China ainda está longe de desenvolver uma alternativa própria à litografia EUV

A China ainda está longe de desenvolver uma máquina própria de litografia por ultravioleta extremo (EUV), tecnologia usada na fabricação de chips avançados. Frank Rohmund, que lidera a divisão de semicondutores da Zeiss, considera razoável estimar que o país levará cerca de 15 anos para desenvolver seus próprios equipamentos EUV. O UBS, por sua vez, avalia que uma alternativa viável à tecnologia da ASML dificilmente surgirá na próxima década. São projeções, não prazos garantidos — e elas apontam para marcos relacionados, mas não idênticos. 13

Por que a tecnologia EUV é tão difícil de alcançar

A litografia é uma etapa da fabricação de chips em que padrões minúsculos são impressos nos circuitos. A EUV está no centro da disputa porque é a tecnologia avançada que a China tenta alcançar sem acesso aos sistemas mais sofisticados da ASML. Rohmund ressalva, porém, que é difícil medir com precisão o ritmo do avanço chinês; por isso, os 15 anos não devem ser entendidos como uma contagem regressiva exata. 13

O desafio não se resume a projetar uma máquina. A Zeiss é uma fornecedora-chave da óptica especializada usada nos sistemas EUV da ASML, o que torna a cadeia de fornecedores parte importante da vantagem tecnológica atual. 2

DUV pode avançar antes — mas não é EUV

Uma possibilidade mais próxima está na litografia por ultravioleta profundo (DUV) de imersão, uma tecnologia anterior à EUV. Segundo as projeções atribuídas ao UBS, a China poderia chegar à produção em alto volume desses sistemas em dois a cinco anos. Isso indicaria avanço na fabricação doméstica de equipamentos, não uma conquista de EUV nem a substituição dos sistemas mais avançados da ASML. 3

A diferença é importante: uma previsão de produção de DUV não significa que a China tenha eliminado a distância em relação à EUV. As estimativas tratam esses dois caminhos tecnológicos separadamente. 3

Controles de exportação têm efeitos em direções opostas

As restrições de exportação impedem o envio de sistemas EUV para a China, e alguns equipamentos avançados de DUV de imersão também estão sujeitos a exigências de licença. Essas medidas limitam o acesso a ferramentas estrangeiras. Ao mesmo tempo, Rohmund alertou que ampliar os controles pode incentivar a China a acelerar o desenvolvimento de tecnologia própria. 2311

Por isso, o efeito de longo prazo não é simples de prever. As restrições podem restringir o acesso a equipamentos, mas também aumentar o estímulo para criar alternativas nacionais. As fontes não determinam em quanto tempo essa resposta poderia reduzir a diferença tecnológica. 2

Demanda ligada à IA e a resposta da Zeiss

A procura por componentes para a indústria de semicondutores também cresce com a demanda relacionada à inteligência artificial. Uma reportagem sobre a resposta da Zeiss informa que a empresa ampliou sua sede de fabricação de componentes para semicondutores, está construindo capacidade adicional em outra unidade e diz que pode expandir ainda mais a produção se necessário.

Isso demonstra uma resposta à demanda por capacidade — não um plano declarado especificamente para enfrentar o desenvolvimento chinês de EUV ou os controles de exportação. A distinção ajuda a separar duas questões que afetam o setor: a disputa pela litografia avançada e o desafio prático de fornecer mais óptica à medida que a demanda cresce.

O que as estimativas indicam — e o que não indicam

A leitura mais cautelosa é que a China pode avançar em DUV antes de alcançar a EUV. As previsões para desenvolver uma máquina EUV própria ou uma alternativa viável à tecnologia da ASML continuam na escala de uma década ou mais. A estimativa de 15 anos é uma avaliação de um executivo de uma importante fornecedora do setor; a projeção do UBS é uma análise de mercado. Nenhuma das duas estabelece um calendário certo. 13

Três fatores ajudam a entender o cenário: a óptica da Zeiss é parte importante da cadeia de fornecimento dos sistemas EUV da ASML; os controles restringem o acesso a equipamentos, mas podem também estimular o desenvolvimento doméstico; e a demanda associada à IA está levando a Zeiss a ampliar sua capacidade. Como essas forças vão interagir ainda é incerto, e as informações disponíveis não apontam quando — ou se — a China igualará os sistemas EUV atuais. 23