Namun jurang prestasi dengan ASML masih luas. Reuters dan beberapa penganalisis menekankan bahawa alat China "masih ketinggalan dari segi prestasi dan kebolehpercayaan" dan memerlukan ujian lanjut sebelum sebarang peningkatan volum yang bermakna . Beberapa komponen utama masih diperoleh dari Jepun . Alat-alat ini ketinggalan bertahun-tahun dalam daya pemprosesan, kebolehpercayaan dan hasil berbanding setara ASML .
Saham peralatan cip AS merosot susulan laporan itu apabila ia tersebar pada 27–28 Julai 2026 . Walau bagaimanapun, penganalisis telah merangka penurunan awal sebagai reaksi jangka pendek dan bukannya penilaian semula struktur. Sebabnya mudah: kelebihan daya saing ASML — termasuk monopoli EUV, prestasi siri NXT:1980/2050 dan rangkaian perkhidmatan global — kekal utuh untuk masa hadapan yang boleh dijangka . Jumlah 5–20 unit adalah remeh berbanding pengeluaran tahunan ASML yang mencecah ratusan sistem DUV dan EUV.
China adalah pasaran tunggal terbesar ASML pada 2025, menyumbang 33% daripada jumlah jualan . Tetapi angka itu dinaikkan oleh gelombang pembelian awal menjelang sekatan yang dijangkakan . CFO ASML Roger Dassen memberi panduan bahawa China akan menyumbang kira-kira 20% daripada jualan bersih 2026 . Pada Q1 2026, bahagian China telah menurun kepada 19% daripada 36% pada Q4 2025 . Kejayaan DUV tempatan menambah tekanan menurun sederhana kepada trajektori yang sudah menurun secara mendadak akibat kawalan eksport.
Akta Penjajaran Pelbagai Kawalan Teknologi Perkakasan (MATCH) Act telah diperkenalkan oleh penggubal undang-undang bipartisan AS pada 2 April 2026 . Ia menyasarkan larangan eksport dan perkhidmatan semua sistem litografi DUV immersion ke pengeluar cip China, menutup loophole yang masih membenarkan fab China membeli alat immersion lama ASML . Rang undang-undang itu dikecilkan pada pertengahan April tetapi mengekalkan larangan teras DUV immersion . Ia telah melalui jawatankuasa Dewan Perwakilan AS . Ia termasuk mekanisme yang memerlukan Belanda dan Jepun menyelaraskan kawalan eksport mereka dalam tempoh 150 hari, atau menghadapi penguatkuasaan unilateral AS .
Yang penting, MATCH Act menyasarkan baki jualan dan perkhidmatan DUV immersion ASML di China tanpa mengambil kira sama ada China mempunyai alat sendiri — rasional AS adalah untuk menafikan akses fab China kepada peralatan asing yang lebih unggul walaupun alternatif tempatan muncul . Ini mewujudkan tekanan dua: pengeluar cip China kehilangan akses kepada mesin ASML yang jauh lebih baik pada masa yang sama alat mereka sendiri masih belum matang.
Laporan itu mencetuskan jualan meluas dalam saham peralatan semikonduktor tersenarai AS . Implikasi utama:
Ini adalah pencapaian awam paling signifikan dalam usaha China untuk mencapai sara diri litografi, tetapi jurang antara "pengeluaran besar-besaran terhad" dan daya maju komersial setaraf ASML masih luas. Bagi ASML, tekanan jangka pendek didorong lebih oleh MATCH Act (yang menyasarkan baki jualan DUV China) berbanding pesaing tempatan yang baru lahir . Bahagian hasil China sebanyak 20% untuk 2026 sudah berada di bawah tekanan daripada kawalan eksport; kejayaan tempatan menambah beban tambahan yang sederhana. Sektor peralatan cip yang lebih luas juga menghadapi sentimen negatif, tetapi ancaman struktur masih bertahun-tahun lagi melainkan China dapat meningkatkan hasil dan kebolehpercayaan dengan cepat.