin'in "Manhattan Projesi" olarak tanımladığı bir çabanın parçası olarak bir EUV litografi makinesinin prototipini inşa ettiğini bildirmişti . Ayrıca analistler, yerli EUV geliştirmeye yardımcı olabilecek bazı çift kullanımlı veya daha az kısıtlı bileşenlerin takibinin zorlaştığını belirtiyor . Ancak bu gelişmelerin mevcut iddiayla bağlantılı olup olmadığı doğrulanmış değil.

İhracat Kısıtlamaları ve MATCH Yasası Bağlamı

• Mevcut EUV yasağı: ABD öncülüğündeki ihracat kontrolleri zaten ASML'nin Çin'e EUV sistemi göndermesini yasaklıyor. Bu iddia, eğer doğruysa, uzun süredir devam eden bu yasağın ihlali anlamına geliyor .
• DUV kontrolleri (mevcut durum): 7nm çiplere kadar üretebilen daha az gelişmiş derin ultraviyole (DUV) daldırmalı litografi makineleri Çin'e akmaya devam ediyor ve kısıtlamaların bir sonraki ana hedefi konumunda .
• MATCH Yasası: Nisan 2026 başında iki partili bir ABD'li kongre üyesi grubu, Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Yasası'nı (H.R. 8170) sundu . Temel hükümler şunları içeriyor:
  • Kaygı duyulan bir ülkedeki (doğrudan Çin'i işaret ediyor) herhangi bir varış noktasına, DUV daldırmalı litografi aletleri ve kriyojenik aşındırma aletleri de dahil olmak üzere "boğaz noktası" yarı iletken üretim ekipmanlarının satışına yönelik ülke çapında bir yasak .
  • Hollanda ve Japonya gibi müttefik ülkelerin, 150 gün içinde ihracat kısıtlamalarını ABD kurallarıyla uyumlu hale getirmesini, aksi takdirde ABD teknolojisi içeren herhangi bir ekipman üzerinde Washington'a yetki verecek genişletilmiş bir Yabancı Doğrudan Ürün Kuralı ile karşı karşıya kalmalarını zorunlu kılan bir madde .
  • Çin'de halihazırda kurulu DUV makinelerine servis verilmesinin yasaklanması .
  • Yasa tasarısı Nisan 2026 sonunda Temsilciler Meclisi Dış İlişkiler Komitesi'nden geçti ve daha geniş bir ihracat kontrol önlemleri paketinin parçası olarak ilerledi .
  • Komite oylamasından önce bazı hükümler hafifletildi (örneğin, kriyojenik aşındırma aletlerine yönelik ülke çapındaki yasak kaldırıldı), ancak DUV kısıtlamaları yerinde kaldı .

Kısacası MATCH Yasası, mevcut yürütme organı ihracat kontrollerini kanunlaştırmayı ve genişletmeyi, DUV boşluğunu kapatmayı ve müttefikleri aynı şeyi yapmaya zorlamayı hedefliyor. Tüm bunlar, en katı mevcut yasakların bile uygulama zorluklarıyla karşılaşabileceğini gösteren yeni EUV iddiasıyla aynı zamana denk geliyor.