ASML Potong Masa Bina Mesin EUV 30%, Hampir Gandakan Pengeluaran Tahunan Menjelang 2027

ASML, satu-satunya pengeluar sistem litografi ultraungu lampau (EUV) di dunia, sedang melaksanakan percepatan pengeluaran paling agresif dalam masa bertahun-tahun. Pada 15 Julai 2026, berserta pendapatan suku kedua yang mengatasi jangkaan, syarikat itu memperincikan usaha pelbagai serampang untuk memotong masa binaan mesin EUV sebanyak kira-kira 30%, mengembangkan kapasiti pengeluaran tahunan kepada kira-kira 85 sistem EUV NA rendah menjelang 2027, dan merancang lonjakan kapasiti besar lain pada 2028. Matlamatnya: menyerang secara langsung kesesakan bahagian bekalan yang menyekat pengeluaran cip AI paling canggih di dunia.

Pengurangan Masa Bina: Bagaimana ASML Memotong Kitaran ~30%

Mesin EUV NA rendah (0.33 numerical aperture) ASML antara peralatan industri paling kompleks pernah dibina, setiap satunya berharga kira-kira AS$300 juta . Masa dari permulaan bilik bersih hingga penghantaran — dikenali sebagai masa kitaran — adalah kira-kira 22 minggu beberapa suku lalu. CFO Roger Dassen mengesahkan ASML kini menyasarkan kitaran 15 hingga 16 minggu, pengurangan kira-kira 30% .

Kaedah khusus yang mendorong pecutan ini termasuk:

• Penyusunan semula kilang dan aliran kerja selari: ASML menyusun semula kabin bilik bersih untuk menumpukan semua ruang kepada pengeluaran dan bukannya peringkat, serta menjalankan lebih banyak langkah pemasangan dan ujian secara selari dan bukannya berturutan .
• Protokol ujian diperkemas: Syarikat mengurangkan masa kitaran ujian sambil mengekalkan piawaian kualiti, keseimbangan yang sukar untuk mesin yang mesti mencapai ketepatan skala nanometer .
• Pemprosesan wafer lebih pantas setiap mesin: Model TWINSCAN NXE:3800E terkini sudah menghasilkan 230 wafer sejam, meningkat daripada 160 dalam generasi sebelumnya . Ini bermakna setiap mesin menghasilkan lebih banyak cip, jadi pelanggan memerlukan lebih sedikit mesin untuk output yang sama — secara berkesan menguatkan keuntungan kapasiti daripada setiap unit yang dihantar.
• Penambahbaikan rantaian bekalan dan peringkat komponen: Kesesakan dalam penghantaran komponen dan penyepaduan akhir dikurangkan supaya mesin menghabiskan lebih sedikit masa keseluruhan di lantai kilang .

Sasaran Kapasiti Pengeluaran untuk 2027 dan 2028

ASML membentangkan peta jalan kapasiti pelbagai tahun yang jelas, dengan sasaran yang telah meningkat dengan ketara daripada panduan sebelumnya:

Metrik	2025 (sebenar)	2026 (sasaran)	2027 (sasaran)	2028 (rancangan)
Unit EUV NA rendah dihantar	~44	~60	~80 (kapasiti ~85)	Menilai ~30% lagi pengembangan
Unit rendaman DUV	~131	~130	Pengembangan +30% sedang dinilai	Pengembangan lanjut dipertimbangkan

• Angka kapasiti EUV NA rendah 2027 sebanyak kira-kira 85 sistem membayangkan peningkatan kira-kira 30% berbanding ~65 sistem yang dirancang untuk 2026 . Hampir keseluruhan kapasiti 2027 itu sudah ditempah oleh pelanggan .
• Bank of America menaikkan ramalan unit EUV NA rendah 2028 kepada 97 unit, mencerminkan keyakinan terhadap pengembangan berterusan . Barclays memodelkan lebih tinggi: 90 unit pada 2027 dan 100 pada 2028 .
• Pelan kapasiti secara jelas mengambil kira permintaan daripada Terafab mega-fab Elon Musk yang dirancang di Texas .

ASML juga menyatakan bahawa secara teori, ia boleh menghantar sehingga 90 alat EUV pada 2027 tanpa menambah kapasiti kilang fizikal, semata-mata melalui keuntungan kecekapan . Sesetengah penganalisis, termasuk JPMorgan, percaya syarikat itu boleh menghasilkan sebanyak 110 unit menjelang 2028 jika permintaan kekal .

Hubungan dengan Kesesakan Cip AI

Mesin litografi EUV adalah alat yang paling terhad dalam pengeluaran semikonduktor termaju. Setiap cip AI termaju — sama ada GPU daripada NVIDIA, pemecut daripada AMD, atau silikon tersuai daripada Google atau Amazon — bergantung pada EUV untuk mencetak ciri litar terkecil. Setiap mesin mengambil masa kira-kira setahun untuk dibina, secara langsung mengehadkan seberapa pantas infrastruktur AI boleh berkembang . CEO Christophe Fouquet berkata syarikat itu melakukan "segala daya" untuk mempercepatkan penghantaran bagi memenuhi permintaan dipacu AI yang melonjak .

Dengan serentak:

• Memotong masa bina sebanyak ~30%,
• Meningkatkan pemprosesan wafer setiap mesin (NXE:3800E pada 230 wafer/jam meningkat daripada 160),
• Hampir menggandakan output EUV NA rendah tahunan daripada ~44 unit (2025) kepada ~80+ menjelang 2027,

ASML secara langsung menyerang kesesakan bahagian bekalan yang telah menyekat pengeluaran cip AI. Syarikat itu juga telah menunjukkan sumber cahaya EUV 1,000-watt, satu kejayaan yang boleh membolehkan peningkatan 50% dalam pengeluaran cip keseluruhan menjelang 2030 .

Keputusan Pendapatan Suku Kedua 2026

ASML melaporkan keputusan suku kedua 2026 pada 15 Julai 2026, yang mengatasi kedua-dua panduan syarikat sendiri dan konsensus Wall Street:

Metrik	Keputusan S2 2026	lwn. Panduan / Konsensus
Jumlah jualan bersih	€9.3 bilion	Di atas titik tengah panduan €8.7B
Margin kasar	54.0%	Di atas julat panduan 51–52%
Pendapatan bersih	€2.9 bilion	—
EPS asas	€7.59 (~$8.69)	Mengatasi konsensus ~€6.88/$7.95
Jualan Pengurusan Pangkalan Terpasang	€2.8 bilion	Penyumbang kukuh kepada prestasi

Semakan Panduan Hasil Setahun Penuh 2026

ASML menaikkan unjuran jualan bersih setahun penuh 2026 buat kali kedua tahun ini, mencerminkan lonjakan berterusan dalam permintaan cip dipacu AI:

• Panduan 2026 baharu: €43 bilion hingga €45 bilion
• Panduan sebelumnya (April 2026): €36 bilion hingga €40 bilion
• Panduan awal (awal 2026): €34 bilion hingga €39 bilion

Syarikat itu juga memberi panduan jualan bersih S3 2026 dalam julat €11.0–€12.0 bilion, dengan margin kasar 55–57% .