จีนยังห่างจากเครื่อง EUV แค่ไหน?

จีนยังต้องใช้เวลาอีกนานกว่าจะสร้างเครื่องลิโทกราฟี EUV (Extreme Ultraviolet) ของตัวเองได้ ตามการประเมินของ Frank Rohmund ผู้บริหารฝ่ายเซมิคอนดักเตอร์ของ Zeiss ระยะเวลาราว 15 ปี เป็นสมมติฐานที่สมเหตุสมผล แต่เขาระบุด้วยว่าความคืบหน้าของจีนวัดให้ชัดเจนได้ยาก 1

ส่วน UBS ประเมินว่า ภายในทศวรรษนี้จีนไม่น่าพัฒนาเครื่อง EUV ที่เป็นทางเลือกใช้งานได้จริงแทนเทคโนโลยีชั้นนำของ ASML ตัวเลข 15 ปีของ Zeiss กับกรอบ “ไม่น่าทันใน 10 ปี” ของ UBS เป็นการคาดการณ์คนละชุด ไม่ใช่กำหนดเวลาตายตัวหรือหลักประกันว่าจีนจะตามทันเมื่อครบกำหนด 13

EUV สำคัญอย่างไร และจีนยังติดช่องว่างตรงไหน

เครื่องลิโทกราฟีใช้สร้างลวดลายวงจรบนชิป โดย EUV เป็นเทคโนโลยีขั้นสูงที่อยู่ใจกลางการแข่งขันด้านการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ในปัจจุบัน UBS ประเมินว่าความสามารถของจีนในด้านนี้ยังห่างจากระดับแนวหน้า และการพัฒนาเครื่องที่ทดแทนระบบ EUV ของ ASML ได้ภายใน 10 ปียังเป็นเรื่องยาก 3

ความท้าทายไม่ได้อยู่แค่การประกอบเครื่องให้ทำงานได้ แต่ยังรวมถึงชิ้นส่วนสำคัญและห่วงโซ่อุปทานด้วย Zeiss เป็นผู้จัดหาออปติกเฉพาะทางที่ใช้ในระบบ EUV ของ ASML จึงเป็นส่วนสำคัญของห่วงโซ่อุปทานเครื่องจักรเหล่านี้ 2

DUV อาจไปถึงการผลิตปริมาณมากได้ก่อน

ความคืบหน้าในระยะใกล้ของจีนอาจเกิดขึ้นกับเครื่องลิโทกราฟี DUV (Deep Ultraviolet) แบบจุ่ม ซึ่งเป็นเทคโนโลยีคนละประเภทกับ EUV UBS คาดว่าจีนอาจผลิตเครื่อง DUV แบบจุ่มในปริมาณมากได้ภายใน 2–5 ปี 3

อย่างไรก็ตาม การคาดการณ์เรื่อง DUV ไม่ได้แปลว่าจีนปิดช่องว่างด้าน EUV ได้แล้ว หรือมีเครื่องที่ทดแทนระบบ EUV ขั้นสูงของ ASML ได้ ทั้งสองเทคโนโลยีเป็นคนละเส้นทางการพัฒนา และแหล่งข้อมูลประเมินความคืบหน้าของแต่ละเส้นทางแยกจากกัน 3

ข้อจำกัดการส่งออกมีผลสองด้าน

มาตรการควบคุมการส่งออกทำให้จีนไม่สามารถนำเข้าเครื่อง EUV ได้ ขณะที่เครื่อง DUV แบบจุ่มขั้นสูงบางรุ่นก็อยู่ภายใต้ข้อกำหนดด้านใบอนุญาตเช่นกัน 311 ข้อจำกัดเหล่านี้กระทบการเข้าถึงอุปกรณ์จากต่างประเทศ แต่ Rohmund เตือนว่าการเพิ่มมาตรการควบคุมอาจกลับเป็นแรงผลักให้จีนเร่งพัฒนานวัตกรรมของตนเอง 2

จึงยังสรุปไม่ได้ว่ามาตรการควบคุมจะรักษาความได้เปรียบของผู้ผลิตรายเดิมไว้ได้นานเพียงใด แหล่งข่าวระบุถึงทั้งข้อจำกัดในการเข้าถึงเครื่องมือและแรงจูงใจในการพัฒนาทางเลือกในประเทศ แต่ยังไม่ได้ชี้ชัดว่าปัจจัยเหล่านี้จะทำให้ช่องว่างด้านเทคโนโลยีแคบลงเร็วแค่ไหน 23

ความต้องการชิป AI ทำให้ Zeiss เพิ่มกำลังผลิต

อีกด้านหนึ่ง ความต้องการที่เกี่ยวข้องกับ AI กำลังเพิ่มแรงกดดันต่อกำลังการผลิตออปติกสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ รายงานเกี่ยวกับ Zeiss ระบุว่าบริษัทขยายสำนักงานใหญ่ด้านการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ และกำลังสร้างกำลังการผลิตเพิ่มเติมในอีกแห่งหนึ่ง พร้อมระบุว่าสามารถขยายเพิ่มได้หากจำเป็น

นี่เป็นการตอบสนองต่อความต้องการออปติกเซมิคอนดักเตอร์ที่เพิ่มขึ้น ไม่ใช่แผนที่ระบุว่าออกแบบมาเพื่อขัดขวางการพัฒนา EUV ของจีนโดยเฉพาะ ภาพรวมของอุตสาหกรรมจึงมีทั้งการแข่งขันเพื่อพัฒนาเครื่องลิโทกราฟีขั้นสูง และโจทย์ว่าจะผลิตชิ้นส่วนสำคัญให้ทันกับความต้องการที่เพิ่มขึ้นได้อย่างไร

ตัวเลขเหล่านี้บอกอะไร—and ยังตอบอะไรไม่ได้

ภาพรวมจากการประเมินที่มีอยู่คือ จีนอาจเดินหน้าในสาย DUV ได้เร็วกว่าการพัฒนา EUV ขณะที่การสร้างเครื่อง EUV หรือทางเลือกที่ใช้งานได้จริงยังถูกประเมินเป็นกรอบเวลาอย่างน้อยระดับทศวรรษ ตัวเลข 15 ปีของ Zeiss เป็นความเห็นของผู้บริหารจากบริษัทผู้จัดหาอุปกรณ์สำคัญ ส่วนกรอบเวลาของ UBS เป็นการคาดการณ์ของนักวิเคราะห์ ทั้งคู่ไม่ใช่ตารางเวลาที่รับประกันผลลัพธ์ 13

ประเด็นสำคัญจึงมีสามข้อ: ออปติกของ Zeiss เป็นส่วนสำคัญในระบบ EUV ของ ASML; ข้อจำกัดการส่งออกจำกัดการเข้าถึงเครื่องมือ แต่ก็อาจกระตุ้นการพัฒนาในประเทศ; และความต้องการที่เกี่ยวข้องกับ AI ทำให้ Zeiss เพิ่มกำลังการผลิต ยังไม่มีข้อมูลที่ระบุได้แน่ชัดว่าจีนจะมีเครื่อง EUV เทียบชั้นระบบปัจจุบันได้เมื่อไร หรือจะทำได้หรือไม่ 23