Konsortium itu diketuai syarikat milik kerajaan Shanghai yang kurang dikenali, Shanghai Aishengna Electronic Technology Group . Pada 27 Julai sahaja, saham ASML pernah jatuh sehingga 8% dalam dagangan harian dan ditutup sekitar 6% lebih rendah. Kejatuhan itu turut menekan saham pembekal peralatan cip Amerika Syarikat seperti Applied Materials, Lam Research dan KLA .
Dalam tempoh dua sesi, ASML kehilangan kira-kira 12–13% nilainya, bersamaan sekitar €55–€60 bilion daripada permodalan pasaran . Penurunan itu berlaku ketika saham semikonduktor sememangnya berada di bawah tekanan akibat pengambilan untung, keputusan Samsung yang kurang memberangsangkan serta kebimbangan pelanggan menangguhkan naik taraf teknologi yang memerlukan modal besar .
Kebimbangan pelabur memang mempunyai asas: China kini menunjukkan kemajuan dalam bidang yang lama didominasi ASML. Namun, beberapa penganalisis utama berpendapat reaksi pasaran tidak sepadan dengan skala ancaman sebenar.
Angka pengeluaran menjadi hujah paling mudah difahami. China menyasarkan kira-kira lima mesin DUV pada 2026 dan sekitar 20 pada 2027, sedangkan ASML menghantar ratusan sistem setiap tahun. Malah, buku pesanannya dilaporkan sudah penuh sehingga 2027 .
Konsortium yang disokong kerajaan China itu dilaporkan mula menghasilkan mesin litografi rendaman DUV untuk dihantar kepada pengeluar cip tempatan termasuk SMIC, Hua Hong dan CXMT . Sasaran awalnya kecil—sekitar lima sistem pada 2026 dan 20 sistem pada 2027 .
Namun, laporan Reuters menyatakan bahawa sistem berkenaan masih ketinggalan dari segi prestasi dan kebolehpercayaan, serta memerlukan ujian lanjut sebelum mampu menyamai kualiti keluaran mesin ASML . Ini bermakna pencapaian tersebut penting dari sudut keupayaan industri China, tetapi belum membuktikan bahawa pengeluar tempatan boleh menyaingi ASML secara komersial pada skala besar.
EUV, atau litografi ultraungu ekstrem, ialah teknologi lebih maju yang digunakan untuk menghasilkan cip paling canggih. Mesin EUV merupakan aset teknologi paling penting dan menguntungkan ASML.
Pada Disember 2025, Reuters melaporkan bahawa sekumpulan bekas jurutera ASML di Shenzhen telah menyiapkan prototaip mesin EUV dan mengujinya di makmal berkeselamatan tinggi . Namun, prototaip itu masih belum menghasilkan cip yang berfungsi .
Tokoh industri cip China turut menggesa satu inisiatif nasional yang diselaraskan untuk membangunkan sistem litografi lengkap antara 2026 hingga 2030. Mereka bagaimanapun mengakui masih wujud jurang besar dalam perisian automasi reka bentuk elektronik (EDA), bahan asas dan teknologi EUV .
Kesan kewangan dalam tempoh terdekat dijangka kecil. Menurut Ketua Pegawai Kewangan ASML, Roger Dassen, China dijangka menyumbang sekitar 20% daripada jualan bersih syarikat pada 2026—menurun daripada 44% pada 2024 dan 42% pada 2025 .
Pada masa sama, bahagian jualan DUV dalam keseluruhan hasil ASML telah mengecil daripada 44% pada 2024 kepada 29% pada suku terkini . Perniagaan ASML kini semakin berat kepada sistem EUV bernilai tinggi, yang masih tidak boleh dihantar ke China akibat kawalan eksport dan kekal di luar capaian teknologi China buat masa ini .
Bank of America menganggarkan bahawa sekiranya China mendapatkan 20 mesin rendaman argon fluorida secara tempatan, kesannya terhadap jualan ASML pada tahun berikutnya hanya sekitar €1.4 bilion, atau 2.4% .
Perkembangan ini turut mendedahkan kedudukan geopolitik ASML yang serba sulit. Syarikat Belanda itu berada di antara kawalan eksport yang diketuai Amerika Syarikat dan usaha China untuk mencapai kemandirian teknologi.
Kawalan eksport Amerika Syarikat sudah menghalang ASML daripada menghantar mesin EUV paling canggih ke China. Sekatan terhadap sebahagian peralatan DUV yang lebih lama juga semakin diperketat .
Sebagai tindak balas, China menggunakan pendekatan berbilang hala: membangunkan mesin litografi sendiri, menggabungkan atau “menyusun” cip AI bagi meningkatkan prestasi, dan berkemungkinan mendapatkan peralatan ASML melalui saluran yang tidak dibenarkan .
Terdapat juga laporan bahawa Setiausaha Perdagangan Amerika Syarikat Howard Lutnick mempersoalkan barisan eksekutif kanan ASML berhubung kebimbangan bahawa salah satu sistem EUV syarikat itu mungkin telah sampai ke China, melanggar sekatan eksport .
ASML tidak dapat mengawal ke mana bekas pekerjanya pergi. Pasukan yang membangunkan prototaip EUV di Shenzhen dilaporkan turut mempunyai bekas jurutera ASML. Syarikat itu berkata bekas pekerjanya masih terikat dengan perjanjian kerahsiaan dan ASML pernah mengambil tindakan undang-undang dalam beberapa kes berkaitan pencurian rahsia dagangan .
Kerajaan Belanda pula terus berdepan tekanan Washington untuk mengetatkan lagi sekatan eksport. Akibatnya, ASML berada di tengah-tengah persaingan antara China—yang secara sejarahnya merupakan pasaran penting—dan Amerika Syarikat, sekutu utama Belanda .
Kemajuan DUV China ialah pencapaian besar dalam usaha Beijing mengurangkan pergantungan kepada teknologi asing. Ia juga menjadi cabaran simbolik terhadap dominasi ASML.
Namun, perbandingan skala masih memihak kepada ASML: kira-kira lima mesin China pada tahun ini berbanding ratusan sistem ASML, buku pesanan ASML yang penuh sehingga 2027, serta jurang besar dalam teknologi EUV.
Jadi, kejatuhan sekitar €60 bilion itu mungkin mencerminkan pasaran yang terus menghukum ketidakpastian—bukan kehilangan pendapatan ASML secara serta-merta. Ancaman China adalah nyata dan berpotensi berkembang, tetapi berdasarkan angka pengeluaran serta tahap kebolehpercayaan semasa, ia kelihatan lebih seperti cabaran untuk beberapa tahun akan datang berbanding ancaman yang mampu menggugat ASML dalam masa terdekat.