Governo dos EUA suspeita que máquina de US$ 400 milhões da ASML tenha ido parar na China

As Evidências Citadas por Autoridades dos EUA

As provas específicas que fundamentam a preocupação americana não foram detalhadas publicamente. A agência Bloomberg, que publicou a história, citou "pessoas familiarizadas com o assunto", mas não descreveu a inteligência, registros de embarque ou outras provas que motivaram a intervenção de Lutnick . Não há relatos públicos confirmados de avistamento de uma máquina EUV na China, interceptação de carregamento ou registros de serviço que indiquem instalação não autorizada.

No entanto, o contexto mais amplo pode explicar a suspeita. Em dezembro de 2025, a Reuters noticiou que pesquisadores chineses em Shenzhen haviam construído um protótipo de uma máquina de litografia EUV, como parte do que descreveram como um "Projeto Manhattan" chinês para rivalizar com o Ocidente em chips de IA . Paralelamente, analistas apontam que alguns componentes de uso duplo ou menos restritos, que poderiam auxiliar no desenvolvimento doméstico de EUV, têm sido mais difíceis de rastrear . A conexão entre esses fatos e a acusação atual, contudo, não foi confirmada.

Contexto Mais Amplo: Sanções e o MATCH Act

• Proibição de EUV (já existente): Os controles de exportação liderados pelos EUA já proíbem a ASML de enviar máquinas EUV para a China. Se a acusação for verdadeira, representaria uma violação dessa proibição de longa data .
• Controles de DUV (atuais): As máquinas de litografia DUV (ultravioleta profundo) de imersão, menos avançadas que as EUV, mas capazes de produzir chips de até 7nm, continuam sendo vendidas para a China e são o próximo grande alvo das restrições .
• O MATCH Act: No início de abril de 2026, um grupo bipartidário de legisladores dos EUA apresentou o Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Act (H.R. 8170) . Os principais pontos do projeto incluem:
  • Uma proibição em todo o território nacional (dos EUA) da venda de equipamentos semicondutores considerados "gargalos", incluindo máquinas DUV de imersão e ferramentas de gravação a frio (cryogenic etch), para qualquer destino dentro de um país de preocupação (citando diretamente a China) .
  • A exigência de que nações aliadas como Holanda e Japão alinhem suas restrições de exportação com as regras dos EUA em até 150 dias, ou enfrentem uma aplicação unilateral dos EUA por meio de uma Regra de Produto Estrangeiro Direto (Foreign Direct Product Rule) expandida, que daria a Washington jurisdição sobre qualquer equipamento que contenha tecnologia americana .
  • A proibição de manutenção e serviço técnico em máquinas DUV já instaladas na China .
  • O projeto foi aprovado no Comitê de Relações Exteriores da Câmara no final de abril de 2026 e avançou como parte de um pacote mais amplo de medidas de controle de exportação .

Em resumo, o MATCH Act busca codificar e ampliar em lei os atuais controles de exportação do Poder Executivo, fechando a "brecha" das máquinas DUV e pressionando aliados a fazerem o mesmo — tudo isso enquanto a nova alegação sobre uma máquina EUV sugere que mesmo as proibições mais rigorosas podem enfrentar desafios de fiscalização.