ASML tnie czas produkcji maszyn EUV o 30% i celuje w prawie podwojenie produkcji do 2027 roku

Konkretne metody napędzające to przyspieszenie obejmują:

• Reorganizacja fabryki i równoległe strumienie pracy: ASML przestawia boksy w czystych pomieszczeniach, aby całą przestrzeń przeznaczyć na produkcję, a nie na magazynowanie, oraz prowadzi więcej etapów montażu i testów równolegle, a nie sekwencyjnie .
• Usprawnione protokoły testowania: Firma skraca czasy cykli testowania przy jednoczesnym utrzymaniu standardów jakości, co jest delikatną równowagą w przypadku maszyn, które muszą osiągać precyzję na poziomie nanometrów .
• Szybsza przepustowość wafli na maszynę: Najnowszy model TWINSCAN NXE:3800E osiąga już 230 wafli na godzinę, w porównaniu do 160 w poprzedniej generacji . Oznacza to, że każda maszyna produkuje więcej chipów, więc klienci potrzebują mniej maszyn do uzyskania tej samej wydajności - skutecznie zwiększając zysk wydajności z każdej wysłanej jednostki.
• Usprawnienia łańcucha dostaw i komponentów: Wąskie gardła w dostawie komponentów i końcowej integracji są redukowane, tak aby maszyny spędzały mniej czasu na hali produkcyjnej .

Cele mocy produkcyjnych na lata 2027 i 2028

ASML przedstawił jasny, wieloletni plan zwiększenia mocy produkcyjnych, z celami, które zostały znacznie podniesione w stosunku do wcześniejszych prognoz:

• Wartość mocy produkcyjnych low-NA EUV na 2027 r. wynosząca około 85 systemów oznacza wzrost o około 30% w porównaniu z około 65 systemami planowanymi na 2026 r. . Prawie cała ta zdolność produkcyjna na 2027 r. jest już zarezerwowana przez klientów .
• Bank of America podniósł prognozę jednostek low-NA EUV na 2028 r. do 97 jednostek, co odzwierciedla wiarę w dalszą ekspansję . Barclays modeluje jeszcze wyższe wartości: 90 jednostek w 2027 r. i 100 w 2028 r. .
• Plany zdolności produkcyjnych wyraźnie uwzględniają popyt ze strony planowanej przez Elona Muska megafabryki Terafab w Teksasie .

ASML zauważył również, że teoretycznie mógłby wysłać do 90 narzędzi EUV w 2027 r. bez dodawania fizycznej mocy produkcyjnej, wyłącznie dzięki wydajności . Niektórzy analitycy, w tym JPMorgan, uważają, że firma mogłaby wyprodukować nawet 110 jednostek do 2028 r., jeśli popyt się utrzyma .

Związek z wąskim gardłem układów AI

Maszyny litograficzne EUV są najbardziej ograniczonym narzędziem w produkcji półprzewodników najnowszej generacji. Każdy zaawansowany układ AI - czy to procesor graficzny od NVIDIA, akcelerator od AMD, czy niestandardowy krzem od Google lub Amazon - opiera się na EUV do drukowania najmniejszych elementów obwodów. Zbudowanie każdej maszyny zajmuje około roku, co bezpośrednio ogranicza szybkość rozbudowy infrastruktury AI . Dyrektor generalny Christophe Fouquet powiedział, że firma robi „wszystko, co w jej mocy”, aby przyspieszyć dostawy i zaspokoić gwałtownie rosnący popyt napędzany przez AI .

Dzięki jednoczesnemu:

• Skróceniu czasu budowy o ~30%,
• Zwiększeniu przepustowości wafli na maszynę (NXE:3800E przy 230 wafle/godzinę w porównaniu do 160),
• Prawie podwojeniu rocznej wydajności low-NA EUV z ~44 jednostek (2025) do ~80+ do 2027 r.,

ASML bezpośrednio atakuje wąskie gardło po stronie podaży, które ograniczało produkcję chipów AI. Firma zademonstrowała również 1000-watowe źródło światła EUV, co jest przełomem, który może umożliwić 50% wzrost ogólnej produkcji chipów do 2030 r. .

Wyniki finansowe za Q2 2026

ASML ogłosił wyniki za drugi kwartał 2026 r. 15 lipca 2026 r., które przewyższyły zarówno prognozy własne spółki, jak i konsensus analityków z Wall Street:

Zrewidowana prognoza przychodów na cały rok 2026

ASML po raz drugi w tym roku podniósł prognozę całkowitej sprzedaży netto na 2026 r., co odzwierciedla utrzymujący się wzrost popytu na chipy napędzane przez AI:

• Nowa prognoza na 2026 r.: od 43 do 45 miliardów euro
• Poprzednia prognoza (kwiecień 2026 r.): od 36 do 40 miliardów euro
• Początkowa prognoza (początek 2026 r.): od 34 do 39 miliardów euro

Spółka prognozuje również sprzedaż netto w Q3 2026 w przedziale 11,0–12,0 miliarda euro, z marżą brutto na poziomie 55–57% .