Penafian ASML

ASML menafikan secara mutlak tuduhan itu. Seorang jurucakap syarikat menyatakan ASML tidak pernah menghantar mesin EUV ke China . Syarikat itu juga memberikan dokumentasi kepada pegawai AS dalam usaha membersihkan diri, menunjukkan bahawa mesin EUV bersaiz kira-kira sebuah bas sekolah, dihasilkan dalam kuantiti yang sangat terhad, memerlukan penyelenggaraan tetap di tapak oleh kakitangan ASML, dan sudah tertakluk kepada kawalan eksport ketat yang melarang penjualannya ke China . ASML menyatakan ia "sentiasa terlibat dalam dialog telus dan terbuka dengan pemimpin kerajaan di seluruh dunia" dan memahami serta mematuhi peraturan kawalan eksport AS dan Belanda .

Bukti yang Dipetik oleh Pegawai AS

Bukti khusus yang mendasari kebimbangan AS tidak didedahkan secara terbuka. Bloomberg News, yang melaporkan cerita itu, menyebut perkara itu berdasarkan "orang yang mengetahui perkara itu" tetapi tidak menggambarkan risikan, rekod perkapalan, atau bukti lain yang mendorong campur tangan Lutnick . Laporan awam yang tersedia tidak menyebut pengesahan melihat sistem EUV di China, tiada penghantaran yang dipintas, dan tiada log perkhidmatan yang menunjukkan pemasangan tanpa kebenaran.

Latar belakang yang lebih luas mungkin menjadi asas syak wasangka. Pada Disember 2025, Reuters melaporkan bahawa penyelidik China di Shenzhen telah membina prototaip mesin litografi EUV sebagai sebahagian daripada apa yang digambarkan sebagai "Projek Manhattan" China untuk menyaingi Barat dalam cip AI . Secara berasingan, penganalisis menyatakan bahawa beberapa komponen dwiguna atau kurang terhad yang boleh membantu pembangunan EUV domestik telah menjadi lebih sukar dikesan . Walau bagaimanapun, sama ada perkembangan ini berkaitan dengan tuduhan semasa tidak dapat disahkan.

Konteks Lebih Luas Sekatan Eksport dan MATCH Act

• Larangan EUV sedia ada: Kawalan eksport pimpinan AS sudah melarang ASML menghantar sistem EUV ke China. Tuduhan ini, jika benar, akan menandakan pelanggaran larangan yang telah lama wujud itu .
• Kawalan DUV (semasa): Mesin litografi rendaman ultralembayung dalam (DUV) yang kurang canggih, yang boleh menghasilkan cip hingga nod 7nm, terus mengalir ke China dan merupakan sasaran utama sekatan seterusnya .
• MATCH Act: Pada awal April 2026, sekumpulan penggubal undang-undang AS daripada dua parti telah memperkenalkan Akta Penjajaran Pelbagai Kawalan Teknologi ke atas Perkakasan (MATCH Act) (H.R. 8170) . Peruntukan utama termasuk:

Ringkasnya, MATCH Act bertujuan mengkodifikasi dan meluaskan kawalan eksport cabang eksekutif semasa menjadi undang-undang, menutup kelemahan DUV dan menekan sekutu untuk mengikutinya — sementara tuduhan EUV baharu menunjukkan bahawa larangan paling ketat sekalipun mungkin menghadapi cabaran penguatkuasaan.

Penafian ASML

ASML menafikan secara mutlak tuduhan itu. Seorang jurucakap syarikat menyatakan ASML tidak pernah menghantar mesin EUV ke China . Syarikat itu juga memberikan dokumentasi kepada pegawai AS dalam usaha membersihkan diri, menunjukkan bahawa mesin EUV bersaiz kira-kira sebuah bas sekolah, dihasilkan dalam kuantiti yang sangat terhad, memerlukan penyelenggaraan tetap di tapak oleh kakitangan ASML, dan sudah tertakluk kepada kawalan eksport ketat yang melarang penjualannya ke China . ASML menyatakan ia "sentiasa terlibat dalam dialog telus dan terbuka dengan pemimpin kerajaan di seluruh dunia" dan memahami serta mematuhi peraturan kawalan eksport AS dan Belanda .

Bukti yang Dipetik oleh Pegawai AS

Bukti khusus yang mendasari kebimbangan AS tidak didedahkan secara terbuka. Bloomberg News, yang melaporkan cerita itu, menyebut perkara itu berdasarkan "orang yang mengetahui perkara itu" tetapi tidak menggambarkan risikan, rekod perkapalan, atau bukti lain yang mendorong campur tangan Lutnick . Laporan awam yang tersedia tidak menyebut pengesahan melihat sistem EUV di China, tiada penghantaran yang dipintas, dan tiada log perkhidmatan yang menunjukkan pemasangan tanpa kebenaran.

