Mengapa Ketua ASML Bimbang Sekatan Cip terhadap China Boleh Memakan Diri

Amaran Christophe Fouquet berkisar tentang kos jangka panjang jika kawalan eksport diperluas terlalu jauh: sekatan mungkin mengehadkan akses China kepada peralatan pembuatan cip dari luar negara hari ini, tetapi pada masa sama meningkatkan dorongan untuk membangunkan pilihan tempatan. Hujahnya ialah kawalan wajar berpandukan matlamat keselamatan negara — bukan dakwaan bahawa China sudah hampir menyamai teknologi paling maju ASML. 45

Mengapa sekatan lebih luas boleh memakan diri

China sudah dilarang membeli sistem litografi ultraungu ekstrem (EUV) ASML, tetapi masih boleh membeli peralatan ultraungu dalam (DUV) yang kurang canggih untuk kegunaan yang dibenarkan. 1417 Kebimbangan Fouquet, menurut laporan, ialah sekatan yang diperluas terlalu jauh boleh menjadikan pengganti buatan tempatan lebih menarik kepada syarikat dan pembuat dasar China. Dalam keadaan itu, langkah yang bertujuan mengehadkan akses juga mungkin membantu membina pesaing pada masa depan. 45

Risikonya bukan penggantian serta-merta satu demi satu. Membangunkan peralatan litografi amat mencabar, dan mesin tempatan perlu membuktikan prestasi serta kebolehpercayaannya dalam pengeluaran. Namun, pelaburan dan pengalaman yang berterusan berpotensi mengurangkan pergantungan kepada pembekal luar secara beransur-ansur dalam sebahagian pasaran.

Mengapa ASML menjadi titik sempit yang penting

Litografi EUV digunakan untuk mencetak corak halus pada semikonduktor termaju. ASML ialah satu-satunya pembekal komersial sistem ini, menjadikan peralatannya pautan penting dalam pengeluaran cip termaju, termasuk cip yang digunakan untuk kecerdasan buatan (AI). 813

Kedudukan itu tidak bermakna ASML boleh meningkatkan bekalan dengan pantas setiap kali permintaan melonjak. Syarikat tersebut melaporkan kekangan rantaian bekalan ketika permintaan terhadap peralatan pembuatan cip meningkat. Reuters melaporkan ASML merancang menghantar 60 sistem EUV low-NA pada 2026 dan mempunyai kapasiti untuk menghantar 80 pada 2027; laporan berasingan menyatakan kapasiti syarikat mungkin sudah ditempah hingga penghujung 2027. 117 Angka ini menunjukkan permintaan cip yang lebih canggih tidak serta-merta menghasilkan kapasiti litografi tambahan.

Apa yang ditunjukkan oleh usaha DUV China

Beberapa laporan menyebut usaha China membangunkan mesin litografi DUV termaju, dengan Huawei dikaitkan dengan gerakan lebih luas itu. Satu laporan menyatakan mesin berkenaan sedang diuji dan menyebut sasaran menghasilkan 12 sistem menjelang hujung 2026. Laporan tersebut menunjukkan kemungkinan laluan untuk membina keupayaan tempatan, tetapi sasaran dan prototaip belum membuktikan bahawa pengeluaran berskala besar boleh dilakukan dengan andal.

DUV dan EUV ialah teknologi yang berbeza. Kemajuan dalam peralatan DUV tempatan tidak membuktikan China mampu menggantikan sistem EUV ASML. Dalam laporan berasingan, Reuters menyatakan prototaip EUV China sedang diuji dan belum menghasilkan cip yang berfungsi. 2

Jika sistem DUV tempatan akhirnya terbukti boleh dipercayai dan berdaya saing pada skala besar, ia boleh memberi tekanan kepada perniagaan DUV ASML di China serta membantu pembekal tempatan menimba pengalaman. Kesimpulan yang lebih kukuh buat masa ini lebih terhad: China sedang mencari alternatif, tetapi laporan yang tersedia tidak menunjukkan bahawa negara itu sudah mengatasi kelebihan ASML dalam EUV.

Kesimpulannya

Amaran Fouquet berkaitan insentif dan jangka masa. Kawalan yang lebih luas boleh mendorong China melabur lebih banyak dalam peralatan buatan sendiri, sedangkan monopoli EUV ASML dan kapasiti pengeluarannya yang terhad menjadikan syarikat itu penting kepada pembuatan cip termaju pada masa ini. Usaha DUV China wajar diperhatikan sebagai kemungkinan cabaran persaingan jangka panjang — bukan bukti bahawa pengganti EUV akan muncul dalam masa terdekat.