ASML-aktien stängde upp 3,25 procent den 2 oktober 2026, på 1 867,31 dollar. Investerare blickade fram mot bolagets delårsrapport den 14 oktober och vägde in det växande intresset för nästa generation av High-NA EUV-system. Kundernas planer är ett tecken på att tekniken förbereds för användning i chipfabriker – men de avslöjar inte hur många maskiner som har beställts eller hur snabbt planerna kan ge försäljning.
16
2
5
Varför steg aktien?
Uppgången kom i ett positivt läge för ASML:s utrustningsaffär, där kundernas planer för High-NA EUV bidrar till framtidstron. Men rapporteringen pekar inte ut en enda säker förklaring till just kursrörelsen den 2 oktober. På längre sikt är det betydelsefullt att flera stora chiptillverkare nu har offentliggjort tidplaner för tekniken.
2
5
High-NA EUV-systemen uppges kosta omkring 400 miljoner dollar styck. Det gör kundernas planer relevanta för ASML:s framtida tillväxt, men planerad användning är inte samma sak som redovisade beställningar.
6
Kunderna har olika tidplaner
Samsung och SK Hynix siktar på att använda High-NA EUV i DRAM-produktion 2028. TSMC har en senare plan: storskalig användning för avancerade chip från 2030. Tidpunkterna visar att intresset sträcker sig över både minnes- och logiktillverkning, men också att införandet sker enligt olika scheman.
1
33
Intel och ASML uppger att mer än en miljon wafers har bearbetats med High-NA-utrustning. Siffran omfattar tidig verktygskvalificering och tester, forskning och utveckling samt volymproduktion på utvalda lager i en del av Intels processorer. Det är ett tecken på tekniska och industriella framsteg – men ska inte tolkas som en miljon wafers tillverkade med fullt utbyggd High-NA-produktion.
17
Mönstermasker behövs också
Samsung har gått med i ett branschinitiativ för att utveckla en 12-tumsplattform för fotomasker till High-NA EUV. Det är ett arbete med att utveckla ekosystemet kring tekniken, inte ett bevis på att plattformen eller relaterade utrustningsköp är redo för storskalig användning till Samsungs målår 2028.
18
Övergången väntas ta längre tid. ASML:s och TSMC:s initiativ siktar på en pilotlina för 12-tumsmasker 2031 och på att litografisystemen ska vara redo för avancerad nodproduktion 2033. Under tiden ska High-NA-produktion använda befintliga 6-tumsmasker.
19
Den befintliga EUV-affären är viktig på kortare sikt
High-NA är en möjlighet på längre sikt, men ASML:s nuvarande EUV-affär spelar också roll. Reuters har rapporterat att bolagets befintliga EUV-system, som kostar omkring 200 miljoner dollar, i stort sett var slutsålda till och med 2027.
33
ASML har sagt att bolaget planerar att öka kapaciteten för konventionell low-NA EUV med 30 procent 2027 jämfört med 2026. En ytterligare ökning på 30 procent under 2028 utreds fortfarande. Att möta efterfrågan och genomföra kapacitetsplanerna är därför närmare frågor för bolaget, vid sidan av High-NA-möjligheten.
40
Vad planerna inte säger
Offentliga målår avslöjar inte hur många High-NA-system som beställts, när de ska levereras eller hur snabbt planerad användning kan bli intäkter. Uppgiften om en miljon bearbetade wafers omfattar dessutom flera olika steg, inte enbart kommersiell produktion. Det gör det svårt att översätta teknikens tidplan direkt till en försäljningsprognos.
17
18
19
Konkurrensen är en annan osäkerhet, men underlaget är begränsat. En källa beskriver kinesiska SMEE som ett bolag som försöker utveckla alternativ inom DUV-segmentet. Rapporteringen här kvantifierar inte leveranser och visar inte att dessa verktyg tränger undan ASML:s utrustning. Den räcker därför inte för att slå fast hur stor konkurrenseffekten kan bli.
38
Även värderingen påverkar hur investerare kan reagera på förseningar eller färre beställningar än väntat. Källorna ger inget entydigt och tillförlitligt värderingsmått som avgör om aktiekursen speglar den framtida tillväxten på ett rimligt sätt. Den försiktiga slutsatsen är att kundernas planer är uppmuntrande för High-NA – men ingen garanti för försäljning, marginaler eller avkastning på aktien.