Kina har fortsatt et langt stykke igjen til egne EUV-maskiner

Kina har et betydelig teknologigap til de mest avanserte litografimaskinene, ifølge anslag fra Zeiss og UBS. Zeiss-leder Frank Rohmund mener det er rimelig å regne med at Kina trenger rundt 15 år på å utvikle egne EUV-maskiner. UBS vurderer på sin side at en kinesisk løsning som kan konkurrere med ASMLs EUV-teknologi, neppe er klar innen det neste tiåret. Dette er prognoser, ikke fastsatte tidsfrister, og anslagene viser til beslektede, men ikke helt like milepæler. 13

Hvorfor EUV er vanskelig å kopiere

Litografimaskiner brukes til å overføre de ørsmå kretsmønstrene på en databrikke. EUV – ekstremt ultrafiolett lys – er teknologien i sentrum for kappløpet om å lage de mest avanserte brikkene. UBS’ vurdering handler særlig om hvorvidt Kina kan utvikle utstyr som kan erstatte ASMLs ledende EUV-teknologi. Rohmund understreker samtidig at det er vanskelig å måle nøyaktig hvor langt Kina har kommet, så 15-årsanslaget bør ikke forstås som en presis nedtelling. 13

Utfordringen handler dessuten om mer enn å konstruere én maskin. Zeiss leverer spesialisert optikk til ASMLs EUV-systemer, og er dermed en viktig del av leverandørkjeden bak teknologien. 2

DUV kan komme raskere – men er ikke EUV

På kortere sikt kan Kina gjøre større fremskritt innen nedsenkingsbasert dyp ultrafiolett litografi, kjent som DUV. Dette er en eldre kategori utstyr enn EUV. UBS-analytikere ventes å mene at Kina kan nå storskalaproduksjon av slike DUV-systemer innen to til fem år. Det vil i så fall være et steg mot større innenlandsk produksjon av utstyr, ikke et gjennombrudd innen EUV eller en erstatning for ASMLs mest avanserte maskiner. 3

Det er viktig å holde de to teknologisporene fra hverandre: En prognose om DUV-produksjon er ikke i seg selv tegn på at Kina har tatt igjen EUV-forspranget. Anslagene omtaler dem separat. 3

Eksportrestriksjoner kan virke begge veier

De rapporterte restriksjonene stenger EUV-systemer ute fra Kina, og eksport av enkelte avanserte DUV-maskiner krever også tillatelse. Tiltakene begrenser kinesisk tilgang til utenlandsk utstyr. Samtidig har Rohmund advart om at ytterligere restriksjoner kan gi Kina sterkere grunn til å utvikle egne løsninger. 2311

Dermed er det vanskelig å slå fast at kontrolltiltakene bare gagner den ene siden. De kan begrense tilgangen på maskiner og komponenter, men ifølge Zeiss-lederen kan de også øke insentivet til å bygge opp en egen industri. Kildene gir ikke grunnlag for å si hvor raskt en slik satsing eventuelt vil redusere forspranget. 2

AI-etterspørsel og Zeiss’ kapasitet

Økt etterspørsel knyttet til kunstig intelligens påvirker også markedet for utstyr til brikkeproduksjon. En rapport om Zeiss’ respons sier at selskapet har utvidet hovedanlegget for halvlederproduksjon, bygger ut kapasiteten ved et annet anlegg og opplyser at produksjonen kan skaleres videre ved behov.

Dette beskriver en kapasitetsutvidelse som svar på økende etterspørsel – ikke en konkret plan rettet mot Kinas EUV-utvikling eller eksportrestriksjoner. Skillet er viktig: Utsiktene påvirkes både av konkurransen om avansert litografi og av behovet for å levere mer optikk etter hvert som etterspørselen øker.

Hva anslagene forteller – og ikke forteller

Det mest nærliggende bildet er at Kina kan komme lenger innen DUV før landet eventuelt utvikler EUV-teknologi på nivå med dagens ledende systemer. Anslagene for en kinesisk EUV-maskin eller en brukbar konkurrent til ASMLs teknologi ligger fortsatt på minst ti år. Zeiss’ anslag på rundt 15 år er vurderingen til en sentral leverandør, mens UBS’ tidslinje er en analytikerprognose. Ingen av dem er en garanti for hvor raskt utviklingen vil gå. 13

Tre forhold peker seg ut: Zeiss’ optikk er en viktig del av ASMLs EUV-leverandørkjede; eksportkontroll begrenser tilgangen, men kan også stimulere utvikling av innenlandsk teknologi; og økt AI-relatert etterspørsel får Zeiss til å bygge ut kapasiteten. Hvordan disse kreftene virker sammen, vil påvirke markedet. Men rapporteringen fastslår ikke når – eller om – Kina vil kunne matche dagens EUV-systemer. 23