Zeiss topman Frank Rohmund noemt 15 jaar een redelijke schatting voor de ontwikkeling van Chinese EUV machines; UBS acht een bruikbaar alternatief voor ASML binnen tien jaar onwaarschijnlijk. Zeiss levert belangrijke optische onderdelen voor ASML’s EUV systemen.
Gepubliceerd doorBewerkt met GPT-6 LunaAfbeeldingen gegenereerd met GPT Image 2
Research answer

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: How far is China from developing its own EUV lithography machines, according to Zeiss and UBS, and how do ASML’s dependence on Zeiss optics,. Article summary: Zeiss semiconductor chief Frank Rohmund says **about 15 years** is a reasonable estimate for China to develop its own EUV lithography machines, while cautioning that its progress is hard to measure. UBS is less specific:. Topic tags: general, news, general web, user generated. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts w
China heeft nog een flinke weg te gaan voordat het zelf EUV-lithografiemachines kan bouwen. Frank Rohmund, hoofd van de halfgeleiderdivisie van Zeiss, noemt ongeveer 15 jaar een redelijke schatting. UBS verwacht dat China binnen tien jaar waarschijnlijk geen levensvatbaar alternatief voor ASML’s EUV-technologie ontwikkelt. Het zijn voorspellingen, geen vaste deadlines, en ze beschrijven verwante maar niet precies dezelfde mijlpalen. 1
3
Lithografiemachines brengen patronen aan op chips. EUV-lithografie is de technologie waar de discussie over China’s achterstand vooral om draait: de UBS-inschatting gaat over de vraag of China apparatuur kan ontwikkelen die ASML’s geavanceerde EUV-systemen kan vervangen. Rohmund waarschuwde dat de voortgang van China moeilijk te meten is. Zijn schatting van 15 jaar is dus geen nauwkeurige aftelklok. 1
3
De uitdaging is bovendien groter dan alleen het bouwen van een machine. Zeiss levert gespecialiseerde optiek voor ASML’s EUV-systemen. Die samenwerking maakt Zeiss een belangrijke schakel in de bestaande toeleveringsketen voor deze machines. 2
Op kortere termijn ligt er mogelijk meer vooruitgang in het verschiet bij immersie-DUV-lithografie, een oudere technologie. Volgens de UBS-verwachting, zoals gerapporteerd, kan China binnen twee tot vijf jaar immersie-DUV-systemen op grote schaal produceren. Dat zou vooruitgang betekenen in de binnenlandse productie van chipmachines, maar niet inhouden dat China een doorbraak in EUV heeft bereikt of ASML’s meest geavanceerde systemen kan vervangen. 3
Dat onderscheid is belangrijk: een voorspelling over DUV-productie is geen bewijs dat China de achterstand op EUV heeft ingehaald. De beschikbare inschattingen behandelen de twee technologieën als afzonderlijke trajecten. 3
De gerapporteerde beperkingen houden EUV-systemen buiten China. Voor de export van sommige geavanceerde immersie-DUV-systemen gelden eveneens vergunningsvereisten. Zulke maatregelen beperken de toegang tot buitenlandse apparatuur. Tegelijkertijd heeft Rohmund gewaarschuwd dat verdere beperkingen China juist kunnen aanzetten om de eigen innovatie te versnellen. 2
3
11
Het langetermijneffect is daardoor niet eenvoudig als winst voor de ene of de andere partij te bestempelen. Beperkingen kunnen de toegang tot machines bemoeilijken, maar volgens de Zeiss-topman ook de prikkel vergroten om binnenlandse alternatieven te ontwikkelen. De bronnen geven geen uitsluitsel over hoe snel dat de technologische achterstand kan verkleinen. 2
De vraag die samenhangt met AI beïnvloedt ook de markt voor chipproductieapparatuur. Volgens een bericht over Zeiss’ reactie op de toenemende vraag naar optiek voor de halfgeleiderindustrie heeft het bedrijf zijn productiehoofdkantoor voor die activiteiten uitgebreid, bouwt het op een andere locatie extra capaciteit op en zegt het dat verdere opschaling mogelijk is als dat nodig blijkt.
Dat wijst op een capaciteitsreactie op de vraag, niet op een specifiek plan om China’s EUV-ontwikkeling of exportbeperkingen aan te pakken. De markt kent dus zowel de concurrentiestrijd rond geavanceerde lithografie als de praktische uitdaging om meer optische onderdelen te leveren wanneer de vraag stijgt.
De voorzichtigste conclusie is dat China mogelijk eerder vooruitgang boekt met DUV dan met EUV, terwijl de voorspellingen voor een eigen EUV-machine of een volwaardig alternatief nog over minstens een decennium spreken. De schatting van 15 jaar komt van een topman bij een belangrijke leverancier van chipproductieapparatuur; de termijn van UBS is een analistenverwachting. Geen van beide is een gegarandeerde planning. 1
3
Drie factoren zijn bepalend voor het vooruitzicht: Zeiss’ optiek is een belangrijke schakel in de toeleveringsketen van ASML’s EUV-systemen; exportbeperkingen beperken de toegang, maar kunnen ook binnenlandse ontwikkeling aanmoedigen; en de groeiende vraag naar AI-gerelateerde chips zet Zeiss ertoe aan extra productiecapaciteit op te bouwen. Hoe die ontwikkelingen elkaar beïnvloeden, is nog niet duidelijk. De beschikbare berichtgeving voorspelt niet wanneer China de huidige EUV-systemen zal evenaren — of dat het zover komt. 2
3
Studio Global AI
This page includes a source-backed answer you can continue inside Studio Global.
Zeiss topman Frank Rohmund noemt 15 jaar een redelijke schatting voor de ontwikkeling van Chinese EUV machines; UBS acht een bruikbaar alternatief voor ASML binnen tien jaar onwaarschijnlijk.
Zeiss topman Frank Rohmund noemt 15 jaar een redelijke schatting voor de ontwikkeling van Chinese EUV machines; UBS acht een bruikbaar alternatief voor ASML binnen tien jaar onwaarschijnlijk. Zeiss levert belangrijke optische onderdelen voor ASML’s EUV systemen. Exportbeperkingen maken toegang tot geavanceerde apparatuur lastiger, maar kunnen volgens Rohmund ook de Chinese innovatie aanjagen.
UBS verwacht dat China binnen twee tot vijf jaar immersie DUV systemen op grote schaal kan produceren.