Глава ASML опасается, что жёсткие ограничения подтолкнут Китай к созданию собственных технологий

Предупреждение генерального директора ASML Кристофа Фуке касается возможных долгосрочных последствий слишком широких экспортных ограничений. Запреты могут затруднить Китаю доступ к зарубежному оборудованию уже сейчас, но одновременно усилить стимул разрабатывать собственные аналоги. Это аргумент в пользу того, чтобы соотносить ограничения с задачами национальной безопасности, а не утверждение, будто Китай уже близок к уровню самых передовых технологий ASML. 45

Почему ограничения могут дать обратный эффект

Китай уже не может закупать литографические установки ASML для работы в экстремальном ультрафиолете — EUV. При этом страна продолжает покупать менее передовые системы глубокого ультрафиолета — DUV — для разрешённых целей. 1417 Опасение Фуке, как оно изложено в публикациях, состоит в том, что дальнейшее расширение запретов может сделать местные аналоги привлекательнее для китайских компаний и властей. В таком сценарии мера, призванная ограничить доступ к технологии, способна со временем помочь сформировать будущего конкурента. 45

Речь не о том, что китайское оборудование вот-вот один к одному заменит установки ASML. Литографические системы сложно разработать, а собственные машины должны ещё доказать, что способны работать с нужной точностью и надёжностью в производстве. Риск скорее в том, что длительные инвестиции и практический опыт постепенно снизят зависимость от зарубежных поставщиков в отдельных сегментах рынка.

Почему ASML — узкое место в производстве передовых чипов

Литография EUV позволяет наносить на кремниевые пластины микроскопические рисунки, из которых складываются схемы передовых полупроводников. ASML — единственный коммерческий поставщик таких систем. Поэтому её оборудование играет ключевую роль в производстве самых современных чипов, в том числе используемых для искусственного интеллекта. 813

Однако это не значит, что ASML может быстро увеличить поставки вслед за спросом. Компания сообщала об ограничениях в цепочке поставок на фоне растущего спроса на оборудование для производства чипов. По данным Reuters, ASML планировала поставить 60 стандартных систем EUV с низкой числовой апертурой в 2026 году и располагать мощностями для поставки 80 таких систем в 2027-м. Другая публикация сообщала, что производственные мощности компании могут быть расписаны до конца 2027 года. 117 Эти данные показывают, почему спрос на более мощные чипы не превращается мгновенно в новые литографические мощности.

Что говорят сообщения о китайских разработках DUV

В публикациях описываются попытки Китая создать передовые литографические установки DUV; с более широкой программой связывают и Huawei. Согласно одному из сообщений, машины проходят испытания, а к концу 2026 года планировалось выпустить 12 систем. Эти сведения указывают на возможный путь к развитию местных компетенций, но заявленные планы и прототипы ещё не доказывают, что оборудование готово к надёжному массовому производству.

DUV и EUV — разные технологии, и прогресс в разработке собственных DUV-систем сам по себе не говорит о способности Китая заменить установки EUV от ASML. В отдельном материале Reuters о китайском прототипе EUV сообщалось, что он проходил испытания и ещё не произвёл работающие чипы. 2

Если китайские DUV-системы со временем станут надёжными и конкурентоспособными в больших объёмах, они могут усилить давление на бизнес ASML в этом сегменте в Китае и помочь местным поставщикам накопить опыт. Но более осторожный вывод на сегодня таков: Китай ищет альтернативы, однако доступные сообщения не показывают, что он лишил ASML лидерства в EUV.

Главное

Предупреждение Фуке — о стимулах и долгосрочной перспективе. Более широкие ограничения могут побудить Китай активнее вкладываться в собственное оборудование, тогда как монополия ASML на коммерческие EUV-системы и ограниченные производственные возможности сохраняют за ней центральную роль в выпуске передовых чипов сегодня. За развитием китайских DUV-технологий стоит следить как за потенциальным долгосрочным конкурентным вызовом, а не как за доказательством скорой замены EUV.