TSMC 2나노 기술 유출 사건: 전 엔지니어 징역 10년 선고

대만 지식재산 및 상업법원(Intellectual Property and Commercial Court)은 그가 TSMC의 2나노 반도체 공정 관련 영업비밀을 무단으로 취득하고 활용했다고 판단했다.

2나노 공정은 차세대 초미세 반도체 기술로, AI 서버용 칩, 스마트폰 프로세서, 고성능 컴퓨팅(HPC) 칩 등에 사용될 핵심 기술로 평가된다.

수사는 TSMC 내부 보안 시스템이 의심스러운 데이터 접근을 탐지하면서 시작된 것으로 알려졌다.

법원 판결: 최대 10년형

재판 결과 사건에 연루된 총 5명에게 형사 처벌이 내려졌다.

• 천리밍: 국가안보법 위반 등 혐의로 징역 10년 선고
• 다른 엔지니어 3명: 징역 2~6년 선고
• 또 다른 피고인 1명: 징역 10개월, 집행유예 3년

이번 판결은 대만에서 반도체 기술 유출 사건에 내려진 처벌 가운데 가장 강력한 수준 중 하나로 평가된다.

왜 국가안보법이 적용됐나

이번 사건은 단순한 지식재산권 침해가 아니라 대만 국가안보법이 적용됐다.

대만 정부는 첨단 반도체 제조 기술을 **"국가 핵심 핵심기술(national core key technologies)"**로 지정하고 있으며, 무단 유출이나 해외 이전 시 국가안보 범죄로 처벌할 수 있도록 하고 있다.

이번 판결은 대만이 첨단 반도체 기술 유출 사건에 국가안보법을 적용한 첫 사례로 기록됐다.

이는 세계 반도체 공급망에서 TSMC가 차지하는 전략적 중요성을 반영한다. TSMC는 AI 칩과 첨단 모바일 칩 생산에서 글로벌 핵심 기업으로 꼽힌다.

도쿄일렉트론 대만 법인에 벌금

법원은 개인 처벌과 별도로 **도쿄일렉트론 대만 법인(Tokyo Electron Taiwan Ltd.)**에도 책임을 물었다.

• 벌금: 1억5천만 대만달러(약 500만 달러) 부과
• 일부 보도에 따르면 TSMC에 약 1억 대만달러 지급 명령도 내려진 것으로 전해진다.

당국은 기술 유출에 연루된 인물들이 해당 회사의 현지 조직과 관련되어 있었기 때문에 법적 책임을 물은 것으로 보고 있다. 다만 도쿄일렉트론 측은 내부 조사 결과 회사 차원의 조직적 유출은 확인되지 않았다는 입장을 밝힌 바 있다.

사건 진행 과정

공개된 자료에 따르면 사건의 주요 흐름은 다음과 같다.

• 2025년: 검찰이 TSMC 2나노 기술 유출 혐의로 관련 인물들과 도쿄일렉트론 대만 법인을 기소
• 2025년 8월: 무단 기술 취득 및 영업비밀 침해 혐의로 공식 기소 진행
• 2026년 4월: 대만 지식재산 및 상업법원이 판결을 선고

다만 기술 유출 활동이 정확히 얼마나 오랫동안 진행됐는지에 대해서는 공개된 판결 기록에서 명확히 확인되지 않았다.

항소 가능성

이번 판결은 아직 최종 확정 판결은 아니다.

대만 사법 절차에 따라 피고인들은 상급 법원과 **대만 최고법원(Supreme Court)**까지 항소할 수 있다.

현재 보도된 자료에서는 구체적인 항소 이유나 법적 쟁점이 무엇인지까지는 상세히 공개되지 않았다.

왜 전 세계가 주목했나

이번 사건은 단순한 기업 간 분쟁을 넘어 글로벌 반도체 경쟁의 민감성을 보여준다.

• 첨단 반도체 공정 기술은 국가 전략 자산으로 간주되고 있다.
• 각국 정부는 기술 유출을 안보 문제로 다루기 시작했다.
• AI와 차세대 컴퓨팅 경쟁이 치열해지면서 반도체 영업비밀 보호가 지정학적 이슈로 떠오르고 있다.

세계 최첨단 반도체 생산의 중심지인 대만에서 내려진 이번 판결은, 핵심 반도체 기술 유출에 대해 강력한 형사 처벌이 뒤따를 것이라는 신호로 해석된다.