Kinas väg till egna EUV-maskiner kan ta 15 år

Kina har fortfarande ett stort tekniksprång att ta innan landet kan bygga egna EUV-maskiner för de mest avancerade halvledarna. Frank Rohmund, chef för Zeiss halvledardivision, säger att omkring 15 år är en rimlig uppskattning. UBS bedömer samtidigt att ett fungerande alternativ till ASML:s EUV-teknik knappast utvecklas inom det närmaste årtiondet. Det rör sig om prognoser, inte fasta tidsplaner, och bedömningarna beskriver närliggande men inte helt identiska mål. 13

Därför är EUV en svår utmaning

Litografi är processen där mönster för chipens kretsar överförs till halvledarmaterial. EUV – extremt ultraviolett ljus – används i den mest avancerade litografin. UBS bedömning gäller om Kina kan utveckla utrustning som kan ersätta ASML:s ledande EUV-teknik. Rohmund betonar att Kinas framsteg är svåra att mäta, så 15-årsuppskattningen ska inte tolkas som en exakt nedräkning. 13

Utmaningen handlar dessutom inte bara om att konstruera en maskin. Zeiss levererar specialiserad optik till ASML:s EUV-system, vilket gör företaget till en viktig del av den befintliga leveranskedjan. 2

DUV kan gå snabbare – men är inte EUV

En närmare möjlighet för Kina är immersionslitografi med djupt ultraviolett ljus, så kallad DUV. Det är en äldre teknikgeneration än EUV. UBS-analytiker uppges bedöma att Kina kan nå storskalig produktion av immersions-DUV-system inom två till fem år. Det skulle kunna stärka den inhemska tillverkningen av utrustning, men innebär inte att landet har gjort ett EUV-genombrott eller ersatt ASML:s mest avancerade system. 3

Skillnaden är viktig: en prognos om DUV-produktion visar inte i sig att Kina har hämtat in EUV-försprånget. Bedömningarna behandlar de två teknikspåren separat. 3

Exportkontroller kan få dubbla effekter

De rapporterade restriktionerna hindrar leveranser av EUV-system till Kina. Även export av vissa avancerade immersions-DUV-system omfattas av licenskrav. Det begränsar tillgången till utländsk utrustning, men Rohmund har varnat för att ytterligare kontroller kan ge Kina starkare skäl att skynda på den egna utvecklingen. 2311

Det är därför svårt att säga att begränsningarna självklart gynnar den ena sidan på lång sikt. De kan hålla avancerad utrustning utom räckhåll, men kan också öka drivkraften att bygga inhemska alternativ. Källorna slår inte fast hur snabbt en sådan utveckling skulle kunna minska avståndet. 2

AI-efterfrågan sätter press på kapaciteten

Efterfrågan kopplad till AI påverkar också marknaden för halvledarutrustning. En rapport om Zeiss åtgärder beskriver hur företaget har byggt ut sitt huvudkontor för halvledartillverkning, arbetar med ytterligare produktionskapacitet på en annan anläggning och säger sig kunna skala upp mer vid behov.

Det är ett svar på växande efterfrågan – inte en uppgiven plan särskilt riktad mot Kinas EUV-utveckling eller exportkontrollerna. Branschutsikterna handlar alltså både om konkurrensen kring avancerad litografi och om att kunna leverera mer optik när efterfrågan ökar.

Vad prognoserna säger – och inte säger

Den försiktigaste tolkningen är att Kina kan göra snabbare framsteg inom DUV än inom EUV, medan bedömningarna av en egen EUV-maskin eller ett användbart alternativ ligger minst ett årtionde framåt. Zeiss 15-årssiffra är en bedömning från en viktig leverantör, och UBS tidslinje är en analytikerprognos. Ingen av dem är en garanti för när tekniken blir verklighet. 13

Tre faktorer sticker ut: Zeiss optik är viktig för ASML:s EUV-system, exportkontroller begränsar tillgången till avancerad utrustning men kan också sporra egen utveckling, och den AI-relaterade efterfrågan får Zeiss att bygga ut kapaciteten. Hur krafterna samverkar återstår att se. Källorna ger ingen säker tidpunkt för när – eller om – Kina kan komma ikapp dagens EUV-system. 23