ASML har två utmaningar samtidigt: att bygga fler av sina efterfrågade EUV-maskiner och att hjälpa kunderna få nästa generation, High-NA, att fungera lönsamt i storskalig chiptillverkning. EUV är litografi med extremt ultraviolett ljus, som används för att skapa mycket små mönster på kiselskivor. High-NA ska kunna återge ännu finare detaljer, men starka orderböcker säger inte i sig hur snabbt maskinerna kan levereras eller hur brett den nya tekniken kommer att användas.
1
2
44
Fler maskiner är ett mål – inte en leveransprognos
ASML säger att dess nuvarande EUV-maskiner är nästan, inte helt, uppbokade för 2027. Efter ett möte med bolagets finanschef uppgav JPMorgans analytiker att ASML siktar på ungefär 30 procents produktionsökning 2028 och undersöker hur det skulle kunna tillverka fler än 110 EUV-maskiner det året. Det är kapacitetsambitioner, inte bekräftade leveranser.
1
Bolaget har också påbörjat bygget av en ny anläggning i nederländska Eindhoven. Samtidigt har kunder gjort åtaganden kring High-NA-maskinerna, som kostar omkring 400 miljoner dollar styck. En större fabrik kan bidra till att möta efterfrågan, men kundernas införande avgörs också av vad maskinerna presterar när de väl är installerade.
2
44
Intel har börjat använda High-NA – andra avvaktar
Intel och ASML uppger att High-NA redan används i volymproduktion på utvalda lager i vissa Intel-processorer. De rapporterar också att över en miljon kiselskivor har bearbetats med tekniken. Den summan omfattar maskincertifiering och tester, forskning och utveckling samt volymproduktion. Den betyder alltså inte att en miljon kommersiellt säljbara kiselskivor har producerats med High-NA.
14
51
Andra kunder befinner sig längre från storskalig användning. Enligt rapporterade planer ska Samsung använda High-NA i volymproduktion av DRAM-minnen senast 2028, medan TSMC:s användning för avancerade chip väntas från 2030. I september 2026 rapporterade Reuters att varken Samsung eller TSMC då använde maskinerna för volymproduktion, till skillnad från Intel. Övergången ser därmed ut att ske stegvis, beroende på kund och tillämpning.
2
26
44
Klarar tekniken kalkylen?
High-NA:s löfte är att vissa fina mönster ska kunna tryckas med en enda exponering i stället för flera steg med dagens EUV-teknik. En rapporterad jämförelse anger att ASML:s EXE:5200B kan återge detaljer som är omkring 1,7 gånger mindre än vad NXE-plattformen klarar vid en enda exponering. Det är ett mått på upplösning – inte ett löfte om chip som är 1,7 gånger mindre eller en fabrik som arbetar 1,7 gånger snabbare.
19
För chiptillverkarna måste färre processteg vägas mot maskinpriset, produktionstakten, driftsäkerheten och andelen fungerande chip. Det tillgängliga underlaget visar inte att alla potentiella kunder redan har fått den kalkylen att gå ihop. Att ASML arbetar med större masker för High-NA visar också att praktiska produktionslösningar fortfarande utvecklas.
2
44
Europas paradox: maskiner byggs här, kunderna finns främst någon annanstans
ASML:s vice vd Frank Heemskerk sade att bolaget för närvarande inte säljer några chipmaskiner i Europa. Han hänvisade till bristande investeringar och nya chipfabriker. För andra kvartalet 2026 rapporteras Europas andel av ASML:s nettoomsättning från system som noll, medan Sydkorea och Taiwan var de största marknaderna. Det är ett omsättningsmått, inte ett exakt mått på andelen levererade maskiner. Det betyder inte heller att Europa saknar befintliga chipfabriker.
4
11
Skillnaden är viktig för EU:s Chips Act och dess ambition att öka unionens andel av världens chiptillverkning: fler litografimaskiner tillverkade i Eindhoven innebär inte automatiskt mer produktion av kiselskivor i europeiska fabriker.
2
4
50
Varför föll aktien ändå?
Stark efterfrågan utesluter inte en svag börsdag. Torsdagen den 24 september noterades ASML:s USA-handlade aktie vid ett tillfälle till 1 713,41 dollar, ned omkring 1,8 procent. Slutkursen var 1 722,50 dollar, ned 1,27 procent. Den första siffran är alltså en notering under handelsdagen, inte dagens slutliga nedgång.
23
29
Nedgången skedde samtidigt som halvledaraktier pressades bredare av stigande obligationsräntor. GuruFocus jämförde också kursen under dagen med sitt modellbaserade GF Value på omkring 1 260 dollar – ett riktvärde, inte ett fastställt inneboende värde. Investerare kan oroa sig för värdering och genomförande trots starka beställningar. De citerade kursuppgifterna visar däremot inte att ett fel med High-NA eller en försenad ASML-leverans orsakade just den dagens nedgång.
18
23