중국이 자체 극자외선(EUV) 노광장비를 만드는 시점은 아직 가늠하기 어렵다. 독일 자이스의 반도체 부문 책임자 프랑크 로문트는 중국이 EUV 장비를 개발하는 데 약 15년이 걸릴 수 있다는 추정이 합리적이라고 말했다. UBS는 ASML의 EUV 기술을 대체할 만한 대안이 10년 안에 나오기는 어려울 것으로 봤다. 두 전망은 확정된 일정이 아니며, 가리키는 기술적 목표도 완전히 같지는 않다.
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EUV 개발은 장비 한 대를 만드는 문제만이 아니다
노광장비는 반도체 회로를 웨이퍼에 새기는 데 쓰인다. EUV는 가장 첨단 공정과 관련해 주목받는 기술이며, UBS의 전망은 중국이 ASML의 선도 기술을 대체할 장비를 개발할 수 있을지에 초점을 둔다. 로문트는 중국의 실제 기술 진전을 수치로 평가하기 어렵다며, 15년이라는 기간을 정확한 ‘카운트다운’처럼 받아들여서는 안 된다는 점도 짚었다.
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장비 자체의 설계뿐 아니라 공급망도 과제다. 자이스는 ASML의 EUV 장비에 쓰이는 정밀 광학 부품을 공급하는 핵심 업체다. 따라서 중국의 추격을 평가할 때는 장비 개발과 함께 핵심 부품을 안정적으로 마련할 수 있는지도 살펴봐야 한다.
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DUV는 더 가까운 목표지만 EUV와는 다르다
중국이 상대적으로 먼저 진전을 보일 수 있는 분야는 구세대 기술인 심자외선(DUV) 노광이다. UBS 분석가들은 중국이 침지식 DUV 장비의 대량 생산에 2~5년 안에 도달할 수 있다고 전망한 것으로 전해졌다. 이는 중국 내 장비 생산이 늘어날 수 있다는 예상이지, EUV 기술을 확보하거나 ASML의 최첨단 장비를 대체한다는 뜻은 아니다.
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두 기술의 전망을 구분하는 것이 중요하다. DUV 생산 전망만으로 중국이 EUV 격차를 좁혔다고 결론 내릴 수는 없다. UBS의 평가에서도 DUV와 EUV는 별개의 기술 경로로 다뤄진다.
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수출 통제의 효과는 한 방향만이 아니다
EUV 장비의 대중국 수출은 제한돼 있으며, 일부 첨단 침지식 DUV 장비도 수출 허가 대상이다. 이런 조치는 중국이 해외 장비에 접근하는 데 제약을 주는 한편, 로문트는 통제를 더 확대하면 중국의 자체 혁신을 재촉할 수 있다고 경고했다.
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따라서 수출 통제가 어느 쪽에 장기적으로 유리할지 단정하기는 어렵다. 통제는 장비 접근을 제한할 수 있지만, 자국 기술과 대안을 개발하려는 동기를 키울 가능성도 있다는 게 자이스 측의 경고다. 현재 공개된 전망만으로는 이런 반응이 기술 격차를 얼마나 빠르게 줄일지 알 수 없다.
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AI 수요에 대응해 생산능력 늘리는 자이스
AI 관련 반도체 수요가 커지는 가운데 반도체 광학 부품 공급도 업계의 관심사다. 자이스는 반도체 생산 거점을 확장했고, 다른 사업장에서도 생산능력을 추가하는 작업을 진행 중이라고 밝혔다. 필요하면 생산을 더 늘릴 수 있다는 입장도 전했다.
다만 이는 반도체 광학 부품 수요에 대응한 생산능력 확대다. 중국의 EUV 개발이나 수출 통제에 맞춘 계획이라고 보도된 것은 아니다. 첨단 노광 기술을 둘러싼 경쟁과 함께, 늘어나는 수요에 맞춰 광학 부품을 공급하는 문제도 업계 전망의 한 축이다.
전망을 읽을 때 기억할 점
현재 전망을 간단히 정리하면, 중국은 EUV보다 DUV에서 먼저 진전을 보일 수 있지만, EUV 장비 또는 이를 대체할 만한 기술을 개발하는 데는 10년 이상이 걸릴 수 있다는 평가다. 자이스의 15년은 주요 장비 공급업체 경영진의 판단이고, UBS의 전망은 분석가들의 예측이다. 어느 쪽도 확정된 일정은 아니다.
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자이스의 광학 부품은 ASML의 EUV 공급망에서 중요한 역할을 한다. 수출 통제는 중국의 장비 접근을 제한하는 동시에 자체 개발을 자극할 가능성도 거론된다. 한편 AI와 연관된 수요 증가는 자이스의 생산능력 확대와 맞물려 있다. 이 요인들이 시장에 어떤 영향을 미칠지는 더 지켜봐야 하며, 현재 자료만으로 중국이 언제, 혹은 실제로 현세대 EUV 장비를 따라잡을지 단정할 수는 없다.
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