จีนผลิตเครื่อง DUV เองแล้ว แต่ความจริงที่ ASML ต้องกลัวคือกฎหมายสหรัฐฯ

อย่างไรก็ตาม ช่องว่างด้านประสิทธิภาพเมื่อเทียบกับเครื่องของ ASML ยังคงกว้างมาก นักวิเคราะห์หลายสำนักและ Reuters เน้นย้ำว่าเครื่องมือของจีน "ยังคงด้อยกว่าด้านประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือ" และต้องผ่านการทดสอบเพิ่มเติมอีกมากก่อนที่จะเพิ่มปริมาณการผลิตอย่างมีนัยสำคัญ นอกจากนี้ ส่วนประกอบสำคัญบางชิ้นยังต้องนำเข้าจากญี่ปุ่น

ภาพรวมหุ้นกลุ่มเซมิคอนดักเตอร์สหรัฐฯ และแรงกดดันระยะสั้น

หุ้นกลุ่มอุปกรณ์ผลิตชิปในสหรัฐฯ ปรับตัวลดลงเมื่อมีรายงานดังกล่าวในวันที่ 27-28 กรกฎาคม 2026 แต่นักวิเคราะห์มองว่าการร่วงลงนี้เป็นเพียงปฏิกิริยาระยะสั้น ไม่ใช่การประเมินมูลค่าเชิงโครงสร้างใหม่ เหตุผลหลักคือ 'มู่' (moat) ทางการแข่งขันของ ASML ซึ่งรวมถึงการผูกขาดตลาดเครื่อง EUV, ประสิทธิภาพของเครื่องรุ่น NXT:1980/2050 และเครือข่ายบริการทั่วโลก ยังคงแข็งแกร่งในระยะที่คาดการณ์ได้ ปริมาณการผลิต 5–20 เครื่องของจีนนั้นเล็กน้อยมากเมื่อเทียบกับ ASML ที่ผลิตเครื่อง DUV และ EUV ได้หลายร้อยเครื่องต่อปี

รายได้จากจีนของ ASML: แนวโน้มลดลงอยู่แล้ว

จีนเป็นตลาดเดี่ยวที่ใหญ่ที่สุดของ ASML ในปี 2025 คิดเป็น 33% ของยอดขายทั้งหมด แต่ตัวเลขนี้สูงเกินจริงจากการเร่งสั่งซื้อล่วงหน้าก่อนที่มาตรการควบคุมการส่งออกจะมีผลบังคับใช้ Roger Dassen CFO ของ ASML ระบุว่าจีนจะคิดเป็น ประมาณ 20% ของยอดขายสุทธิในปี 2026 และในไตรมาสแรกของปี 2026 ส่วนแบ่งจากจีนลดลงเหลือเพียง 19% จาก 36% ในไตรมาสที่สี่ของปี 2025 ดังนั้น ความสำเร็จในการผลิตเครื่อง DUV ในประเทศจึงเพิ่มแรงกดดันเล็กน้อยให้กับแนวโน้มที่กำลังลดลงอยู่แล้วจากมาตรการควบคุมการส่งออก

MATCH Act: ภัยคุกคามระยะใกล้ที่แท้จริง

พระราชบัญญัติ MATCH (Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware) ถูกเสนอโดยสมาชิกสภาผู้แทนราษฎรสหรัฐฯ จากทั้งสองพรรคการเมืองเมื่อ วันที่ 2 เมษายน 2026 โดยมีเป้าหมายที่จะห้ามการส่งออกและซ่อมบำรุง เครื่องลิโธกราฟีแบบ immersion DUV ทุกรุ่นให้แก่ผู้ผลิตชิปในจีน ซึ่งจะปิดช่องโหว่ที่อนุญาตให้โรงงานจีนยังคงซื้อเครื่อง immersion DUV รุ่นเก่าของ ASML ได้ เนื้อหาของร่างกฎหมายถูกปรับลดลงในกลางเดือนเมษายน แต่ยังคงมาตรการห้ามหลักเกี่ยวกับเครื่อง DUV immersion ไว้ ร่างกฎหมายนี้ผ่านการพิจารณาของคณะกรรมาธิการการต่างประเทศสภาผู้แทนราษฎร โดยมีกลไกบังคับให้เนเธอร์แลนด์และญี่ปุ่นปรับมาตรการควบคุมการส่งออกของตนให้สอดคล้องกันภายใน 150 วัน มิฉะนั้นสหรัฐฯ จะบังคับใช้มาตรการฝ่ายเดียว

จุดสำคัญคือ MATCH Act กำหนดเป้าหมายการขายและซ่อมบำรุงเครื่อง DUV immersion ในจีนของ ASML โดยไม่คำนึงว่าจีนจะมีเครื่องมือของตนเองหรือไม่ เหตุผลของสหรัฐฯ คือต้องการปฏิเสธไม่ให้โรงงานจีนเข้าถึงอุปกรณ์ต่างประเทศที่เหนือกว่า แม้ว่าอุปกรณ์ในประเทศจะเริ่มเกิดขึ้นแล้วก็ตาม สิ่งนี้สร้างแรงกดดันสองทาง ผู้ผลิตชิปจีนจะสูญเสียการเข้าถึงเครื่องจักรที่ดีกว่าของ ASML ในขณะที่เครื่องมือของตนเองยังไม่สมบูรณ์

