Сколько Китаю понадобится времени, чтобы создать собственные EUV-сканеры?

Оценки сроков различаются, но обе указывают на то, что до собственной передовой EUV-литографии Китаю ещё далеко. Руководитель полупроводникового подразделения Zeiss Франк Ромунд назвал примерно 15 лет разумной оценкой времени, которое может понадобиться стране для разработки собственных EUV-машин. UBS, в свою очередь, считает, что жизнеспособная альтернатива технологии ASML вряд ли появится в ближайшее десятилетие. Это прогнозы, а не точные сроки; речь также идёт о связанных, но не полностью одинаковых ориентирах. 13

Почему EUV так сложно освоить

Литографические установки помогают наносить рисунок электрических цепей на кремниевые пластины — основу микрочипов. EUV-литография использует экстремальное ультрафиолетовое излучение и относится к передовым технологиям производства чипов. Оценка UBS касается того, сможет ли Китай создать оборудование, способное конкурировать с передовыми EUV-системами ASML. Ромунд при этом подчеркнул, что фактический прогресс Китая трудно измерить, поэтому оценку в 15 лет не стоит воспринимать как точный отсчёт до конкретной даты. 13

Задача не сводится к проектированию одной машины: важны и сложные компоненты, и цепочка их поставок. Немецкая Zeiss поставляет ключевую оптику для EUV-систем нидерландской ASML, что делает её важным участником отраслевой инфраструктуры. 2

DUV может продвинуться быстрее — но это другая технология

Более близкая цель для китайских производителей — иммерсионная литография глубоким ультрафиолетом, или DUV. Это отдельное, более раннее поколение литографического оборудования. По данным о прогнозе аналитиков UBS, Китай может выйти на крупносерийное производство иммерсионных DUV-систем в течение двух-пяти лет. Такая оценка говорит о возможном росте собственного выпуска оборудования, но не о прорыве в EUV и не о замене самых передовых систем ASML. 3

Поэтому прогноз по DUV важно не смешивать с оценками по EUV: производство DUV-установок на большом объёме само по себе не означает, что технологический разрыв в EUV закрыт. В доступных оценках эти направления рассматриваются отдельно. 3

Экспортные ограничения: сдерживающий фактор и стимул к разработкам

Экспортные ограничения не позволяют поставлять в Китай EUV-системы; для экспорта некоторых более передовых иммерсионных DUV-установок также требуются лицензии. Это ограничивает доступ к зарубежному оборудованию. Вместе с тем Ромунд предупреждал, что дальнейшее расширение ограничений может ускорить китайские разработки, усилив стимул создавать собственные решения. 2311

Значит, долгосрочный эффект нельзя описать только как преимущество одной стороны. Ограничения сужают доступ к инструментам, но могут одновременно повысить мотивацию к развитию отечественных альтернатив. Представленные источники не позволяют определить, насколько быстро такие разработки способны сократить разрыв. 2

Спрос на ИИ-чипы и планы Zeiss по мощностям

Рост спроса, связанный с искусственным интеллектом, влияет и на рынок компонентов для производства чипов. По сообщению о действиях Zeiss в ответ на растущий спрос на полупроводниковую оптику, компания расширила свою производственную штаб-квартиру, строила дополнительные мощности на другой площадке и заявила, что при необходимости сможет наращивать выпуск и дальше.

Это свидетельствует о реакции компании на спрос, но не подтверждает, что расширение связано именно с развитием EUV в Китае или экспортными ограничениями. В отраслевом прогнозе важно учитывать сразу два фактора: конкуренцию за передовые литографические технологии и практическую необходимость выпускать больше оптических компонентов.

Что можно заключить из прогнозов

Осторожный вывод таков: Китай может заметно продвинуться в DUV раньше, чем в EUV, тогда как оценки сроков создания собственной EUV-машины или жизнеспособной альтернативы остаются в диапазоне от десятилетия и более. Оценка в 15 лет принадлежит руководителю крупного поставщика оборудования, а прогноз UBS — аналитическая оценка; ни то ни другое не является гарантированным графиком. 13

Для перспектив рынка важны три обстоятельства: оптика Zeiss — значимая часть цепочки поставок EUV-систем ASML; ограничения на экспорт затрудняют доступ к оборудованию, но могут стимулировать внутренние разработки; рост спроса на решения для ИИ побуждает Zeiss увеличивать мощности. Как именно эти факторы повлияют на сроки сокращения разрыва, пока неясно: доступные данные не устанавливают, когда и сможет ли Китай сравняться с нынешними EUV-системами. 23