VS verdenkt ASML van lekken van meest geavanceerde chipmachine naar China

De Amerikaanse beschuldiging

De Amerikaanse handelsminister Howard Lutnick heeft in een reeks recente gesprekken met het topmanagement van ASML zijn zorgen geuit dat een van de meest geavanceerde extreme ultraviolet (EUV) lithografiemachines van het bedrijf mogelijk naar China is geëxporteerd. Dat zou een schending zijn van de door de VS geleide exportcontroles . Het gaat om een machine die meer dan 400 miljoen dollar per stuk kost en essentieel is voor de productie van geavanceerde AI- en smartphoneprocessors . Lutnick zei dat Washington vreest dat het systeem daadwerkelijk in China staat .

ASML's ontkenning

ASML wijst de beschuldiging resoluut en volledig van de hand. Een woordvoerder van het bedrijf zei dat ASML nooit een EUV-machine naar China heeft verscheept . Het bedrijf heeft de Amerikaanse functionarissen documentatie gestuurd om zich te verdedigen. Daarin benadrukt ASML dat EUV-machines ongeveer zo groot zijn als een schoolbus, in zeer beperkte oplages worden geproduceerd, constant onderhoud ter plekke door ASML-medewerkers vereisen en al onder strenge exportcontroles vallen die verkoop aan China verbieden . ASML stelt dat het "regelmatig open en transparante dialoog voert met regeringsleiders over de hele wereld" en dat het zowel Amerikaanse als Nederlandse exportcontroleregels begrijpt en naleeft .

Het bewijs van de Amerikaanse functionarissen

Het specifieke bewijsmateriaal achter de Amerikaanse zorg is niet openbaar bekendgemaakt. Bloomberg News, dat het nieuws bracht, meldde de kwestie op basis van "mensen die bekend zijn met de zaak", maar beschreef de inlichtingen, verzendgegevens of ander bewijs dat tot Lutnicks interventie leidde niet . In publiek toegankelijke berichtgeving is er geen bevestigde waarneming van een EUV-systeem in China, geen onderschepte zending en geen servicelogboeken die een ongeautoriseerde installatie aantonen.

De bredere achtergrond kan de argwaan voeden. In december 2025 meldde Reuters dat Chinese onderzoekers in Shenzhen een prototype van een EUV-lithografiemachine hadden gebouwd in wat zij het "Manhattan Project" van China noemden om het Westen te evenaren op het gebied van AI-chips . Los daarvan hebben analisten opgemerkt dat sommige dual-use of minder beperkte componenten die de binnenlandse EUV-ontwikkeling zouden kunnen helpen, moeilijker te traceren zijn . Of deze ontwikkelingen echter verband houden met de huidige beschuldiging is onbevestigd.

Bredere context van exportcontroles en de MATCH Act

• Bestaand EUV-verbod: De door de VS geleide exportcontroles verbieden ASML al om EUV-systemen naar China te verschepen. Als deze beschuldiging waar is, zou dat een schending zijn van dat al lang bestaande verbod .
• DUV-controles (huidig): Minder geavanceerde deep ultraviolet (DUV) immersie-lithografiemachines, die chips tot 7nm-knooppunten kunnen produceren, zijn nog steeds naar China gestroomd en zijn het volgende grote doelwit van beperkingen .
• De MATCH Act: Begin april 2026 diende een tweepartijdige groep Amerikaanse wetgevers de Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Act (H.R. 8170) in . Belangrijke bepalingen zijn:
  • Een landelijk verbod op de verkoop van "knelpunt"-halfgeleiderproductieapparatuur, waaronder DUV-immersie-lithografietools en cryogene etstools, aan elke bestemming binnen een land van zorg (waarbij China rechtstreeks wordt genoemd) .
  • Een vereiste dat bondgenoten zoals Nederland en Japan hun exportbeperkingen binnen 150 dagen moeten afstemmen op de Amerikaanse regels, anders riskeren ze eenzijdige Amerikaanse handhaving via een uitgebreide Foreign Direct Product Rule die Washington jurisdictie zou geven over alle apparatuur die Amerikaanse technologie bevat .
  • Een verbod op onderhoud van reeds geïnstalleerde DUV-machines in China .
  • Het wetsvoorstel heeft de House Foreign Affairs Committee aan het einde van april 2026 gepasseerd en is verder gegaan als onderdeel van een bredere markering van exportcontrolemaatregelen .
  • Sommige bepalingen zijn voor de stemming in de commissie afgezwakt (bijv. een landelijk verbod op cryogene etstools is geschrapt), maar de DUV-beperkingen zijn stevig gebleven .

Kortom, de MATCH Act probeert de huidige exportcontroles van de uitvoerende macht te codificeren en te verbreden tot een statuut, de DUV-achterdeur te sluiten en bondgenoten onder druk te zetten om hetzelfde te doen — terwijl de nieuwe EUV-beschuldiging suggereert dat zelfs de strengste bestaande verboden te maken kunnen krijgen met handhavingsproblemen.