ผลกระทบต่ออุตสาหกรรมอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ในวงกว้าง

รายงานดังกล่าวทำให้หุ้นกลุ่มอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ที่จดทะเบียนในสหรัฐฯ ร่วงลงเป็นวงกว้าง โดยมีประเด็นสำคัญดังนี้:

• Applied Materials, Lam Research, KLA: บริษัทเหล่านี้มีรายได้จากจีนและจะได้รับผลกระทบจากข้อจำกัดของ MATCH Act เช่นกัน โดยเฉพาะเครื่องมือ etch, deposition และ metrology สำหรับโรงงานจีน
• ผลกระทบระยะยาว: หากเครื่อง DUV ที่ผลิตในจีนมีปริมาณและความน่าเชื่อถือเพียงพอภายในปี 2028–2030 ก็อาจลดขนาดตลาดรวม (TAM) สำหรับผู้ผลิตอุปกรณ์ตะวันตกในจีนได้ แต่นักวิเคราะห์ส่วนใหญ่มองว่าการ "ผลิตจำนวนมากแบบจำกัด" ในปัจจุบันเป็นเชิงสัญลักษณ์มากกว่าเป็นภัยคุกคามทางเศรษฐกิจ
• ความไม่แน่นอนระยะสั้น: สถานะที่ยังไม่ชัดเจนของ MATCH Act และการตอบสนองของเนเธอร์แลนด์และญี่ปุ่น เป็นปัจจัยกดดันตลาดตั้งแต่เดือนเมษายน 2026

ข้อควรระวังและความไม่แน่นอนที่สำคัญ

• ช่องว่างด้านประสิทธิภาพยังคงกว้าง: Reuters และนักวิเคราะห์หลายรายเน้นย้ำว่าเครื่องมือของจีน "ยังคงด้อยกว่าด้านประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือ" อัตราผลผลิต (yield), ปริมาณงาน (throughput) และความแม่นยำในการซ้อนทับ (overlay accuracy) จะเป็นตัวกำหนดว่า SMIC จะสามารถผลิตชิประดับ 7nm ด้วยต้นทุนที่คุ้มค่าทางการค้าได้หรือไม่
• SMIC กำลังทดสอบเครื่อง immersion DUV รุ่นก่อนหน้าจาก Shanghai Yuliangsheng (ซึ่งเป็นส่วนหนึ่งของ Aishengna) ตั้งแต่เดือนกันยายน 2025 แต่การเปลี่ยนจากการทดสอบไปสู่การผลิตจริงเป็นกระบวนการที่ใช้เวลาหลายปี
• MATCH Act ยังไม่ผ่านเป็นกฎหมาย: ร่างกฎหมายผ่านคณะกรรมาธิการแล้ว แต่เส้นทางสู่การผ่านเป็นกฎหมายยังไม่ชัดเจนและอาจถูกแก้ไขเพิ่มเติมได้อีก
• บทบาทของญี่ปุ่น: เครื่องมือของจีนยังคงพึ่งพาชิ้นส่วนจากญี่ปุ่นบางส่วน ซึ่งอาจสร้างจุดอ่อนในห่วงโซ่อุปทานได้

สรุป

นี่เป็นความก้าวหน้าที่สำคัญที่สุดของจีนในความพยายามพึ่งพาตนเองด้านเครื่องลิโธกราฟี แต่ช่องว่างระหว่าง "การผลิตจำนวนมากแบบจำกัด" กับความสามารถในเชิงพาณิชย์ที่เทียบเท่า ASML ยังคงกว้างมาก สำหรับ ASML แรงกดดันระยะใกล้มาจาก MATCH Act (ซึ่งกำหนดเป้าหมายการขายเครื่อง DUV ที่เหลืออยู่ในจีน) มากกว่าจากคู่แข่งหน้าใหม่ในประเทศ ส่วนแบ่งรายได้จากจีน 20% ในปี 2026 ถูกกดดันจากมาตรการควบคุมการส่งออกอยู่แล้ว ความคืบหน้าด้านการผลิตในประเทศของจีนเป็นเพียงปัจจัยกดดันเพิ่มเติมเล็กน้อย ตลาดหุ้นกลุ่มอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ในวงกว้างอาจเผชิญกับความรู้สึกเชิงลบ แต่ภัยคุกคามเชิงโครงสร้างยังคงอยู่ห่างออกไปอีกหลายปี เว้นแต่จีนจะสามารถเพิ่มอัตราผลผลิตและความน่าเชื่อถือได้อย่างรวดเร็ว