USA hevder at ASMLs avanserte EUV-maskin kan ha havnet i Kina – selskapet avviser

Bevisene som siteres av amerikanske tjenestemenn

De konkrete bevisene som ligger til grunn for USAs bekymring, har ikke blitt offentliggjort i detalj. Bloomberg News, som omtalte saken, rapporterte om forholdet med henvisning til «kilder med kjennskap til saken», men beskrev ikke etterretningen, forsendelsesregistrene eller andre bevis som førte til Lutnicks intervensjon . Offentlig tilgjengelig rapportering nevner ingen bekreftet observasjon av et EUV-system i Kina, ingen avlyttede forsendelser og ingen servicelogger som viser uautorisert installasjon.

Den bredere bakgrunnen kan kaste lys over mistanken. I desember 2025 rapporterte Reuters at kinesiske forskere i Shenzhen hadde bygget en prototype av en EUV-litografimaskin som en del av det som ble beskrevet som Kinas «Manhattan-prosjekt» for å utfordre Vesten innen AI-brikker . I tillegg har analytikere bemerket at noen tosidige eller mindre restriktive komponenter som kan bidra til innenlandsk EUV-utvikling, har vært vanskeligere å spore . Hvorvidt disse utviklingene er knyttet til den aktuelle påstanden, er imidlertid ubekreftet.

Bredere kontekst: Eksportrestriksjoner og MATCH Act

• Eksisterende EUV-forbud: USAs-ledede eksportkontroller forbyr allerede ASML å sende EUV-systemer til Kina. Hvis denne påstanden er sann, vil det representere et brudd på dette langvarige forbudet .
• DUV-kontroller (nåværende): Mindre avanserte dyp-ultrafiolette (DUV) immersjonslitografimaskiner, som kan produsere brikker ned til 7nm-noder, har fortsatt å strømme til Kina og er det neste store målet for restriksjoner .
• MATCH Act: I begynnelsen av april 2026 introduserte en tverrpolitisk gruppe amerikanske lovgivere Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Act (H.R. 8170) . Viktige bestemmelser inkluderer:
  • Et landsdekkende forbud mot salg av «flaskehals»-halvlederproduksjonsutstyr, inkludert DUV-immersjonslitografiverktøy og kryogene etseverktøy, til enhver destinasjon inne i et bekymringsland (som navngir Kina direkte) .
  • Et krav om at allierte nasjoner som Nederland og Japan må tilpasse sine eksportrestriksjoner til USAs regler innen 150 dager, eller møte ensidig håndhevelse fra USA via en utvidet Foreign Direct Product Rule som vil gi Washington jurisdiksjon over alt utstyr som inneholder amerikansk teknologi .
  • Et forbud mot service på allerede installerte DUV-maskiner i Kina .
  • Lovforslaget passerte House Foreign Affairs Committee i slutten av april 2026 og ble fremmet som en del av en bredere gjennomgang av eksportkontrolltiltak .

Kort sagt søker MATCH Act å kodifisere og utvide de nåværende utøvende eksportkontrollene til lov, tette DUV-smutthullet og presse allierte til å følge etter – alt mens den nye EUV-påstanden antyder at selv de strengeste eksisterende forbudene kan stå overfor håndhevingsutfordringer.