미 전직 당국자들이 ASML의 침지형 심자외선(DUV) 노광 장비를 중국에 판매하지 못하게 하고, 이미 설치된 장비의 정비도 제한하자고 주장하는 이유는 간단합니다. 새 장비 수출만 막아서는 중국 반도체 공장에 이미 들어간 장비가 계속 가동될 수 있다는 겁니다. 이들이 내세우는 근거 중 하나는 중국 소유 반도체 공장들이 2026년 초까지 침지형 DUV 시스템 343대를 확보했을 것이라는 추정입니다. 수십억 달러 규모로 평가되지만, 확인된 공개 재고 목록은 아닙니다.
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DUV 장비가 여전히 중요한 이유
최첨단 칩 생산에는 극자외선(EUV) 노광 장비가 쓰입니다. 중국은 EUV 장비를 확보하지 못했지만, 그렇다고 첨단 칩을 전혀 생산할 수 없는 것은 아닙니다. DUV 장비로 회로를 여러 차례 나눠 새기는 다중 패터닝 기법을 활용하면 7나노급 로직 칩을 만들 수 있습니다. 관련 기술 보고서는 중국 반도체 업체들이 EUV 없이도 이 공정 수준의 칩을 생산했다고 설명합니다.
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전직 당국자들의 우려는 침지형 DUV 장비가 충분히 많이 깔려 있으면 AI와 관련된 칩을 포함해 더 발전된 반도체 생산을 뒷받침할 수 있다는 점입니다. 따라서 기존 장비가 계속 돌아갈 수 있다면 신규 구매만 차단해서는 생산 능력을 빠르게 제한하기 어려울 수 있다는 게 이들의 주장입니다.
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판매뿐 아니라 정비까지 겨냥하는 이유
네덜란드의 현행 수출 통제는 일부 첨단 노광 장비를 수출할 때 허가를 받도록 하고 있습니다. 전직 당국자들이 제안하는 방안은 이보다 범위가 넓습니다. 중국 전역을 대상으로 침지형 DUV 장비 판매를 제한하고, 이미 공장에 설치된 장비의 정비도 막자는 구상입니다. 특정 장비 선적이나 개별 지정 기업에 대한 제한을 넘어서는 접근입니다.
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정비 제한이 거론되는 까닭은 판매 금지만으로는 기존 장비의 유지·가동까지 막기 어렵기 때문입니다. 중국의 주요 메모리 반도체 업체 두 곳이 계획한 생산 능력 확대를 3년간 뒷받침할 만큼 장비를 비축했다는 보도도 나왔습니다. 다만 이 내용은 해당 기업들의 확장 계획을 다룬 것으로, 중국의 모든 반도체 공장이 새 장비나 정비 없이 얼마나 오래 운영될 수 있는지를 보여주는 자료는 아닙니다.
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MATCH Act는 무엇을 바꾸려 하나
MATCH Act는 미국의 수출 제한을 확대하고 네덜란드·일본 등 동맹국의 규정을 미국 기준에 맞추려는 별도의 입법안입니다. 로이터 보도에 따르면 수정된 법안에도 ASML의 침지형 DUV 장비를 중국 전역에서 제한하는 조항이 남아 있습니다. 그러나 법안은 제안 단계이며, 이미 시행 중인 전면 금지 조치는 아닙니다.
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동맹국이 규정을 맞추지 않을 경우 미국이 외국직접생산품규칙(FDPR)을 확대하는 등 자국의 수출 통제 권한을 활용할 수 있다는 보도도 있습니다. 이는 제안된 집행 수단이지, 네덜란드의 협조 없이 미국이 네덜란드 기업에 포괄적인 정비 금지를 자동으로 부과할 수 있다는 뜻은 아닙니다.
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효과를 가를 변수들
금지 조치가 현실화되면 ASML의 중국 사업에도 영향을 줄 수 있습니다. 다만 현재 공개된 매출 수치만으로는 정비 제한이 회사 실적이나 중국의 칩 생산량에 어떤 영향을 줄지 알 수 없습니다. 보도된 ASML 순시스템 매출 가운데 중국 비중은 2026년 1분기 19%, 2분기 14%였습니다.
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중국도 자체 침지형 노광 장비를 개발하고 있습니다. 관련 보도는 진전이 있다고 전하지만, 상용화 속도와 경쟁력은 아직 불확실합니다.
18 자체 장비가 발전하면 장기적으로 수출 제한의 효과를 줄일 수 있지만, 그와 별개로 단기적인 수입 장비 및 정비 제한은 중국의 선택지를 좁힐 수 있습니다.
결국 전직 당국자들의 주장은 ‘이미 쌓인 장비가 많고 정비가 계속된다면 신규 판매만 막아서는 부족할 수 있다’는 데서 출발합니다. 다만 343대는 확정된 재고 수치가 아니고, MATCH Act도 법으로 시행된 전면 금지가 아닙니다. 중국산 장비로의 대체 가능성이나 ASML의 매출 비중만으로는 금지 조치가 중국의 칩 생산 능력을 얼마나, 얼마나 빨리 바꿀지 단정하기 어렵습니다.