Czy najnowocześniejsza maszyna ASML trafiła do Chin? USA naciskają, firma zaprzecza

Dowody, na które powołują się urzędnicy USA

Nie ujawniono publicznie żadnych konkretnych dowodów leżących u podstaw obaw USA. Agencja Bloomberg News, która podała tę wiadomość jako pierwsza, powołała się na „osoby zaznajomione ze sprawą”, ale nie opisała żadnych dowodów wywiadowczych, dokumentów przewozowych ani innych dowodów, które skłoniły Lutnicka do interwencji . W publicznie dostępnych doniesieniach nie ma mowy o potwierdzonym obserwowaniu maszyny EUV w Chinach, przechwyconych przesyłkach ani dziennikach serwisowych wskazujących na nieautoryzowaną instalację.

Szerszy kontekst może jednak rzucać światło na podejrzenia. W grudniu 2025 r. agencja Reuters podała, że chińscy naukowcy w Shenzhen zbudowali prototyp maszyny litograficznej EUV w ramach opisywanego jako chiński „Projekt Manhattan” mający na celu dorównanie Zachodowi w dziedzinie chipów AI . Ponadto analitycy zauważyli, że niektóre komponenty podwójnego zastosowania lub mniej restrykcyjne, które mogłyby pomóc w krajowym rozwoju EUV, są trudniejsze do wyśledzenia . Nie potwierdzono jednak, czy te wydarzenia mają związek z obecnymi zarzutami.

Szerszy kontekst ograniczeń eksportowych i ustawa MATCH Act

• Obecny zakaz EUV: Istniejące już ograniczenia eksportowe pod przewodnictwem USA zabraniają ASML wysyłania systemów EUV do Chin. Gdyby zarzuty się potwierdziły, oznaczałoby to naruszenie tego długoletniego zakazu .
• Kontrola DUV (obecnie): Mniej zaawansowane maszyny litograficzne z głębokim ultrafioletem (DUV) zanurzeniowym, które mogą produkować chipy w procesie technologicznym do 7 nm, nadal trafiały do Chin i są kolejnym celem ograniczeń .
• Ustawa MATCH Act: Na początku kwietnia 2026 r. dwupartyjna grupa amerykańskich prawodawców wprowadziła Ustawę o wielostronnym dostosowaniu kontroli technologii sprzętowych (MATCH Act) (H.R. 8170) . Kluczowe postanowienia obejmują:
  • Ogólnokrajowy zakaz sprzedaży „krytycznego” sprzętu do produkcji półprzewodników, w tym zanurzeniowych maszyn litograficznych DUV i narzędzi do trawienia kriogenicznego, do dowolnego miejsca w kraju objętym zainteresowaniem (w tym bezpośrednio do Chin) .
  • Wymóg, aby kraje sojusznicze, takie jak Holandia i Japonia, dostosowały swoje ograniczenia eksportowe do zasad USA w ciągu 150 dni, w przeciwnym razie grozi im jednostronne egzekwowanie przez USA poprzez rozszerzoną Zasadę Produktu Bezpośredniego Zagranicznego, która dałaby Waszyngtonowi jurysdykcję nad każdym sprzętem zawierającym amerykańską technologię .
  • Zakaz serwisowania już zainstalowanych maszyn DUV w Chinach .
  • Ustawa przeszła przez Komisję Spraw Zagranicznych Izby Reprezentantów pod koniec kwietnia 2026 r. i została przesunięta w ramach szerszego głosowania nad środkami kontroli eksportu .

Krotko mówiąc, ustawa MATCH Act ma na celu skodyfikowanie i rozszerzenie obecnych wykonawczych kontroli eksportu na poziomie ustawy, zamknięcie luki dotyczącej DUV i wywarcie presji na sojuszników, aby poszli w ich ślady – podczas gdy nowe zarzuty dotyczące EUV sugerują, że nawet najbardziej rygorystyczne istniejące zakazy mogą napotykać wyzwania w zakresie egzekwowania.