Bilakah China mampu membina mesin litografi EUV sendiri?

China masih berdepan jurang besar dalam usaha membangunkan mesin litografi ultraungu ekstrem (EUV) sendiri. Frank Rohmund, yang mengetuai bahagian semikonduktor Zeiss, menyifatkan anggaran sekitar 15 tahun sebagai munasabah. UBS pula menjangka China tidak mungkin menghasilkan alternatif berdaya maju kepada teknologi EUV ASML dalam tempoh sedekad. Kedua-duanya ialah ramalan, bukannya tarikh akhir yang pasti, dan merujuk kepada pencapaian yang berkaitan tetapi tidak serupa. 13

Mengapa teknologi EUV sukar dikejar?

Mesin litografi digunakan untuk membentuk corak litar pada cip. EUV menjadi tumpuan dalam perbincangan tentang keupayaan China mengejar teknologi pembuatan cip paling canggih. Penilaian UBS khususnya melihat sama ada China mampu menghasilkan peralatan yang boleh menggantikan teknologi EUV terkemuka ASML. Rohmund turut mengingatkan bahawa kemajuan China sukar diukur; maka, anggaran 15 tahun itu bukan kiraan tepat menuju tarikh tertentu. 13

Cabaran ini bukan sekadar mereka bentuk sebuah mesin. Zeiss membekalkan optik khusus yang digunakan dalam sistem EUV ASML, menjadikannya bahagian penting dalam rantaian bekalan teknologi tersebut. 2

DUV mungkin lebih hampir, tetapi bukan EUV

Peluang China dalam masa terdekat lebih tertumpu pada litografi ultraungu dalam (DUV) jenis rendaman, iaitu teknologi daripada kategori yang lebih lama berbanding EUV. Penganalisis UBS dilaporkan menjangka China mungkin mencapai pengeluaran besar-besaran mesin DUV rendaman dalam tempoh dua hingga lima tahun. Ramalan itu merujuk kepada potensi pengeluaran peralatan tempatan, bukannya kejayaan membangunkan EUV atau menggantikan sistem paling canggih ASML. 3

Perbezaan ini penting: kemajuan dalam pengeluaran DUV tidak bermakna China sudah merapatkan jurang EUV. Anggaran yang tersedia menilai kedua-dua laluan teknologi itu secara berasingan. 3

Kawalan eksport dan kesan yang sukar dijangka

Sekatan yang dilaporkan menghalang penghantaran sistem EUV ke China, sementara eksport sesetengah mesin DUV rendaman canggih turut tertakluk kepada keperluan pelesenan. Langkah tersebut mengehadkan akses kepada peralatan luar negara. Namun, Rohmund memberi amaran bahawa kawalan tambahan boleh mendorong China mempercepat usaha inovasinya sendiri. 2311

Oleh itu, kesan jangka panjang sekatan tidak mudah diringkaskan sebagai kelebihan untuk satu pihak sahaja. Sekatan boleh menyukarkan akses kepada teknologi, tetapi pada masa sama meningkatkan dorongan untuk membangunkan alternatif domestik. Sumber yang tersedia tidak menentukan seberapa pantas usaha itu mampu mengecilkan jurang. 2

Permintaan AI dan langkah Zeiss menambah kapasiti

Permintaan berkaitan AI turut mempengaruhi pasaran peralatan semikonduktor. Menurut laporan tentang tindak balas Zeiss terhadap peningkatan permintaan bagi optik semikonduktor, syarikat itu telah memperluas ibu pejabat pembuatan semikonduktornya, sedang membina kapasiti pengeluaran tambahan di satu lagi lokasi, dan menyatakan bahawa pengeluaran boleh ditingkatkan lagi jika perlu.

Perkembangan itu menunjukkan tindak balas terhadap permintaan yang meningkat—bukan rancangan khusus yang dinyatakan untuk menyekat pembangunan EUV China atau menangani kawalan eksport. Bezanya penting: industri ini berdepan persaingan mendapatkan teknologi litografi canggih, di samping keperluan praktikal membekalkan lebih banyak komponen optik.

Apa yang boleh disimpulkan daripada ramalan ini?

Gambaran paling jelas ialah China mungkin lebih cepat maju dalam DUV berbanding EUV, sedangkan anggaran untuk membangunkan mesin EUV sendiri atau alternatif yang berdaya maju masih menjangkau sekurang-kurangnya sedekad. Angka 15 tahun daripada Zeiss ialah penilaian seorang eksekutif pembekal utama, manakala garis masa UBS ialah ramalan penganalisis. Kedua-duanya bukan jadual yang dijamin. 13

Tiga perkara membentuk gambaran setakat ini: optik Zeiss merupakan komponen penting dalam rantaian bekalan EUV ASML; kawalan eksport mengehadkan akses kepada peralatan, tetapi mungkin turut mendorong pembangunan domestik; dan permintaan berkaitan AI mendorong Zeiss menambah kapasiti. Bagaimana faktor-faktor ini berinteraksi akan mempengaruhi pasaran, namun laporan yang tersedia tidak menetapkan bila—atau sama ada—China akan menyamai sistem EUV masa kini. 23