Latar belakang yang lebih luas mungkin menjadi asas syak wasangka. Pada Disember 2025, Reuters melaporkan bahawa penyelidik China di Shenzhen telah membina prototaip mesin litografi EUV sebagai sebahagian daripada apa yang digambarkan sebagai "Projek Manhattan" China untuk menyaingi Barat dalam cip AI . Secara berasingan, penganalisis menyatakan bahawa beberapa komponen dwiguna atau kurang terhad yang boleh membantu pembangunan EUV domestik telah menjadi lebih sukar dikesan . Walau bagaimanapun, sama ada perkembangan ini berkaitan dengan tuduhan semasa tidak dapat disahkan.

Konteks Lebih Luas Sekatan Eksport dan MATCH Act

• Larangan EUV sedia ada: Kawalan eksport pimpinan AS sudah melarang ASML menghantar sistem EUV ke China. Tuduhan ini, jika benar, akan menandakan pelanggaran larangan yang telah lama wujud itu .
• Kawalan DUV (semasa): Mesin litografi rendaman ultralembayung dalam (DUV) yang kurang canggih, yang boleh menghasilkan cip hingga nod 7nm, terus mengalir ke China dan merupakan sasaran utama sekatan seterusnya .
• MATCH Act: Pada awal April 2026, sekumpulan penggubal undang-undang AS daripada dua parti telah memperkenalkan Akta Penjajaran Pelbagai Kawalan Teknologi ke atas Perkakasan (MATCH Act) (H.R. 8170) . Peruntukan utama termasuk:

Ringkasnya, MATCH Act bertujuan mengkodifikasi dan meluaskan kawalan eksport cabang eksekutif semasa menjadi undang-undang, menutup kelemahan DUV dan menekan sekutu untuk mengikutinya — sementara tuduhan EUV baharu menunjukkan bahawa larangan paling ketat sekalipun mungkin menghadapi cabaran penguatkuasaan.

• Larangan seluruh negara ke atas penjualan peralatan pembuatan semikonduktor "tititik cekik", termasuk alat litografi rendaman DUV dan alat etsa kriogenik, ke mana-mana destinasi dalam negara yang menjadi perhatian (secara langsung menamakan China) .
• Keperluan bahawa negara sekutu seperti Belanda dan Jepun menyelaraskan sekatan eksport mereka dengan peraturan AS dalam tempoh 150 hari, atau hadapi penguatkuasaan unilateral AS melalui Peraturan Produk Langsung Asing yang diperluaskan yang akan memberikan bidang kuasa Washington ke atas mana-mana peralatan yang mengandungi teknologi Amerika .
• Larangan ke atas menyelenggara mesin DUV yang sudah dipasang di China .
• Rang undang-undang itu meluluskan Jawatankuasa Hal Ehwal Luar Dewan pada akhir April 2026 dan dimajukan sebagai sebahagian daripada penetapan tanda yang lebih luas bagi langkah kawalan eksport .
• Beberapa peruntukan dikecilkan sebelum undi jawatankuasa (contohnya, larangan seluruh negara ke atas alat etsa kriogenik digugurkan), tetapi sekatan DUV tetap kukuh .

• Larangan seluruh negara ke atas penjualan peralatan pembuatan semikonduktor "tititik cekik", termasuk alat litografi rendaman DUV dan alat etsa kriogenik, ke mana-mana destinasi dalam negara yang menjadi perhatian (secara langsung menamakan China) .
• Keperluan bahawa negara sekutu seperti Belanda dan Jepun menyelaraskan sekatan eksport mereka dengan peraturan AS dalam tempoh 150 hari, atau hadapi penguatkuasaan unilateral AS melalui Peraturan Produk Langsung Asing yang diperluaskan yang akan memberikan bidang kuasa Washington ke atas mana-mana peralatan yang mengandungi teknologi Amerika .
• Larangan ke atas menyelenggara mesin DUV yang sudah dipasang di China .
• Rang undang-undang itu meluluskan Jawatankuasa Hal Ehwal Luar Dewan pada akhir April 2026 dan dimajukan sebagai sebahagian daripada penetapan tanda yang lebih luas bagi langkah kawalan eksport .
• Beberapa peruntukan dikecilkan sebelum undi jawatankuasa (contohnya, larangan seluruh negara ke atas alat etsa kriogenik digugurkan), tetapi sekatan DUV tetap kukuh .