Ile lat dzieli Chiny od własnych maszyn EUV?

Chińska droga do własnych maszyn do litografii w skrajnym ultrafiolecie (EUV) wciąż jest trudna do dokładnego oszacowania. Dwie prognozy wskazują jednak na dużą lukę: Frank Rohmund, szef działu półprzewodników w niemieckiej firmie Zeiss, uznał około 15 lat za rozsądny szacunek czasu potrzebnego Chinom na opracowanie takich urządzeń. Analitycy UBS oceniają z kolei, że w ciągu najbliższej dekady mało prawdopodobne jest stworzenie przez Chiny realnej alternatywy dla technologii EUV firmy ASML. To prognozy, nie ustalone terminy, a oba szacunki dotyczą powiązanych, ale nie identycznych celów. 13

Dlaczego EUV jest tak trudne do skopiowania?

Litografia to jeden z etapów produkcji układów scalonych: za pomocą specjalistycznych urządzeń przenosi się wzory obwodów na wafle krzemowe. EUV to technologia istotna w debacie o przewadze w produkcji najbardziej zaawansowanych chipów. UBS ocenia, czy Chiny będą w stanie opracować sprzęt, który mógłby zastąpić czołowe rozwiązania EUV firmy ASML. Rohmund podkreśla przy tym, że postępy Chin trudno zmierzyć, dlatego 15-letniego szacunku nie należy traktować jak dokładnego odliczania do przełomu. 13

Wyzwanie nie kończy się na zaprojektowaniu samej maszyny. Zeiss dostarcza specjalistyczną optykę wykorzystywaną w systemach EUV ASML, więc jest ważnym ogniwem obecnego łańcucha dostaw. 2

DUV może rozwijać się szybciej, ale to nie EUV

Bliższym celem dla Chin jest litografia immersyjna w głębokim ultrafiolecie (DUV) — starsza kategoria technologii. Według relacji z analizy UBS Chiny mogą osiągnąć produkcję wielkoseryjną maszyn immersyjnych DUV w ciągu dwóch do pięciu lat. Taka prognoza dotyczy rozwoju krajowej produkcji urządzeń, a nie przełomu w EUV ani zastąpienia najbardziej zaawansowanych systemów ASML. 3

To ważne rozróżnienie: prognoza dotycząca produkcji maszyn DUV nie jest dowodem, że Chiny zniwelowały lukę w EUV. Dostępne szacunki traktują te ścieżki technologiczne osobno. 3

Ograniczenia eksportowe mogą działać w dwóch kierunkach

Zgodnie z opisywanymi ograniczeniami maszyn EUV nie można dostarczać do Chin, a eksport części zaawansowanych urządzeń immersyjnych DUV również wymaga uzyskania licencji. Utrudnia to dostęp do zagranicznego sprzętu. Rohmund ostrzega jednak, że dalsze zaostrzanie kontroli może zarazem skłaniać Chiny do szybszego rozwijania własnych technologii. 2311

Długofalowego skutku nie da się więc sprowadzić do prostego wniosku, że ograniczenia wyłącznie wzmacniają jedną stronę. Mogą blokować dostęp do konkretnych narzędzi, a jednocześnie zwiększać motywację do budowy krajowych odpowiedników. Dostępne źródła nie przesądzają, jak szybko takie działania mogłyby zmniejszyć dystans. 2

Popyt związany z AI i inwestycje Zeiss

Rynek urządzeń do produkcji półprzewodników kształtuje również rosnący popyt związany ze sztuczną inteligencją. Według doniesień o działaniach Zeiss firma rozbudowała swoją główną siedzibę produkcyjną zajmującą się półprzewodnikami, budowała dodatkowe moce w innej lokalizacji i informowała, że może zwiększyć produkcję, jeśli zajdzie taka potrzeba.

To informacja o reakcji na rosnący popyt, a nie o konkretnym planie skierowanym przeciwko rozwojowi chińskiego EUV czy ograniczeniom eksportowym. Warto oddzielić te kwestie: rynek mierzy się zarówno z konkurencją o zaawansowaną litografię, jak i z praktycznym wyzwaniem zwiększania dostaw optyki.

Co wynika z prognoz — a czego nie przesądzają

Najostrożniejszy wniosek jest taki, że Chiny mogą szybciej poczynić postępy w DUV niż w EUV, a szacunki dotyczące własnej maszyny EUV lub realnej alternatywy dla ASML mówią o co najmniej dekadzie. Piętnaście lat to ocena przedstawiciela ważnego dostawcy dla branży, a prognoza UBS — przewidywanie analityków. Żadna z nich nie gwarantuje konkretnego terminu. 13

Na perspektywy rynku składają się trzy istotne elementy: optyka Zeiss jest ważną częścią łańcucha dostaw systemów EUV ASML; ograniczenia eksportowe utrudniają dostęp do zaawansowanych urządzeń, ale mogą też pobudzać krajowy rozwój; a rosnący popyt związany z AI skłania Zeiss do zwiększania mocy produkcyjnych. Jak te czynniki wpłyną na tempo zmian, pozostaje otwarte — dostępne doniesienia nie wskazują, kiedy ani czy Chiny dorównają obecnym systemom EUV. 23