คำเตือนของคริสตอฟ ฟูเกต์ ซีอีโอ ASML คือมาตรการควบคุมการส่งออกที่กว้างเกินเป้าหมายด้านความมั่นคง อาจทำให้จีนมีเหตุผลมากขึ้นที่จะลงทุนพัฒนาเครื่องมือผลิตชิปของตัวเอง แม้ข้อจำกัดจะลดการเข้าถึงอุปกรณ์จากต่างประเทศในระยะสั้น แต่ก็อาจช่วยสร้างคู่แข่งในอนาคตได้ นี่เป็นข้อถกเถียงเรื่องแรงจูงใจและผลระยะยาว ไม่ใช่การบอกว่าจีนกำลังไล่ทันเทคโนโลยีขั้นสูงสุดของ ASML แล้ว
4
5
ทำไมการคุมเข้มเกินไปอาจย้อนศร
จีนถูกห้ามซื้อเครื่องลิโทกราฟี EUV ซึ่งใช้ผลิตชิปขั้นสูงที่สุด ขณะที่ยังซื้อเครื่อง DUV ซึ่งเป็นเทคโนโลยีรุ่นก่อนหน้าได้สำหรับการใช้งานที่ได้รับอนุญาต
14
17 ฟูเกต์กังวลว่า หากขยายข้อจำกัดไปไกลเกินไป บริษัทและผู้กำหนดนโยบายจีนอาจยิ่งเห็นความจำเป็นในการพัฒนาและใช้เครื่องมือทดแทนที่ผลิตในประเทศ
4
5
อย่างไรก็ตาม ความเสี่ยงนี้ไม่ได้หมายความว่าจีนจะสร้างเครื่องมาทดแทน ASML ได้ทันที เครื่องลิโทกราฟีเป็นเทคโนโลยีที่ซับซ้อน และอุปกรณ์ที่พัฒนาในประเทศยังต้องพิสูจน์ทั้งประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือในการผลิตจริง ประเด็นที่น่าจับตาคือ หากมีการลงทุนและสะสมประสบการณ์ต่อเนื่อง จีนอาจค่อย ๆ ลดการพึ่งพาผู้ผลิตต่างชาติในบางส่วนของตลาดได้
เหตุใด ASML จึงเป็นจุดคอขวดสำคัญ
ลิโทกราฟี EUV ใช้พิมพ์ลวดลายวงจรขนาดเล็กมากลงบนแผ่นซิลิคอน ซึ่งเป็นขั้นตอนสำคัญในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์รุ่นล้ำหน้า ASML เป็นผู้ผลิตเครื่อง EUV เชิงพาณิชย์เพียงรายเดียว ทำให้อุปกรณ์ของบริษัทเป็นหนึ่งในจุดสำคัญของห่วงโซ่การผลิตชิปขั้นสูง รวมถึงชิปที่ใช้กับ AI
8
13
แต่การเป็นผู้ผลิตรายเดียวไม่ได้แปลว่า ASML จะเพิ่มจำนวนเครื่องได้ทันทีเมื่อความต้องการพุ่งสูงขึ้น บริษัทเผชิญข้อจำกัดในห่วงโซ่อุปทาน โดย Reuters รายงานว่า ASML วางแผนส่งมอบเครื่อง EUV รุ่น low-NA จำนวน 60 เครื่องในปี 2026 และมีกำลังรองรับการส่งมอบ 80 เครื่องในปี 2027 ขณะที่รายงานอีกชิ้นระบุว่ากำลังผลิตอาจถูกจองไปจนถึงสิ้นปี 2027
1
17 ตัวเลขเหล่านี้สะท้อนว่า ความต้องการชิป AI ที่เพิ่มขึ้นไม่อาจเปลี่ยนเป็นกำลังผลิตเครื่องลิโทกราฟีได้ในชั่วข้ามคืน
ความพยายามพัฒนา DUV ของจีนบอกอะไร
มีรายงานว่าจีนกำลังพัฒนาเครื่องลิโทกราฟี DUV ขั้นสูง และมีการเชื่อมโยงหัวเว่ยกับความพยายามในภาพรวม รายงานหนึ่งระบุว่าเครื่องกำลังอยู่ระหว่างการทดสอบ และตั้งเป้าผลิตให้ได้ 12 เครื่องภายในสิ้นปี 2026 ข้อมูลเหล่านี้ชี้ให้เห็นแนวทางที่จีนอาจใช้สร้างขีดความสามารถในประเทศ แต่เป้าหมายการผลิตหรือเครื่องต้นแบบยังไม่ใช่หลักฐานว่าพร้อมผลิตชิปได้อย่างสม่ำเสมอในปริมาณมาก
DUV และ EUV เป็นคนละเทคโนโลยีกัน ความคืบหน้าด้าน DUV จึงไม่ได้แสดงว่าจีนสามารถทดแทนเครื่อง EUV ของ ASML ได้ ส่วนรายงาน Reuters เกี่ยวกับเครื่องต้นแบบ EUV ของจีนอีกโครงการหนึ่งระบุว่าเครื่องดังกล่าวยังอยู่ระหว่างการทดสอบและยังผลิตชิปที่ใช้งานได้ไม่ได้
2
หากเครื่อง DUV ที่พัฒนาในจีนมีความน่าเชื่อถือและแข่งขันได้เมื่อผลิตในระดับใหญ่ ก็อาจเพิ่มแรงกดดันต่อธุรกิจ DUV ของ ASML ในจีน และช่วยให้ผู้ผลิตท้องถิ่นสั่งสมประสบการณ์มากขึ้น แต่ข้อสรุปในระยะใกล้ยังจำกัดกว่านั้น: จีนกำลังเดินหน้าหาทางเลือกของตนเอง ทว่ารายงานที่มีอยู่ยังไม่แสดงว่าจีนแซงหน้าความเป็นผู้นำด้าน EUV ของ ASML แล้ว
สรุป: เป็นความเสี่ยงระยะยาว ไม่ใช่คู่แข่ง EUV ที่กำลังมา
คำเตือนของฟูเกต์เน้นเรื่องแรงจูงใจและระยะเวลา การคุมส่งออกที่กว้างเกินไปอาจผลักให้จีนลงทุนกับอุปกรณ์ที่ผลิตในประเทศมากขึ้น ขณะเดียวกัน ASML ยังเป็นผู้ผลิต EUV เชิงพาณิชย์รายเดียว และกำลังผลิตที่มีข้อจำกัดทำให้บริษัทยังคงมีบทบาทสำคัญต่อการผลิตชิปรุ่นล้ำหน้าในปัจจุบัน ความพยายามด้าน DUV ของจีนจึงควรถูกจับตาในฐานะความท้าทายที่อาจเติบโตในระยะยาว ไม่ใช่หลักฐานว่าจีนจะมีเครื่อง EUV มาทดแทนได้ในเร็ว ๆ นี้