Intel также намекнула на дальнейшее внедрение: ожидается, что она будет использовать High-NA EUV и на своем будущем техпроцессе 14A .
Временные рамки Samsung существенно изменились. На конференции NGL 2026 года вице-президент Samsung по технологиям ЧанМин Пак заявил, что компания планирует внедрить High-NA EUV в качестве основной производственной технологии, начиная с 1-нм техпроцесса (A10), примерно в 2030 году . Ранее Samsung надеялась внедрить этот инструмент на техпроцессах 2 нм и 1,4 нм, но, по его словам, необходимы дальнейшие технические улучшения .
Несмотря на осторожный производственный график, Samsung уже установила две системы High-NA EUV — одну в своем кампусе в Хвасоне в 2025 году и вторую в первом полугодии 2026 года, — что представляет собой инвестиции в размере более 1 трлн вон . Однако компания сдерживает их развертывание в массовом производстве, чтобы контролировать затраты .
Ранее, в 2025 году, в отчетах высказывались предположения, что Samsung может внедрить High-NA на техпроцессе 2 нм для таких чипов, как Exynos 2600 и чипы ИИ Tesla следующего поколения . Последние заявления руководителей Samsung прямо противоречат этим более ранним ожиданиям .
TSMC проявляет наибольшую осторожность из трех компаний. Генеральный директор C.C. Вэй заявил на телефонной конференции по итогам второго квартала 2026 года, что компания не нуждается в High-NA для техпроцессов от 2 нм (N2) до A16 и A14, и что внедрение зависит от технологических возможностей, чувствительности заказчиков к стоимости и зрелости оборудования .
TSMC уже получила систему High-NA для НИОКР (EXE:5000) и приступила к разработке литографических процессов для High-NA сканеров в 2025 году, но не спешит внедрять их в производство .
Общий прогноз выручки ASML остается сильным. Компания сообщила об общем объеме чистых продаж в 32,7 миллиарда евро за 2025 год, с рекордными 9,7 миллиарда евро в четвертом квартале 2025 года и завершила год с портфелем заказов на 38,8 миллиарда евро . На 2026 год ASML планирует отгрузить более 60 систем Low-NA EUV — примерно на 25% больше, чем в 2025 году, — и намерена увеличивать общие мощности на 30% в год в течение следующих двух лет для удовлетворения растущего спроса на чипы для ИИ .
Перенос крупных заказов на High-NA со стороны TSMC и Samsung на конец 2020-х / 2030 год означает, что внедрение High-NA будет происходить медленнее, чем предполагалось ранее на рынке. Аналитики отмечают, что отсрочка TSMC, в частности, «давит на перспективы ASML» в сегменте высокотехнологичного оборудования . Каждый отложенный заказ высвобождает для клиента примерно 350–400 миллионов евро, но для ASML это означает, что ожидаемая выручка в миллиарды долларов от High-NA будет поступать медленнее .
ASML управляет более медленным внедрением High-NA, сосредоточившись на системе следующего поколения EXE:5200B (первая отгрузка состоялась во втором квартале 2025 года) и полагаясь на Intel — и, в меньшей степени, на SK hynix для DRAM — как на ведущих заказчиков High-NA в ближайшей перспективе . По данным с пресс-конференции по итогам четвертого квартала 2025 года, компания также отгрузила в общей сложности восемь систем High-NA к началу 2026 года .
| Компания | Техпроцесс для High-NA в производстве | Целевой год | Статус |
|---|---|---|---|
| Intel | Intel 18A (отдельные слои); 14A запланирован | 2026 (18A) | В настоящее время отгружает чипы Panther Lake |
| Samsung | 1 нм (A10) | ~2030 | Два инструмента установлены, производство приостановлено |
| TSMC | A13/A12 или позже | 2029 или позже | Разработка процесса продолжается, графика производства нет |
Раннее лидерство Intel с High-NA EUV реально и ощутимо: это единственная компания на сегодняшний день, которая отгружает крупные партии логических продуктов, изготовленных с помощью этого инструмента. Samsung и TSMC занимают выжидательную позицию, ставя во главу угла стоимость и выход годных, а не стремление быть первыми на рынке. Для ASML это означает, что внедрение High-NA будет постепенным, а не взрывным, но общий бизнес компании остается устойчивым благодаря неутолимому спросу на ее зрелые инструменты Low-NA EUV и DUV, движимому производством чипов для ИИ.